北方华创微电子申请光栅耦合器的加工方法专利，解决目前的光栅耦合器存在耦合效率相对较低的问题

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国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“光栅耦合器的加工方法”的专利，公开号CN 121008360 A，申请日期为2024年5月。

专利摘要显示，本申请公开一种光栅耦合器的加工方法，属于半导体加工技术领域，加工方法包括：提供半导体膜层结构，所述半导体膜层结构包括依次层叠设置的衬底层、刻蚀材料层和第一掩膜层，所述第一掩膜层具有第一预设掩膜图案；在第一刻蚀条件下，刻蚀所述半导体膜层结构，以转移所述第一掩膜层的第一预设掩膜图案至所述刻蚀材料层；在具有所述第一预设掩膜图案的所述刻蚀材料层上形成第二掩膜层，所述第二掩膜层具有第二预设掩膜图案；在第二刻蚀条件下，刻蚀所述半导体膜层结构和所述第二掩膜层，形成光栅耦合器。上述加工方法形成的光栅耦合器可以解决目前的光栅耦合器存在耦合效率相对较低的问题。

天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1251次，财产线索方面有商标信息67条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。

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