捷佳伟创(300724.SZ)：正在研发28nm以下制程所需大型12吋清洗设备

格隆汇11月29日丨有投资者于投资者互动平台向捷佳伟创(300724.SZ)提问，“请问公司向半导体清洗领域扩张的进展如何”，公司回复称，在半导体清洗领域，公司持续向高端清洗设备发展，正在研发28nm以下制程所需大型12吋清洗设备，目前进展顺利，同时公司还在向其他泛半导体领域拓展。