兴福电子取得硅片清洗蚀刻液及其抑制硅片表面氧化应用专利
本文源自:市场资讯
国家知识产权局信息显示,湖北兴福电子材料股份有限公司取得一项名为“硅片清洗蚀刻液及其在抑制硅片表面氧化中的应用”的专利,授权公告号CN 119799338 B,申请日期为2024年12月。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
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国家知识产权局信息显示,湖北兴福电子材料股份有限公司取得一项名为“硅片清洗蚀刻液及其在抑制硅片表面氧化中的应用”的专利,授权公告号CN 119799338 B,申请日期为2024年12月。
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