研报评级☆ ◇688012 中微公司 更新日期：2026-05-30◇ 通达信沪深京F10
★本栏包括【1.投资评级统计】【2.盈利预测统计】【3.盈利预测明细】【4.研报摘要】
【5.机构调研】
【1.投资评级统计】最新评级日期:2026-05-10
时间段 买入评级次数 增持评级次数 中性评级次数 减持评级次数 卖出评级次数 评级次数合计
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1月内 4 3 0 0 0 7
2月内 15 10 0 0 0 25
3月内 15 10 0 0 0 25
6月内 15 10 0 0 0 25
1年内 15 10 0 0 0 25
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【2.盈利预测统计】(近6个月)
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│财务指标 │ 2023年│ 2024年│ 2025年│2026年预测│2027年预测│2028年预测│
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│每股收益(元) │ 2.88│ 2.60│ 3.37│ 4.99│ 6.72│ 8.62│
│每股净资产(元) │ 28.79│ 31.71│ 36.25│ 40.90│ 47.16│ 55.36│
│净资产收益率% │ 10.02│ 8.19│ 9.30│ 12.38│ 14.45│ 15.85│
│归母净利润(百万元) │ 1785.91│ 1615.68│ 2111.47│ 3120.41│ 4217.64│ 5395.15│
│营业收入(百万元) │ 6263.51│ 9065.17│ 12384.64│ 16173.65│ 20931.56│ 26277.27│
│营业利润(百万元) │ 1980.32│ 1703.52│ 2190.51│ 3206.17│ 4375.61│ 5646.71│
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【3.盈利预测明细】(近6个月)
日期 评级 评级变化 目标价 2026EPS 2027EPS 2028EPS 研究机构
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2026-05-10 买入 维持 --- 5.44 6.84 8.39 华安证券
2026-05-10 买入 维持 --- 5.37 7.06 8.69 长江证券
2026-05-06 增持 维持 300.44 6.01 7.47 9.16 交银国际
2026-05-05 增持 维持 --- 4.87 6.26 7.86 国信证券
2026-05-05 买入 维持 316.91 5.17 6.90 9.17 华泰证券
2026-05-03 增持 维持 --- 4.71 6.21 8.25 招商证券
2026-04-30 买入 维持 306.81 4.67 6.32 8.28 华创证券
2026-04-28 增持 维持 --- 4.69 6.98 9.07 华西证券
2026-04-28 买入 维持 --- 5.24 6.68 8.74 国盛证券
2026-04-28 买入 首次 --- 4.90 7.00 9.20 首创证券
2026-04-21 买入 维持 274.63 4.82 6.57 8.67 国投证券
2026-04-20 买入 维持 236.01 4.40 6.13 7.78 国泰海通
2026-04-13 买入 维持 --- 4.29 5.96 6.87 申万宏源
2026-04-12 买入 维持 --- 5.37 7.08 8.72 长江证券
2026-04-11 买入 维持 251.09 5.02 6.85 9.66 东方证券
2026-04-07 增持 维持 --- 4.94 6.66 8.82 平安证券
2026-04-03 增持 维持 --- 4.71 6.21 8.25 招商证券
2026-04-02 买入 维持 --- 4.87 6.78 8.84 东海证券
2026-04-01 增持 维持 280.3 5.56 6.96 8.50 交银国际
2026-04-01 买入 维持 --- 4.90 6.66 8.27 华源证券
