江丰电子申请WSi合金的微波消解方法专利，有效避免了消解过程中Si的损失

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国家知识产权局信息显示，宁波江丰电子材料股份有限公司申请一项名为“一种WSi合金的微波消解方法”的专利，公开号CN121068569A，申请日期为2025年9月。

专利摘要显示，本发明涉及一种WSi合金的微波消解方法，所述微波消解方法包括如下步骤：将WSi合金粉和复合消解液混合于密闭环境后，先经至少三段微波消解，再经冷却得到试样溶液；所述复合消解液为硝酸和氢氟酸；有效避免了消解过程中Si的损失，采用较少的酸量实现WSi合金的快速充分消解，达到了ICP-OES上机的检测标准，W含量的测定值偏差优选小于0.80wt％以下，Si含量的测定值偏差优选小于1.03wt％以下，解决了现有消解方法用酸量大，溶解不充分导致测试结果偏差大、准确度低的问题。

天眼查资料显示，宁波江丰电子材料股份有限公司，成立于2005年，位于宁波市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本26532.0683万人民币。通过天眼查大数据分析，宁波江丰电子材料股份有限公司共对外投资了52家企业，参与招投标项目72次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息1882条，此外企业还拥有行政许可21个。

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