国林科技：公司电子级超纯臭氧气体发生器可被广泛用于光刻胶去除和多种清洁应用

【国林科技：公司电子级超纯臭氧气体发生器可被广泛用于光刻胶去除和多种清洁应用】财联社5月30日电，有投资者问，请问公司在光刻胶和光刻机方面有哪些技术和产品？国林科技在互动平台表示，公司电子级超纯臭氧气体发生器可产生高浓度、大流量、高压力的超洁净臭氧，臭氧在电子工业领域可被广泛用于形成CVD和ALD薄膜、氧化物生长、光 刻胶去除和多种清洁应用；公司暂未涉及光刻机业务。