苦研技术，南大光电，夺下全球第一！

（来源：浪哥财经）

国内高校，“批量生产”上市公司老总。

紫光集团董事长赵伟国、兆易创新创始人朱一明、豪威集团创始人虞仁荣等，均出身于清华大学。百度李彦宏、新东方俞敏洪则来自隔壁的北京大学。

相较于清北系的“创业天团”，南京大学似乎低调许多。

虽然低调，却不妨碍南大走出一批响当当的企业家，恒瑞医药、天合光能、华海诚科等公司创始人均出身南京大学。另外，南大光电创始人、“中国MO源之父”——孙祥祯，早年也就读于南京大学化学系。

MO源——“易燃易爆炸”

MO源听起来陌生，却是芯片制造中的核心材料。

芯片制造薄膜沉积、刻蚀、光刻三大流程中，MO源主要应用在化学气相沉积环节。将MO源与氨气或其他气体在高温腔室中加热反应后，可在衬底表面生成晶体薄膜，完成薄膜沉积。

这一材料多用在LED芯片、射频芯片中，手机和电视屏幕能不能发光、发什么光，本质上是由MO源种类来决定的。

MO源纯度要求相当高，基本在6N以上，技术把控很严苛。

创始人孙祥祯1989年研发出MO源主要材料三甲基锑，2000年又带领课题组攻克MO源研发，打破海外企业垄断并成功产业化，南大光电由此正式成立。

此外，MO源化学性质活泼，空气中就能自燃，遇水则猛烈爆炸。“易燃易爆炸”的特性，令当时不少公司望而却步。20世纪80年代，科研环境跟今天无法相提并论。MO源研发设备启动时噪音极大，这种条件下创始人孙祥祯依然坚持实验，后面落下右耳失聪的毛病。

埋头苦研技术的精神，令南大光电得到应有回报，2019年南大光电MO源产品市占率达到全球第一。

2021年来，公司含MO源在内的前驱体材料业务，毛利率长期在40%以上，盈利能力比肩芯片设计公司。

2025上半年，南大光电前驱体材料（含MO源）产能为195.95吨、产量为182.53吨，产能利用率攀升至93.15%，是南大光电近几年产能利用率的高峰。中报显示公司还有143吨在建产能，下游市场供不应求。

攻克MO源，只是南大光电前进路上的第一步，后面还有更多挑战，等待公司去征服。

承接“02”专项

进军电子特气

半导体材料位于产业链上游，涵盖光掩模、电子特气、溅射靶材、抛光材料、引线框架等环节，是半导体国产化的关键环节。

拿下MO源的产业化技术后，南大光电将目光转向电子特气。

21世纪初，为了突破半导体核心技术，名为《极大规模集成电路制造装备及成套工艺项目》的“02专项”横空出世，与公司主营业务相契合。2013年，南大光电正式承接“02专项”中高纯特种电子气体的研发与产业化项目。

不负众望，三年时间过去，南大光电具备高纯度砷烷、磷烷产业化能力，将纯度提升至6N级。

又过了三年，2019年10月公司收购山东飞源气体，切入氟类气体领域，真正走上营收增长的“快车道”。山东飞源气体，是当下南大光电淄博子公司的前身。

2019年-2024年，公司电子特气收入以74.1%的年复合增长率，从1.64亿增长到15.06亿。同期，南大光电营收从3.21亿增长至23.52亿元，电子特气是其中主要推动力量。

电子特气业务能实现快速放量，离不开公司的精准布局。

三氟化氮是电子特气需求最大的领域，市场占比多年来维持在20%左右，南大光电精准布局三氟化氮，承接下游市场需求。2025上半年仍有7200吨电子级三氟化氮项目在建，预算总投资额10亿元。

电子特气是晶圆制造中的重要耗材，贯穿芯片制造全过程。

薄膜沉积、刻蚀、光刻都离不开电子特气，高温制造工艺中还需要惰性气体来保护晶圆。近年来半导体领域国产替代的全方位推进，2020-2024年间，国内电子特气市场规模从174增长至262亿元。

加上南大光电自身也很“争气”，研发费用率在2020年一度冲上38.98%。内外双管齐下，公司电子特气业务迅速增长，算是情理之中。

攻坚克难

瞄准ArF光刻胶

南大光电继续在半导体材料领域开疆扩土，这次，公司的目标转向光刻胶。

光刻胶通常以波长分类，从生产难度来说g线＜i线＜KrF光刻胶＜ArF/ArFi光刻胶＜EUV光刻胶。南大光电绕过中低端产品，直接布局了高端ArF光刻胶。

2021年7月，南大光电光刻胶验证完毕，成为国内首个通过ArF光刻胶客户验证的公司。旗下子公司宁波南大光电实力强大，可自主研发光敏剂、功能树脂等原料，实现从光刻胶原材料到配套产品的全部自主化。

从MO源前驱体材料到电子特气研发，再到ArF光刻胶的技术突破。冲在攻坚克难第一线，符合南大光电的一贯作风。

但国内强敌环伺，鼎龙股份、彤程新材、华懋科技等公司同样布局了光刻胶。

2025年3月，鼎龙股份发布公告拟募集资金9.1亿，投资超8亿用于300吨ArF/KrF光刻胶产业化项目建设。2025上半年，公司布局近30款高端光刻胶，超过15款产品已送样给客户验证。

彤程新材ArF光刻胶、KrF光刻胶在2025上半年也陆续通过国内多家客户认证，公司300吨ArF光刻胶和400吨KrF光刻胶计划产能，已有部分建设完成。华懋科技则是依托于徐州博康，间接布局光刻胶业务。

相较于上述3家公司，南大光电的优势在于产品通过验证时间早、全环节自研。2024年公司年报称，ArF光刻胶已经通过下游3家客户验证。

自研虽好，但放量上也得做足功夫。

虽说南大光电2024年ArF光刻胶销售额突破千万级别，但与公司电子特气、前驱体材料的收入规模相比似乎有些不够看了，财报之中也并未显示扩产苗头。

2028年国内光刻胶市场规模可突破150亿，彤程新材、鼎龙股份等公司虎视眈眈，南大光电仍需严阵以待。

总结

从三甲基锑到ArF光刻胶，从自研前驱体材料到进军高端光刻，南大光电在这条路上坚持了20年。

不论是上游半导体材料、设备，还是中游晶圆制造与下游封测环节，半导体领域国产替代正在全面推进。海阔凭鱼跃，天高任鸟飞，屡次率先打破海外垄断、实现技术突破的南大光电，日后有望继续砥砺前行！