四方光电申请气体传感器用陶瓷基片和气体传感器专利，实现稳定的加热功能和信号传输功能

本文源自:金融界

金融界2025年6月25日消息，国家知识产权局信息显示，四方光电股份有限公司申请一项名为“气体传感器用陶瓷基片和气体传感器”的专利，公开号CN120191108A，申请日期为2023年12月。

专利摘要显示，本申请涉及气体传感器领域，尤其是涉及一种气体传感器用陶瓷基片和气体传感器，包括基片和装配了基片的传感器，其中基片主要是通过氧化锆和氧化钇形成钇稳定氧化锆或钇部分稳定氧化锆的化合物制作而成，这种基片相较于相关技术的基片而言更加稳定，更加适用于MEMS气体传感器，装配了本申请基片的气体传感器由基片、第一绝缘层、第一过渡层、加热器线路层、第二过渡层、第二绝缘层以及气敏膜组合而成，这一组合能够有效地保障本申请的气体传感器实现稳定的加热功能和信号传输功能。本申请相较于相关技术中的MEMS气体传感器，更加稳定，更具有实用性。

天眼查资料显示，四方光电股份有限公司，成立于2003年，位于武汉市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本7000万人民币。通过天眼查大数据分析，四方光电股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目63次，财产线索方面有商标信息23条，专利信息211条，此外企业还拥有行政许可35个。