拓荆科技：招商证券股份有限公司关于拓荆科技股份有限公司2023年度持续督导跟踪报告

招商证券股份有限公司关于拓荆科技股份有限公司2023年度持续督导跟踪报告拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆科技”或“公司”）于2022年4月20日在上海证券交易所科创板上市。招商证券股份有限公司（以下简称“招商证券”或“保荐机构”）作为拓荆科技持续督导工作的保荐机构，根据《证券发行上市保荐业务管理办法》《上海证券交易所科创板股票上市规则》《上海证券交易所上市公司自律监管指引第11号——持续督导》等相关规定，负责拓荆科技上市后的持续督导工作，并出具本持股督导年度跟踪报告。

一、持续督导工作情况

二、保荐机构对公司信息披露审阅的情况

保荐机构持续督导人员对公司2023年度的信息披露文件进行了事先或事后审阅，包括股东大会会议决议及公告、董事会会议决议及公告、监事会会议决议及公告、募集资金使用和管理的相关报告和其他临时公告等文件，对信息披露文件的内容及格式、履行的相关程序进行了检查。

经核查，保荐机构认为，拓荆科技严格按照证券监督部门的相关规定进行信息披露，依法公开对外发布各类定期报告或临时报告，确保各项重大信息的披露真实、准确、完整、及时，不存在虚假记载、误导性陈述或者重大遗漏。

三、保荐机构和保荐代表人发现的问题及整改情况

2023年度，保荐机构和保荐代表人未发现拓荆科技存在重大问题。

四、重大风险事项

公司面临的主要重大风险事项如下：

（一）核心竞争力风险

随着半导体行业技术的发展和迭代，下游客户对半导体设备及性能的需求也随之变化。因此，公司需要持续保持较高的研发投入，保持产品的核心竞争力和先进水平。如果公司未来未能准确理解下游客户的产线设备及工艺技术演进需求，或者技术创新产品不能契合客户需求，可能对公司的经营业绩造成不利影响。

（二）经营风险

1、产品验收周期较长风险

薄膜沉积设备所沉积的薄膜技术参数直接影响芯片性能。生产中不仅需要在成膜后检测薄膜厚度、均匀性、光学系数、机械应力及颗粒度等性能指标，还需要在完成晶圆生产流程及芯片封装后，对最终芯片产品进行可靠性和生命周期测试，以衡量薄膜沉积设备是否最终满足技术标准。因此，晶圆厂对薄膜沉积设备所需要的验证时间较长。同时，由于公司开发并推出更多新产品、新工艺，这些新产品和新工艺的验收周期相较成熟产品略长，导致公司的收入确认和回款将有所延迟，增加公司的资金压力，影响公司的财务状况。

随着公司产品在集成电路制造产线的应用规模逐步扩大，公司新平台、新工艺产品技术日益成熟，以及公司与客户高效稳定的合作下，产品的验证周期将呈缩短趋势。公司将持续关注公司的产品验证和回款情况，保证公司经营持续健康发展。

2、市场竞争风险

目前公司的竞争对手主要为国际知名半导体设备制造商，与中国大陆半导体专用设备企业相比，国际巨头企业拥有客户端先发优势，公司的综合竞争力处于弱势地位，市场占有率较低。另外，国内半导体设备厂商也进入公司业务领域开发部分同类产品。公司面临国际巨头以及潜在国内新进入者的双重竞争。如果公司无法有效应对市场竞争环境，则公司的行业地位、市场份额、经营业绩等均会受到不利影响。

3、技术创新风险

随着半导体行业技术的发展和迭代，下游客户对薄膜沉积设备及性能的需求也随之变化。因此，公司需要持续保持较高的研发投入，保持产品的核心竞争力和先进水平。如果公司未来未能准确理解下游客户的产线设备及工艺技术演进需求，或者技术创新产品不能契合客户需求，可能导致公司设备无法满足下游产线生产制造需要，将可能对公司的经营业绩造成不利影响。

公司建立了科学的研发体系，技术创新紧跟市场需求，研发立项以客户需求为导向，始终与客户保持持续有效沟通，以避免可能的技术研发失败给公司带来损失。

4、晶圆厂扩产不及预期的风险

下游晶圆厂产能规模决定了半导体专用设备的市场空间。晶圆厂的扩产投资具有一定的周期性。如果下游晶圆厂的投资强度持续降低，公司将面临市场需求下降的风险，对于公司的经营业绩会造成不利影响。

