武汉凡谷申请反射面单元以及具有其的智能反射面专利，有效解决智能反射面实现高频双极化信号反射的相位调控频段范围较窄问题

本文源自:金融界

金融界 2025年6月27日消息，国家知识产权局信息显示，武汉凡谷电子技术股份有限公司申请一项名为“反射面单元以及具有其的智能反射面”的专利，公开号 CN120222034A，申请日期为 2023年12月。

专利摘要显示，本发明提供了一种反射面单元以及具有其的智能反射面，其中反射面单元包括：介质基板中间包含第一金属化过孔和第二金属化过孔；表面结构金属层覆在介质基板表面，表面结构金属层包括外围接地金属结构及中心馈电金属结构，外围接地金属结构包含框体及多个连接在框体的内部并朝向框体中心延伸的第一金属条，中心馈电金属结构位于外围接地金属结构的中心位置；背面接地层覆在介质基板背面并包括金属接地背板和馈电焊盘；每个电气元件连接在外围接地金属结构和中心馈电金属结构之间，相邻的两个电气元件之间设置有一个第一金属条。

天眼查资料显示，武汉凡谷电子技术股份有限公司，成立于1989年，位于武汉市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本68328.5806万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉凡谷电子技术股份有限公司共对外投资了15家企业，参与招投标项目121次，财产线索方面有商标信息33条，专利信息450条，此外企业还拥有行政许可59个。