拓荆科技（上海）取得薄膜沉积装置专利，确保双侧腔室内压力恒定提升薄膜厚度均匀性

本文源自:金融界

金融界2025年4月21日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司取得一项名为“39755.薄膜沉积装置”的专利，授权公告号 CN222770951U ，申请日期为 2024 年 7 月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种薄膜沉积装置，其包括腔体，所述腔体包括第一腔室和第二腔室，所述薄膜沉积装置还包括：第一调压组件，所述第一调压组件包括第一调压管路，所述第一调压管路与所述第一腔室的排气口连接，用于对所述第一腔室进行调压；第二调压组件，所述第二调压组件包括第二调压管路，所述第二调压管路与所述第二腔室的排气口连接，用于对所述第二腔室进行调压。本实用新型通过第一调压管路和第二调压管路分别对第一腔室和第二腔室进行调压，从而确保了双侧腔室内的压力恒定，提升了薄膜厚度的均匀性。

天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本135253.79万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目19次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息245条，此外企业还拥有行政许可28个。