5、供应链安全风险

近年来，复杂的国际形势加剧了全球供应链的不稳定性。目前，公司的部分零部件暂时仍然需要向国外供应商采购。如果国际贸易摩擦进一步加剧，可能出现上述国外供应商受相关政策影响减少或者停止对公司零部件的供应，可能会影响公司产品生产能力、生产进度和交货时间，降低公司的市场竞争力。

（三）财务风险

1、政府补助政策变动风险

公司在2023年收到的政府补助主要是对公司研发投入的支持。如果公司未来不能持续获得政府补助，或政府补助显著降低，公司将需要投入更多自筹资金用于研发，进而影响公司现金流。此外，政府补助的减少，也会对公司的经营业绩产生一定的不利影响。

2、税收优惠风险

公司为高新技术企业，2023年度公司享受高新技术企业所得税的优惠，如果国家上述税收优惠政策发生变化，则可能面临因税收优惠减少或取消而降低盈利的风险。

（四）行业风险

半导体行业受半导体技术迭代、终端消费市场需求影响，呈现周期性波动。如果下游终端市场需求或发展不及预期、终端消费供需结构变化较大时，下游晶圆厂会调整其资本性支出规模和设备采购量，从而对公司经营情况产生影响。

（五）宏观环境风险

半导体设备行业易受全球经济形势波动影响，如果未来宏观经济发展乏力，将影响半导体设备的市场需求量，从而对半导体设备行业的发展带来波动风险。

全球半导体产业已形成高度垄断格局，近年来，存在部分国家在强项领域设置贸易壁垒。如果国际形势进一步恶化，贸易摩擦进一步加剧，可能会对我国半导体产业的发展带来不利影响。公司始终严格遵守各国法律，并持续关注国际贸易形势和行业发展趋势变化，提前制定防范措施。

五、重大违规事项

2023年度，公司不存在重大违规事项。

六、主要财务指标的变动原因及合理性

2023年度，公司经审计的主要财务数据及指标如下所示：

（一）主要财务数据

单位：万元人民币

注：公司自2023年1月1日起执行财政部颁布的《企业会计准则解释第16号》“关于单项交易产生的资产和负债相关的递延所得税不适用初始确认豁免的会计处理”规定,对在首次执行该规定的财务报表列报最早期间的期初至2023年1月1日之间发生的适用该规定的单项交易进行调整。对在首次执行该规定的财务报表列报最早期间的期初因适用该规定的单项交易而确认的租赁负债和使用权资产,以及确认的弃置义务相关预计负债和对应的相关资产产生应纳税暂时性差异和可抵扣暂时性差异的，按照该规定和《企业会计准则第18号所得税》的规定，将累积影响数调整财务报表列报最早期间的期初留存收益及其他相关财务报表项目。

（二）主要财务指标

注：根据2023年第三次临时股东大会决议，公司以权益分派实施前的总股本126,478,797股为基数，以资本公积向截至股权登记日（2023年9月27日）收市在册的全体股东每股

转增0.48股。本次资本公积转增股本实施完毕后，公司总股本为187,188,620股，按调整后的股数重新计算基本每股收益、稀释每股收益。

（三）变动合理性分析

（1）公司营业收入持续高速增长。2018年至2023年复合增长率达到107.31%。受益于公司持续高强度的研发投入，在推进产业化和迭代升级各产品系列的过程中取得了重要成果，报告期营业收入达到270,497.40万元，同比增长58.60%，再创历史新高。公司持续拓展PECVD、ALD、SACVD三大系列产品工艺应用领域，获得逻辑芯片、存储芯片等领域现有客户重复订单及新客户订单，2023年新增销售订单及年末在手销售订单持续增加，为后续业绩的增长提供了有力保障。

（2）公司2023年归属于上市公司股东的净利润66,258.38万元，同比增长

79.82%，2021年至2023年复合增长率达到211.04%，归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润31,211.97万元，同比增长75.29%。主要原因为：公司不断优化产品结构，经营规模快速增长，规模效应逐步凸显，本期研发投入57,594.89万元，同比增长52.07%，持续的高强度研发投入，使公司整体营业收入、盈利能力大幅提升。

（3）公司2023年经营活动产生的现金流量净额-165,734.27万元，主要系公司业务增长带来的材料采购备货、发出商品增加，购买商品、接受劳务支付的现金增加。

（4）公司2023年末总资产996,934.53万元,同比增长36.31%，主要系业务规模扩大，资产总额增加。

（5）2023年基本每股收益、稀释每股收益、扣除非经常性损益后的基本每股收益比上年同期分别增长64.65%、64.49%、60.58%，主要系公司营业收入增长、净利润增加。

