直击业绩会|拓荆科技：公司设备产线累计流片量已超1.1亿片 持续发力三维集成领域设备领域

《科创板日报》5月10日讯（记者 吴旭光）“2022年，公司研发总投入为3.79亿元，同比增长31.37%；研发投入占营业收入的比例为22.21%，同比降低15.83%，研发投入占比趋于合理化。”拓荆科技董事长吕光泉在5月9日下午举行的业绩说明会上表示。

对此，在业绩会上，吕光泉解释，公司研发投入占比从2021年的38.04%减少至2022年的22.21%，主要是公司2022年公司的收入规模在迅速扩大，绝对值在增加，研发投入金额保持稳定的情况下，导致研发投入占比的增速有所放缓。

吕光泉在业绩会上介绍，在不断推进技术创新的背景下，目前公司产品广泛应用于28纳米以上的逻辑芯片、存储芯片以及先进的封装领域。

拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务，公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。

2022年，拓荆科技PECVD设备实现营业收入15.63亿元，较上年增长131.44 %；该收入占本年总营业收入92%，是公司主要收入来源；2022年，公司ALD设备实现营业收入0.33亿元，较上年增长13.85%；公司SACVD设备实现营业收入0.89亿元，同比增加117.39%。

从公司历年收入结构来看，公司PECVD业务占比在90%左右，且在近年来有所上升。其余SACVD和ALD设备等，合计占比低于10%。

对于拓荆科技PECVD收入占比较高，公司收入结构相对单一的情况，拓荆科技董秘办人士表示，PECVD设备是公司核心产品，收入占比较高，公司也会持续保持该产品在市场中的核心竞争优势。具体从市场规模来看，2022年，全球半导体设备市场规模为1076亿美元，其中，薄膜沉积设备投资额占晶圆制造设备环节的总投资的22%，而PEVCD设备约占薄膜沉积设备市场份额的33%左右，从客观上也决定了拓荆科技PEVCD产品的销售规模。

拓荆科技董秘办人士进一步解释，在PEVCD产品之外，公司也在积极拓展SACVD、ALD等产品。虽然目前从公司产品营收构成上看，SACVD设备、ALD设备收入占比较小，但这两款产品的销售收入增速是在逐年增加。

此外，由于产品收入结构单一，导致拓荆科技存在客户集中度过高的风险。根据公司财报，2022年，拓荆科技前五名客户销售额为11.56亿元，占年度销售总额67.80%。

前述董秘办人士表示，由于集成电路制造行业属于资本和技术密集型，国内外主要集成电路制造商均呈现经营规模大、数量少的行业特征。早在2018年-2021年9月，公司前五大客户主营业务销售金额占当期主营业务收入的比重更高，分别为100.00%、84.02%、83.78%和92.44%，这背后主要是当时国内下游晶圆设备产线较少，公司客户也相对单一，但随着近一年两下游应用市场日趋广泛，公司下游客户也更趋多元化，对前五大客户的销售集中度也有所降低。

谈及公司产品下游应用情况，在业绩会上，吕光泉表示，截至今年3月份，设备产品在客户端产线生产产品的累计流片量已经超过1.1亿片，并进入国内60多条产线，有效支撑了国内晶圆厂的大规模生产，未来几年公司产品的需求量仍以国内晶圆厂的扩产为主。