江丰电子申请一种磁控溅射环件及其制备方法专利，提升对redepo物质的吸附能力

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国家知识产权局信息显示，宁波江丰电子材料股份有限公司申请一项名为“一种磁控溅射环件及其制备方法”的专利，公开号CN121065647A，申请日期为2025年9月。专利摘要显示，本发明涉及一种磁控溅射环件及其制备方法，所述磁控溅射环件包括环状主体和凸结体，所述环状主体包括环体、上肩部平台和下肩部平台；所述上肩部平台与环体的顶部连接且沿朝向环体圆心的方向延伸，所述上肩部平台的上表面设置第一滚花；所述下肩部平台与环体的底部连接且沿朝向环体圆心的方向延伸，所述下肩部平台的上表面设置第一滚花；所述环体的外圆周面设置有凸结体。本发明提供的磁控溅射环件能够提升对redepo物质的吸附能力，减少Particle缺陷和异常放电问题。

天眼查资料显示，宁波江丰电子材料股份有限公司，成立于2005年，位于宁波市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本26532.0683万人民币。通过天眼查大数据分析，宁波江丰电子材料股份有限公司共对外投资了52家企业，参与招投标项目72次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息1882条，此外企业还拥有行政许可21个。

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