拓荆科技需求增长营收41亿增51.7% 设备反应腔出货超1000个创新高

长江商报消息 ●长江商报记者 江楚雅

深耕高端半导体专用设备领域的拓荆科技（688072.SH）业绩稳健。

2月27日，拓荆科技披露2024年度业绩快报，2024年公司实现营业收入41.03亿元，同比增长51.7%；净利润6.88亿元，同比增长3.91%；扣非净利润3.56亿元，同比增长14.2%。业绩增长的主要原因包括市场需求增长、新产品及新工艺订单实现收入转化，以及在手订单增加、业务规模扩大。

值得一提的是，2024年，拓荆科技出货超过1000个设备反应腔，创公司历史年度新高。不仅满足了国内外客户的需求，还进一步巩固了公司在半导体设备市场的领先地位。

拓荆科技始终持续保持高强度的研发投入。2021年至2023年，拓荆科技研发费用分别为2.88亿元、3.79亿元和5.76亿元。2024年前三季度，拓荆科技研发费用4.81亿元，同比增长35.73%。近四年研发费用累计17.24亿元。

深耕高端半导体业绩稳健

随着半导体市场的持续增长和国内政策的大力支持，在半导体领域深耕多年的拓荆科技凭借其在技术、产品、市场等方面的综合优势，实现了业绩的快速增长。

2月27日，拓荆科技披露2024年业绩快报，2024年公司实现营业收入41.03亿元，同比增长51.7%；净利润6.88亿元，同比增长3.91%；扣非净利润3.56亿元，同比增长14.2%。

财报显示，拓荆科技2024年的业绩增长主要得益于市场需求的持续增长和公司新产品及新工艺订单的陆续实现收入转化。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机并称为芯片制造三大主设备，随着全球半导体市场的不断扩大和国内集成电路行业的快速发展，拓荆科技的产品和服务受到了市场的广泛认可。

值得一提的是，拓荆科技在2024年出货超过1000个设备反应腔，创年度新高。这一成绩的取得，不仅彰显了公司在生产能力和供应链管理方面的优势，也为公司的未来发展提供了有力的保障。

拓荆科技自2010年成立以来一直专注于高端半导体设备领域，逐步形成了三大类半导体薄膜设备产品系列（PECVD设备、ALD设备及沟槽填充系列设备），后续拓展了混合键合设备。

经过十余年的创新发展，公司PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充CVD、混合键合等设备产品陆续通过客户验证，进入客户量产线，并不断扩大量产规模。

加码创新研发提升竞争力

作为国内高端半导体设备领域的领军企业，拓荆科技形成了一系列具有自主知识产权的核心技术，并达到国际先进水平。2024年，公司成功研发并量产了多款新产品和新工艺，进一步巩固了公司在半导体领域的领先地位。同时，公司还积极拓展国内外市场，与众多知名半导体企业建立了长期稳定的合作关系。

近年，拓荆科技持续加大研发费用，推动产品和技术的不断升级。数据显示，2021年至2023年，拓荆科技研发费用分别为2.88亿元、3.79亿元和5.76亿元。2024年前三季度，拓荆科技研发费用4.81亿元，同比增长35.73%。近四年研发费用17.24亿元。

截至2024年半年度末，拓荆科技研发人员数量达506人，同比增加102人，研发人员数量占拓荆科技总人数的比例为40.38%。

据了解，截至2024年6月30日，拓荆科技累计申请专利1279项（含PCT）、获得专利402项。其中，拓荆科技上半年新增申请专利74项（含PCT）、新增获得专利45项。

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