七、核心竞争力的变化情况

2023年度，公司的核心竞争力未发生不利变化。公司建立了创新管理体制，形成了多项国际先进的核心技术，并在研发团队、技术积累和研发平台、市场拓展和售后服务等方面形成竞争优势，具体体现为：

（一）具有丰富的技术储备及国际先进的核心技术优势

公司通过自主研发，形成了一系列独创性的设计，构建了完善的知识产权体系并取得了多项自主知识产权。截至2023年末，公司累计申请专利1205项，获得授权专利360项，其中发明专利190项。公司先后承担了多项国家重大专项/课题，研发并推出的支持不同工艺型号的PECVD、ALD、SACVD和HDPCVD薄膜系列设备均已在客户端实现量产，在半导体薄膜沉积设备领域积累了多项研发及产业化的核心技术，构建了具有设备种类、工艺型号外延开发能力的研发平台，性能达到了国际同类设备水平。

公司面向国内半导体制造产业的实际需求和产线演进节奏，研制并推出了应用于晶圆级三维集成领域的混合键合设备。公司未来将坚持高强度的研发投入，持续迭代升级、优化现有设备和工艺，不断推出面向未来发展需求的新工艺、新设备。

（二）优秀的技术研发及管理团队优势

公司已经建成了一支国际化、专业化的高端半导体专用设备技术研发及管理团队。公司立足核心技术研发，积极引进资深专业人才、自主培养科研团队。

公司国际化专业化的高级管理团队、员工的股权激励机制及具有竞争力的薪酬福利，吸引了大量具有丰富经验的国内外半导体设备行业人才加入公司，在整机设计、工艺开发、软件设计等方面做出突出贡献。公司自设立以来，自主培养本土科研团队，随着多项产品的研发成功，公司本土科研团队已成长为公司技术研发的中坚力量。截至2023年末，公司研发人员共有484名，占公司员工总数的45.23%，研发人员中博士研究生28人，占比约5.79%，硕士研究生263人，占比约54.33%。公司的研发技术团队结构合理，分工明确，专业知识储备深厚，产线验证经验丰富，是奠定公司技术实力的基石，保障了公司产品的市场竞争力。报告期内，公司核心技术团队稳定，不存在重大不利变化。

（三）领先的行业地位及丰富的客户资源优势

公司以“建立世界领先的薄膜设备公司”为愿景，通过在薄膜沉积设备这一半导体核心设备细分领域的技术积累和快速发展，已经成为国内半导体设备行业的领军企业。

公司已与国内半导体行业企业形成了较为稳定的合作关系。公司PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等设备已批量发往国内集成电路晶圆厂产线。此外，公司积极拓展海外市场，已出货1台PECVD设备至海外，未来将持续推进开拓海外市场。

（四）稳定的供应链及较低的运营成本优势

公司建立了完善的供应链管理体系，吸纳积累全球范围内的供应链资源，与关键供应商建立战略合作关系，搭建了稳定的供应链结构。通过对供应商进行阶段性的评估与考核，鼓励供应商在产品质量、交货期和成本控制等方面进行改善，从而提高企业竞争力。公司与供应商实时互动，协同产品创新，保持良好稳定的合作关系。

公司的主要竞争对手均位于国外，服务中国大陆客户的成本较高。公司的研发和生产主要位于中国大陆，拥有区位优势。在产品设计方面，公司通过与供应商密切合作，使产品具有模块化、易维护的特点，从而降低公司原材料采购成本。随着上游供应商的快速发展，给予了公司更多的采购选择。因此，公司相比其主要竞争对手在运营成本方面具有一定优势，随着产能的不断提升，降本优势将更加明显。

（五）提供定制化产品及高效的售后服务优势

公司针对客户提出的特定工艺材料、特定制造工序薄膜性能的快速响应能力可以及时满足客户产线的客制化设备需求，这对下游晶圆制造厂能够快速扩充产能极其重要，由此建立和巩固与客户稳定的合作关系。公司主要客户的生产基地位于中国大陆，相较于国际竞争对手，公司管理和技术团队更贴近主要客户，能够提供高效的技术支持和售后服务，及时保障和满足客户需求。

八、研发支出变化及研发进展

（一）研发投入情况表

公司不断丰富产品种类，拓展工艺应用领域，持续保持高强度的研发投入，2023年度研发投入57,594.89万元，同比增长52.07%，主要系股份支付费用及研发人员薪酬增加。2023年度研发投入总额占营业收入比例为21.29%，较上年度减少0.92个百分点，主要为报告期营业收入的大幅增加。具体如下：

