国林科技：薄膜沉积和臭氧清洗设备可应用于GAA工艺

本文源自:金融界

金融界6月11日消息，有投资者在互动平台向国林科技提问：半导体工艺从FinFET到GAA的转变对半导体制造的各个方面都提出了更高的要求，特别是在蚀刻、清洗和CVD/PVD等关键工艺上，需要进行技术的改进和创新，以适应新结构的制造需求。请问公司的产品技术是否有针对gaa工艺结构进行有针对性的研发适配？

公司回答表示：尊敬的投资者，您好。公司薄膜沉积和臭氧清洗设备可以应用于GAA工艺，目前子公司国林半导体营业收入占公司主营业务收入比重较小。感谢您的关注。感谢您的关注。