澳柯玛云联申请导电薄膜沉积方法及薄膜沉积腔专利，提高沉积膜层纯度

本文源自:金融界

金融界2025年5月22日消息，国家知识产权局信息显示，青岛澳柯玛云联信息技术有限公司申请一项名为“导电薄膜沉积方法及薄膜沉积腔”的专利，公开号CN120006253A，申请日期为2023年11月。

专利摘要显示，本发明提供一种导电氮化物薄膜沉积方法，通过由沉积步骤及吹扫步骤构成的类ALD工艺，可使形成的膜层较CVD工艺薄，可提高沉积的侧壁覆盖均匀性，且膜厚可控，同时相对ALD工艺来说成膜速率也有大幅提高，同时结合等离子体处理步骤可排出导电氮化物薄膜中的杂质元素，有效提高沉积膜层的纯度，降低导电氮化物薄膜的电阻率，最后得到的导电氮化物薄膜具有良好的侧壁覆盖性、膜厚可控、沉积速率也较佳且薄膜的导电性能也得到大幅提高。

天眼查资料显示，青岛澳柯玛云联信息技术有限公司，成立于2020年，位于青岛市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，青岛澳柯玛云联信息技术有限公司共对外投资了5家企业，专利信息47条，此外企业还拥有行政许可4个。