国林科技：公司暂未涉及SAQP技术相关业务

转自：金融界

本文源自:金融界AI电报

金融界4月9日消息，有投资者在互动平台向国林科技提问：SAQP自对准四重曝光对于曝光设备的套刻精度要求较低，但对于侧墙刻蚀、原子层沉积、硬掩模沉积、掩膜图像转移等工艺的精度要求较高。公司的产品是否可以用于saqp技术的相关环节？

公司回答表示：公司暂未涉及相关业务。