合肥埃科光电申请缺陷检测控制方法、系统及介质专利，能够快速有效识别出待测物正常区域和非连续区域

本文源自:金融界

金融界2025年5月2日消息，国家知识产权局信息显示，合肥埃科光电科技股份有限公司申请一项名为“一种缺陷检测控制方法、系统及介质”的专利，公开号CN119902362A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种缺陷检测控制方法、系统及介质，控制方法包括：判断激光影像质心是否属于质心阈值范围；分析第一正常信号对应的激光能量是否属于能量阈值范围；采集第二正常信号对应的激光影像，提取各列方向上的最大像素值并形成列最大值合集曲线，以反映激光影像行方向上的亮度变化趋势；分析列最大值合集曲线中是否存在连续宽度超过宽度阈值的峰，若是，则控制对焦设备继续对焦，若否，则控制对焦设备结束对焦。本发明能够快速有效识别出待测物正常区域和非连续区域，从而针对待测物非连续区域快速精准地实现停止对焦，无需提前了解待测物相对于对焦设备的位置，适用范围更加广泛。

天眼查资料显示，合肥埃科光电科技股份有限公司，成立于2011年，位于合肥市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本6800万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥埃科光电科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目18次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息297条，此外企业还拥有行政许可12个。