产品布局逐渐完善 拓荆科技上半年收入实现稳健增长

本报讯 （记者李勇）拓荆科技8月27日晚间披露2024年半年度报告。今年前6个月，公司实现营业收入12.67亿元，同比增长26.22%；实现归属于上市公司股东的净利润1.29亿元，同比增长3.64%。其中，第二季度，拓荆科技实现营业收入7.95亿元，同比增长32.22%，环比增长68.53%。第二季度实现归属于上市公司股东的净利润1.19亿元，同比增长67.43%，环比大增1032.79%。

拓荆科技专注于薄膜沉积设备的研发和产业化应用，凭借多年的自主研发和技术积累，现已拥有多项具有国际先进水平的核心技术，形成了以PECVD（等离子体增强化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）、SACVD（次常压化学气相沉积）、HDPCVD（高密度等离子体化学气相沉积）及超高深宽比沟槽填充CVD薄膜设备系列产品，在集成电路逻辑芯片、存储芯片制造等领域得到广泛应用。

一直以来，拓荆科技在高端半导体专用设备领域持续深耕，并保持着较高的研发强度。报告期内，拓荆科技研发费用3.14亿元，同比增长49.61%。在高研发投入的支持下，拓荆科技持续推进各系列产品的迭代升级，不断拓展新工艺，并加大力度推进新工艺以及新型平台、新型反应腔的验证与产业化应用，持续保持产品核心竞争力，产品布局逐渐完善。

报告期内，在推进产品产业化和各产品系列迭代升级的过程中，拓荆科技均取得重要成果，超高深宽比沟槽填充CVD设备、PE-ALD SiN工艺设备、HDPCVD FSG、HDPCVD STI工艺设备等新产品及新工艺经下游用户验证导入，公司收入同比实现较大幅度增长。

半年报还显示，截至报告期末，拓荆科技发出商品余额31.62亿元，较2023年末发出商品余额19.34亿元增长63.50%，也为公司后续的收入增长奠定了基础。

（编辑 张伟）