单位：元

（二）研发成果

公司始终在高端半导体专用设备领域深耕，并专注于薄膜沉积设备的研发与产业化。2023年，公司获批承担2项国家重大专项。截至2023年末，公司已先后累计承担9项国家重大专项/课题。

2023年度，根据国家发展和改革委员会等多部门发布的《关于印发2023年（第30批）新认定及全部国家企业技术中心名单的通知》，公司被认定为2023年（第30批）国家企业技术中心，国家企业技术中心是我国企业技术中心评定级别的最高等级，其评价指标体系从创新人才、技术积累、创新效益等多维度对企业技术中心进行综合评定。公司被认定为国家企业技术中心，是对公司技术创新能力和自主研发能力的充分肯定，也是公司科研能力和综合能力的体现。

公司拥有多项自主知识产权和核心技术。截至报告期末，公司累计申请专利1205项（含PCT）、获得专利360项；报告期内，公司新增申请专利330项（含PCT）、新增获得专利155项。

2023年度，公司获得的知识产权情况列表如下：

注1：上表“其他”指PCT申请数量；注 2：上表“累计数量”中“申请数”包含已失效专利，“获得数”不包含已失效专利。

九、新增业务进展是否与前期信息披露一致

不适用。

十、募集资金的使用情况及是否合规

根据中国证券监督管理委员会出具的《关于同意拓荆科技股份有限公司首次公开发行股票注册的批复》（证监许可〔2022〕424号），公司首次向社会公开发行人民币普通股3,161.98万股，每股面值人民币1.00元，每股发行价为人民币71.88元，共募集资金人民币227,283.12万元，扣除发行费用14,523.40万元（不含税），募集资金净额为人民币212,759.73万元。前述募集资金到位情况经天健会计师事务所（特殊普通合伙）验证，并出具了《验资报告》（天健验[2022]139号）。截至2023年12月31日，公司募集资金专户余额为人民币122,362.62万元。公司首次公开发行股票募集资金使用与结存情况如下表：

单位:人民币万元

截至2023年12月31日，公司募集资金存储情况如下：

单位：人民币元

2023年度，公司募集资金存放与使用情况符合《上海证券交易所科创板股票上市规则》《上市公司监管指引第2号——上市公司募集资金管理和使用的监管要求》《上海证券交易所上市公司自律监管指引第1号——规范运作》以及公司《募集资金管理办法》等法律法规和制度文件的规定，对募集资金进行了专户存储和专项使用，并及时履行了相关信息披露义务，募集资金具体使用情况与公

司已披露情况一致，不存在变相改变募集资金用途和损害股东利益的情况，不存在违规使用募集资金的情形。

十一、控股股东、实际控制人、董事、监事和高级管理人员的持股、质押、冻结及减持情况

截至2023年12月31日，拓荆科技无控股股东和实际控制人，公司第一大股东国家集成电路产业投资基金股份有限公司持有公司37,180,198股股份，持股比例为19.76%。截至2023年12月31日，公司部分董事、监事、高级管理人员直接持有公司股份，具体情况如下：

注：张孝勇、周坚、孙丽杰离任副总经理或核心技术人员后，仍在拓荆科技或子公司任职。本表格统计截至2023年12月31日直接持股情况情况。截至2023年12月31日，公司董事（2024年1月离任）、核心技术人员姜谦及其一致行动人吕光泉、刘忆军、凌复华、吴飚、周仁、张先智、张孝勇以及共青城芯鑫和投资合伙企业（有限合伙）（以下简称“芯鑫和”）、共青城芯鑫全投资合伙企业（有限合伙）（“芯鑫全”）、共青城芯鑫龙投资合伙企业（有限合伙）（“芯鑫龙”）、共青城芯鑫成投资合伙企业（有限合伙）（“芯鑫成”）、共青城芯鑫旺投资合伙企业（有限合伙）（“芯鑫旺”）、共青城芯鑫盛投资合伙企业（有限合伙）（“芯鑫盛”）、共青城芯鑫阳投资合伙企业（有限合伙）（“芯鑫阳”）、沈阳盛腾投资管理中心（有限合伙）、沈阳盛旺投资管理中心（有限合伙）、沈阳盛全投资管理中心（有限合伙）、沈阳盛龙投资管理中心（有限合伙）合计持有公司股份21,368,965股。其中，芯鑫和、芯鑫全、芯鑫龙、芯鑫成、芯鑫旺、芯鑫盛、芯鑫阳存在股份质押情况，具体如下：

十二、上海证券交易所或保荐机构认为应当发表意见的其他事项截至本持续督导跟踪报告出具之日，不存在保荐机构认为应当发表意见的其他事项。（以下无正文）