2026-04-01 增持 维持 --- 5.20 7.03 8.86 财通证券
2026-04-01 买入 维持 --- 4.35 5.53 6.80 东吴证券
2026-03-31 增持 维持 --- 4.70 6.99 9.08 华西证券
2026-03-31 买入 维持 --- 5.66 8.07 10.91 光大证券
2026-03-31 增持 维持 221.91 --- --- --- 中金公司
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【4.研报摘要】(近6个月)
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2026-05-10│中微公司(688012)设备新品顺利放量，高研发加速平台化布局 │华安证券 │买入
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事件
公司2026年第一季度实现营业收入29亿元，同比增加34%，环比减少33%；归母净利润约9亿元，同比增加197%，环比
增加3%；扣非净利约5亿元，同比增加60%，环比减少28%。
刻蚀高端产品持续放量，薄膜新品快速兑现增量
公司一季度营收同比增长34%，主要得益于1）公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运
量显著提升；2）先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产。此外，得益于此前高强
度研发投入，公司为先进存储器件和逻辑器件开发的LPCVD、ALD等多款导体和介质薄膜新品设备，已经顺利进入市场，薄
膜设备的覆盖率不断增加。
高强度研发投入+平台化加速完善，核心技术持续兑现
公司刻蚀基本盘稳固，用于先进存储超高深宽比工艺的刻蚀设备已有300多台反应器实现大规模量产；薄膜设备LPCVD
、ALD、EPI、PVDCuBS、PECVD等十余款产品快速放量；减压EPI先进制程进入量产验证；持续保持国际氮化镓基MOCVD领先
地位，积极布局用于SiC和GaN基功率器件应用的市场。公司新设备开发周期已缩至2年以内，在研6大类、超20款新品，有
望依托刻蚀基本盘、薄膜与EPI新增长引擎以及平台化协同，持续提升在先进逻辑、存储与新兴半导体设备市场的综合竞
争力。
投资建议
我们预计公司2026-2028年收入分别为156、185、213亿元，归母净利润分别为34、43、53亿元，最新收盘价对应PE分
别为68x、54x、44x，维持“买入”评级。
风险提示
研发进度不及预期、产业竞争加剧、贸易摩擦加剧。
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2026-05-10│中微公司(688012)2026Q1点评：业绩超预期，研发高投入筑牢护城河 │长江证券 │买入
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事件描述
公司发布2026年第一季度报告，2026Q1实现营业收入29.15亿元，同比+34.13%；归母净利润9.30亿元，同比大幅增长
197.20%；扣非净利润4.78亿元，同比+60.09%。
事件评论
业绩超预期，扣非净利润亮眼。公司一季度营收保持超30%的高速增长，归母净利润爆发式增长197.20%主要得益于主
营业务规模扩大带来的毛利提升，以及公司本期出售了部分持有的拓荆科技股票，产生税后净收益约3.97亿元。扣非净利
润表现同样亮眼，同比增长60.09%，展现了极强的主业创收能力。
持续加大研发投入，支撑多款新产品开发。2026Q1公司整体研发支出高达9.08亿元，同比增长32.15%，研发支出占营
业收入的比例达到31.14%，有力支撑了公司涵盖六大类、超20款新设备的研发进程。
刻蚀设备基石稳固，超高深宽比技术实现行业领跑。截至2026Q1，公司累计已有超过8300个反应台在国内外180余条
生产线全面量产。其中，CCP刻蚀方面，下一代90:1超高深宽比低温刻蚀设备已运付客户端验证，全面覆盖存储器刻蚀中
各类超高深宽比需求。ICP刻蚀方面，第二代PrimoAngnova在3DDRAM中取得了140:1的高深宽刻蚀结果并交付领先客户；全
新化学气相刻蚀设备PrimoDomingo实现大于700:1的业界领先SiGe/Si高选择比，满足GAA和3DDRAM关键工艺要求。
