【NAURA CVD GO】北方华创高均匀性、大产能12英寸Cygnus系列PECVD设备交付客户

北方华创在PECVD设备领域深耕多年，2012年推出应用于LED领域介质薄膜制备的EPEE 550系列PECVD设备，以其优秀的工艺性能和性价比，在客户端销售近千台。2019年推出应用于功率器件、化合物、MEMS等领域介质薄膜制备的EPEE i200/800系列PECVD设备，为近百家客户提供介质薄膜生长解决方案。2022年推出应用于集成电路领域的Lyra系列12英寸介质薄膜生长PECVD设备，以其优良的工艺结果和设备的高稳定性赢得了多家主流客户的认可。

此次推出的Cygnus系列12英寸等离子体增强化学气相沉积设备，主要用于制备氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、碳氧化硅、碳氮化硅等多种高品质介质薄膜，可满足逻辑、存储和先进封装对钝化层、隔离层、抗反射层、刻蚀停止层等多样化的应用需求。Cygnus采用多站位多步沉积工艺方式可实现高均匀性、高产能，工艺一致性更好、可靠性更高，不仅满足现有逻辑、存储领域对介质薄膜生长的工艺要求，同时解决了大翘曲硅片的传输和工艺均匀性难题，可适用于2.5D/3D三维器件工艺的介质薄膜生长。

北方华创依托逾二十年的技术积淀，在薄膜沉积领域持续探索与突破，积极拓宽各类先进薄膜产品的版图，致力于为客户提供全方位、高品质的薄膜沉积解决方案。北方华创愿携手业界同仁为集成电路产业的高质量发展贡献力量，共同书写中国集成电路产业的新篇章。

（转自：北方华创）