重庆两江联创电子申请显示模组清洗专利，能够实现对清洗参数实时控制

本文源自:金融界

金融界2025年5月17日消息，国家知识产权局信息显示，重庆两江联创电子有限公司申请一项名为“一种对于显示模组的清洗系统及方法”的专利，公开号CN119972634A，申请日期为2025年2月。

专利摘要显示，本发明提供一种对于显示模组的清洗系统及方法，该系统包括输入组件、转运组件及超声波清洗组件；其中，所述输入组件用于将所述显示模组往所述转运组件上输送。本发明通过履带以倾斜方式将显示模组滑入超声波清洗组件，同时可以实现利用下滑的参数采集“如下滑时间”算显示模组的脏污程度，从而能够实现对清洗参数的实时控制，无需额外的复杂采集分析装置来计算显示模组脏污程度即可实现高效且高质的清洗；另外对于清洗方法的设计也大量节约了清洗操作时间，使得针对不同的显示模组脏污检出情况，具有最适应的清洗应对方法，避免一味地加强清洗程序级别导致处理时间增加、无用耗损增加的问题。

天眼查资料显示，重庆两江联创电子有限公司，成立于2016年，位于重庆市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本100000万人民币。通过天眼查大数据分析，重庆两江联创电子有限公司参与招投标项目7次，专利信息303条，此外企业还拥有行政许可35个。