薄膜与MOCVD新品多点开花，打造更多增长曲线。薄膜设备（LPCVD、ALD、EPI、PVDCuBS和PECVD等）在先进存储和逻
辑市场新增付运量快速增长。其中，减压EPI设备已在成熟制程客户端验证成功，并付运先进制程客户端进入量产验证阶
段。MOCVD领域，公司稳固氮化镓基市场领先地位的同时，用于SiC和GaN功率器件、MicroLED以及红黄光LED的四款新型MO
CVD均已进入客户端验证阶段，部分已取得批量订单。
投资建议：公司2026Q1业绩超预期，极强的研发转化效率正驱动公司稳步迈入平台化发展新阶段。随着公司刻蚀设备
在先进制程市占率的不断提升，以及薄膜设备、泛半导体设备的持续放量，预计公司2026年全年营收与利润将持续维持高
增长态势，预计2026-2027年公司营收分别为165、213亿元，维持“买入”评级。
风险提示
1、限制政策进一步加剧的风险；2、半导体景气度不及预期的风险；3、公司在新工艺和新产品验证进度不达预期的
风险。
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2026-05-06│中微公司(688012)1Q26营收延续增长，毛利率稳中有升，产品进一步取得进展│交银国际 │增持
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营收持续高速增长，净利润亦增长强劲：1Q26营收29.15亿元（人民币，下同），同比增34.1%，高于我们预测的28.0
亿元。毛利率39.9%，连续两个季度环比上升，我们视之为积极信号，并认为这部分是因为新产品上量对于毛利率影响开
始减退。净利润9.30亿元，远好于市场/我们的预期，主要因为本期出售部分拓荆科技（688072CH/未评级）股票，产生税
后净收益3.97亿元。扣非净利润4.78亿元，同比增约60%，快于营收增速。
新产品落地继续取得进展：根据公司披露的产品路线图，最让我们感到惊喜的是公司第二代ICP刻蚀产品在3DDRAM应
用中的进展。公司提到产品取得了140:1的高深宽刻蚀结果和形貌控制能力，并付运到中国内地领先存储客户端认证。3DD
RAM目前尚未处于大规模生产阶段，我们之前预测3DDRAM全球范围内大规模上市或在2028年之后。3DDRAM在结构上与之前D
RAM存在较大差异，参考之前3DNAND的制造工艺，我们认为刻蚀或在3DDRAM制造过程中发挥重要作用，而中微在产品的进
展也给我们对于国产DRAM赶超世界先进水平提供信心。此外，CCP90:1超高深宽比已运付客户端进行验证，化学气相刻蚀
设备实现大于700:1业界领先SiGe/Si高选择比等进展也意味着公司产品研发步伐或持续加快。我们预测2026年ICP产品收
入超过CCP收入，分别达到65.9/62.7亿元，预测薄膜沉积产品收入达到8.0亿元。
上调目标价到448元：我们认为，部分客户资本开支或在2026年小幅回落后在2027年重新加速上涨。同时考虑到国产
存储芯片客户中短期扩产积极，我们上调2027年公司营收预测到219.2亿元（前值196.0亿元），微调2026年营收预测到16
4.2亿元（前值162.6亿元）。我们看到公司毛利率水平在之前小幅下降后近期出现反弹，虽然行业竞争加剧，但我们认为
公司在前道设备ICP/CCP和部分薄膜沉积产品上具备技术优势。我们上调2026/27年EPS预测到6.01/7.47元（前值5.56/6.9
6元）。我们维持买入评级，上调目标价到448元（前值418元），对应60倍（维持前值不变）2027年市盈率。
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2026-05-05│中微公司(688012)高端刻蚀设备全面导入，先进膜薄运付量快速增长 │国信证券 │增持
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1Q25营收同比增长34.13%，归母净利润同比增长197.20%。公司发布2026年第一季度报告，实现营收29.15亿元(YoY+3
4.13%)，归母净利润9.30亿元(YoY+197.20%)，扣非归母净利润4.78亿元(YoY+60.09%)。综合毛利率达到39.89%(QoQ+0.6p
p)，研发支出9.08亿元(YoY+32.15%)。收入端增长主要因应用于先进逻辑（中段关键刻蚀工艺）与存储（超高深宽比刻蚀
工艺）的高端产品实现量产，且运量显著提升。利润端，公司本期出售了部分持有的拓荆科技股票，产生税后净收益约3.
