国林科技：臭氧发生器核心指标之一就是臭氧气体浓度，目前国林产品可以达到400mg/L指标

本文源自:金融界

金融界6月30日消息，有投资者在互动平台向国林科技提问：公司的国外及国内的竞争对手的同类型臭氧产品，其400mg/L及以上的设备已经完全可以用于5nm和3nm制程芯片的生产工艺。请问贵司的400mg/L的臭氧设备具备同等技术水平吗？从技术理论上，是否也能用于5nm和3nm制程芯片？

公司回答表示：尊敬的投资者，您好。臭氧发生器核心指标之一就是臭氧气体浓度，目前国林产品可以达到400mg/L指标。感谢您的关注。