拉普拉斯新能源申请等离子体增强化学气相沉积装置专利，使处理空间内的等离子体均匀分布

本文源自:金融界

金融界2025年4月30日消息，国家知识产权局信息显示，拉普拉斯新能源科技股份有限公司申请一项名为“等离子体增强化学气相沉积装置”的专利，公开号CN119876915A，申请日期为2025年3月。

专利摘要显示，本申请实施例涉及镀膜技术领域，并提供一种等离子体增强化学气相沉积装置。该等离子体增强化学气相沉积装置包括反应腔体、间隔且交替地布置在反应腔体内的激励电极板和接地电极板、与反应腔体连接并用于向处理空间提供反应气体的气体提供组件、与激励电极板的边缘连接并用于在处理空间内产生等离子体放电的至少一个射频发生器以及至少一个介电层。每相邻的激励电极板和接地电极板之间形成有处理空间。至少一个介电层位于激励电极板或接地电极板的朝向处理空间的表面上，介电层具有不均匀的单位面积电容，以使处理空间内的等离子体均匀分布。

天眼查资料显示，拉普拉斯新能源科技股份有限公司，成立于2016年，位于深圳市，是一家以从事电力、热力生产和供应业为主的企业。企业注册资本40532.6189万人民币。通过天眼查大数据分析，拉普拉斯新能源科技股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目53次，财产线索方面有商标信息116条，专利信息611条，此外企业还拥有行政许可44个。