飞凯材料：公司IC光刻胶主要用于芯片制造过程中的光刻制程
飞凯材料9月11日在互动平台表示，公司光刻胶产品有两类，一类是应用在面板领域的正性光刻胶和负性光刻胶产品，一类是应用于半导体领域的i-line光刻胶及KrF光刻配套Barc材料光刻胶，其中公司的IC光刻胶主要用于芯片制造过程中的光刻制程。
飞凯材料9月11日在互动平台表示，公司光刻胶产品有两类，一类是应用在面板领域的正性光刻胶和负性光刻胶产品，一类是应用于半导体领域的i-line光刻胶及KrF光刻配套Barc材料光刻胶，其中公司的IC光刻胶主要用于芯片制造过程中的光刻制程。