光迅科技等申请一种分光结构及其制作方法专利，实现插损一致性近乎为0dB的光学特性

本文源自:金融界

金融界2025年6月9日消息，国家知识产权局信息显示，武汉光迅科技股份有限公司、湖北光谷实验室申请一项名为“一种分光结构及其制作方法”的专利，公开号CN120103626A，申请日期为2023年12月。

专利摘要显示，本发明涉及分光器技术领域，特别是涉及一种分光结构及其制作方法，包括：主路直波导以及在所述主路直波导上分出的多条分支波导；所述分支波导与所述主路直波导之间存在分支角度；所述分支波导与所述主路直波导的分叉位置与所述主路直波导的光轴之间存在分支偏置距离；其中，根据所述分支波导上的分光比设置所述分支角度和所述分支偏置距离，以使所述分支波导上具有相应的分光比。由于主路直波导在分支处不改变光路角度，也无弯曲，因此在主路直波导上下一级的分支波导的输入光依然是准对称的单模光场分布。各分支波导的分光比例相互独立，因此可以独立优化控制，很容易实现插损一致性近乎为0dB的光学特性。