万华化学申请一种高效除垢剂及其制备方法专利，可去除设备表面附着力较强的垢层

本文源自:金融界

金融界2025年6月2日消息，国家知识产权局信息显示，万华化学集团股份有限公司申请一项名为“一种高效除垢剂及其制备方法”的专利，公开号CN120059861A，申请日期为2023年11月。

专利摘要显示，本发明提供一种高效除垢剂及其制备方法。所述除垢剂包含以下组份：10wt％15wt％的三氟乙酸、2wt％5wt％的去氧胆酸，1wt％3wt％的异硫氰酸酯，1.5wt％3.5wt％的硫代甲酸糠酯，14wt％18wt％的榛子壳粉，20wt％30wt％的乙醇，其余为水。所述除垢剂可去除设备表面附着力较强的垢层，对铁的氧化物、硅的氧化物、硅酸盐、钙镁盐等，清除效率高，且不腐蚀设备表面。