晶合集成获得实用新型专利授权：“刻蚀槽系统”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示晶合集成（688249）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“刻蚀槽系统”，专利申请号为CN202521085983.3，授权日为2026年5月26日。

专利摘要：本实用新型涉及一种刻蚀槽系统，涉及半导体制备技术领域，该刻蚀槽系统包括刻蚀槽体以及多个调节装置。其中刻蚀槽体用于放置刻蚀液，调节装置位于刻蚀槽体外侧，并与刻蚀槽体的侧壁连接，以调节刻蚀槽体的水平度。至少两个调节装置相对设置，可以相对的方向上调节刻蚀槽体，保证刻蚀槽体水平。调节装置包括检测组件以及调节组件，其中调节组件基于检测组件检测出的刻蚀槽体的水平度来调整刻蚀槽体，使其保持水平。该刻蚀槽系统中的调节装置可以实时的调整刻蚀槽体的水平度，保证了刻蚀槽系统的刻蚀均匀度和稳定性，进一步提高了产品的质量。

今年以来晶合集成新获得专利授权209个，较去年同期增加了50.36%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了14.53亿元，同比增13.2%。

通过天眼查大数据分析，合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了12家企业，参与招投标项目644次；财产线索方面有商标信息75条，专利信息1665条，著作权信息12条；此外企业还拥有行政许可26个。

数据来源：天眼查APP

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