鼎龙股份：公司CMP抛光液产品取得重大进展

来源：上海证券报·中国证券网

上证报中国证券网讯（记者 骆民）鼎龙股份公告，公司控股子公司武汉鼎泽新材料技术有限公司近期在半导体CMP抛光液领域持续取得突破性进展：（1）核心产品斩获头部晶圆厂客户优秀供应商奖项；（2）铜阻挡层抛光液获得新客户批量订单；（3）碳化硅（SiC）衬底抛光液成功落地批量订单，抛光液核心原材料—自研磨料正式切入第三代半导体市场。