拓荆科技取得用于横流结构的扩散器及半导体处理设备专利，提供用于横流结构的扩散器及半导体处理设备

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国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司取得一项名为“用于横流结构的扩散器以及半导体处理设备”的专利，授权公告号CN223607360U，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本实用新型提供了用于横流结构的扩散器以及半导体处理设备。所述扩散器包括进气模块及扩散本体。所述进气模块包括第一进气通道以及围绕所述第一进气通道设置的第二进气通道；所述扩散本体具有上层通道、下层通道、第一组流气通道以及与第二组流气通道；所述上层通道与所述第二进气通道连通，所述下层通道与所述第一进气通道连通；所述第一组流气通道包括多个竖直排布的流气通道，与所述下层通道连通；所述第二组流气通道包括多个竖直排布的流气通道，与所述上层通道连通。

天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本143253.79万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目31次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息339条，此外企业还拥有行政许可40个。

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