京东方华灿光电申请改善键合质量的发光二极管及其制备方法专利，改善绝缘层与基板之间的黏附性

本文源自:金融界

金融界2025年5月28日消息，国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（苏州）有限公司申请一项名为“改善键合质量的发光二极管及其制备方法”的专利，公开号CN120051070A，申请日期为2025年01月。

专利摘要显示，本公开提供了一种改善键合质量的发光二极管及其制备方法，属于光电子制造技术领域。该发光二极管包括外延层和绝缘层，所述外延层具有相反的第一表面和第二表面，所述第一表面具有电极槽和隔离槽，所述隔离槽位于所述第一表面的周边边缘，且环绕所述电极槽，所述电极槽的槽深与所述隔离槽的槽深不同；所述绝缘层位于所述第一表面上、所述电极槽内和所述隔离槽内，位于所述电极槽内的绝缘层的远离所述第二表面的表面，与位于所述隔离槽内的绝缘层的远离所述第二表面的表面平齐。

天眼查资料显示，京东方华灿光电（苏州）有限公司，成立于2012年，位于苏州市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本150000万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（苏州）有限公司参与招投标项目87次，专利信息554条，此外企业还拥有行政许可43个。