华大九天申请图形生成相关专利，提高版图设计的效率

本文源自:金融界

金融界2025年6月10日消息，国家知识产权局信息显示，北京华大九天科技股份有限公司申请一项名为“一种图形生成方法、装置、存储介质及电子设备”的专利，公开号CN120124575A，申请日期为2025年02月。

专利摘要显示，本申请涉及一种图形生成方法、装置、存储介质及电子设备，涉及半导体封装技术领域，其中方法包括：首先获取集成电路版图中待生成泪滴图形的区域内的凸块和导线的位置；再基于凸块和导线的位置，以及待生成泪滴图形对应的预设角度，确定待生成泪滴图形的顶点位置；然后根据顶点位置，生成泪滴图形。通过应用本申请的技术方案，根据集成电路版图中凸块和导线的位置，按照预设角度的约束自动计算泪滴图形的顶点位置，进而便捷高效地在版图中生成不同尺寸的泪滴图形，提高了版图设计的效率，同时实现了对泪滴图形参数的精确控制，进而达到增强物理强度、改善电气性质的目的，能够满足复杂应用场景的需求。

天眼查资料显示，北京华大九天科技股份有限公司，成立于2009年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本54294.1768万人民币。通过天眼查大数据分析，北京华大九天科技股份有限公司共对外投资了17家企业，参与招投标项目139次，财产线索方面有商标信息165条，专利信息422条，此外企业还拥有行政许可5个。