上海交大与华测检测申请基于自组装单分子层的石墨烯互连原子层沉积方法专利，可获得大面积、低粗糙度的高质量石墨烯

本文源自:金融界

金融界2025年6月11日消息，国家知识产权局信息显示，上海交通大学;华测检测认证集团股份有限公司申请一项名为“一种基于自组装单分子层的石墨烯互连原子层沉积方法”的专利，公开号CN120119308A，申请日期为2025年03月。

专利摘要显示，本发明公开了一种基于自组装单分子层的石墨烯互连原子层沉积方法，包括对基底进行表面羟基化处理，在基底表面制备自组装单分子层，随后将包覆有自组装单分子层的基底作为电泳阳极，与氧化石墨烯胶体进行电泳沉积，退火还原，获得原子级厚度的石墨烯薄膜。本发明的方法可以使原子级厚度石墨烯在基底上原位成膜，并且由于石墨烯的制备通过自限制反应进行，基底的形状尺寸等性质不会影响所获石墨烯的质量，因此所述制备方法可获得大面积、低粗糙度的高质量石墨烯，适用于集成电路互连领域中的石墨烯互连线或石墨烯扩散阻挡层。