拓荆科技申请一种穿腔块结构及应用其的薄膜沉积设备专利，使穿腔块结构快速适应工艺需求变化

本文源自:金融界

金融界2025年6月24日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司申请一项名为“一种穿腔块结构及应用其的薄膜沉积设备”的专利，公开号CN120193259A，申请日期为2025年03月。

专利摘要显示，本发明公开了一种穿腔块结构及应用其的薄膜沉积设备，穿腔块结构包括第一穿腔块、第二穿腔块以及通气组件，第一穿腔块和第二穿腔块上下设置，通气组件具有至少两个，且至少两个通气组件能够替换地设置于第一穿腔块和第二穿腔块之间；其中每个通气组件上具有不同数量的通道。在具体的使用过程汇中，当改变气体种类或者液态前驱体时，本发明通过更换不同通道数量的通气组件，使的穿腔块结构快速适应工艺需求变化，解决了传统的一体式穿腔块结构无法满足多样性的工艺需求的技术问题，同时降低了成本，缩短了生产周期。

天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本143253.79万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目20次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息258条，此外企业还拥有行政许可29个。