97亿元。期末公司合同负债达28.53亿元，存货达72.59亿元，显示公司在手订单饱满。
2025年营收同比增长36.62%，归母净利润同比增长30.69%。公司2025年实现营收123.85亿元(YoY+36.62%)，归母净利
润21.11亿元(YoY+30.69%)，扣非归母净利润15.50亿元(YoY+11.64%)，综合毛利率39.17%(YoY-1.89pp)。公司刻蚀设备实
现收入98.32亿元(YoY+35.12%)，覆盖从65nm到3nm及更先进工艺的刻蚀应用，刻蚀设备全球累计出货超6800台。薄膜设备
实现收入5.06亿元，同比增长224.23%，LPCVD设备累计出货量突破300个反应台。25年薄膜设备新签订单约7.56亿元，同
比增长约59%。MOCVD设备方面，开发出用于SiC和GaN功率器件、MicroLED等领域的新产品。
高端刻蚀设备全面导入应用，先进薄膜设备运付量快速增长。先进存储中，公司超高深宽比刻蚀机已有300多台反应
器实现稳定量产，下一代90:1超高深宽比低温CCP刻蚀设备已运付客户端进行验证。第二代ICP刻蚀设备在3DDRAM应用中取
得140:1高深宽刻蚀结果和形貌控制能力，并付运到国内领先存储客户端认证。全新化学气相刻蚀设备实现大于700:1的业
界领先SiGe/Si的高选择比，在GAA和3DDRAM关键工艺的实验室验证中，全面满足客户的各项工艺指标要求。薄膜设备方面
，公司减压EPI设备已在成熟制程客户端验证成功，并已付运至先进制程客户；常压外延设备现已完成开发，进入晶圆验
证阶段。目前公司累计已有超8300个反应台在国内外180余条芯片及LED生产线全面量产。
投资建议：国内半导体先进设备公司，维持“优于大市”评级。国内半导体设备需求旺盛，公司平台化发展优势有望
逐步体现，我们预计公司2026-2028年营业收入158.70/207.00/267.93亿元（26-27年前值151.32/193.33亿元），归母净
利润30.47/39.22/49.22亿元（26-27年前值31.38/39.86亿元），当前对应PE分别为77/60/48倍，维持“优于大市”评级
。
风险提示：下游晶圆制造产能扩充不及预期风险，新产品开发不及预期风险，国际关系波动和地缘政治风险等。
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2026-05-05│中微公司(688012)刻蚀与薄膜持续放量，Q1业绩高增 │华泰证券 │买入
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中微公司公告拟发行股份及支付现金购买杭州众硅控股权，众硅是国内少数掌握12英寸高端CMP设备核心技术并实现
量产的企业，中微公司实现从“干法”向“干法+湿法”整体解决方案的关键跨越。公司2025年实现营收123.85亿元（yoy
+36.62%），归母净利21.11亿元（yoy+30.69%），26Q1收入29.15亿元（yoy+34.13%，qoq-32.56%），归母净利9.30亿元
（yoy+197.20%，qoq+3.36%），其中非经损益4.53亿元。公司作为国内半导体设备龙头，刻蚀设备在先进制程持续突破、
市占率提升，薄膜设备进入高速放量期，2025年LPCVD营收同比大幅增长约224.23%，量检测规划覆盖多款产品。国内晶圆
厂扩产与先进制程国产化提速，公司有望持续受益。看好公司未来成长性，维持“买入”评级。
“刻蚀+薄膜”驱动业绩稳健增长，公司持续加大研发
公司2025年实现营收123.85亿元（yoy+36.62%），其中刻蚀设备收入98.32亿元（yoy+35.12%，占比79.39%）；LPCVD
设备收入5.06亿元(yoy+224.23%，占比4.09%)；公司综合毛利率39.17%（yoy-1.89pct）。公司持续加大研发，25年研发
投入37.44亿元（yoy+52.65%），占营收比例30.23%（yoy+4.88pct）。利润端，2025年公司归母净利21.11亿元（yoy+30.
69%），对应归母净利率17.05%（yoy-0.77pct）。26Q1，公司实现收入29.15亿元（yoy+34.13%，qoq-32.56%），归母净
利9.30亿元（yoy+197.20%，qoq+3.36%），毛利率39.89%（yoy-1.65pct，qoq+0.6pct）。
公司拓展“干法+湿法”整体解决方案，刻蚀与薄膜设备持续放量
公司拟购买杭州众硅控股权，实现从“干法”向“干法+湿法”整体解决方案的关键跨越。1）刻蚀：20多种细分刻蚀
设备已可以覆盖95%以上的三百多种刻蚀应用，覆盖从65纳米到3纳米及更先进工艺。CCP累计装机超5000反应台，ICP累计
装机达1800反应台。2）薄膜沉积：2025年LPCVD营收同比大幅增长约224.23%，累计出货超300个反应台，多款LPCVD、ALD
设备获复购订单，硅和锗硅外延EPI设备已交付客户进行量产验证。3）量检测：旗下超微公司规划覆盖多款产品。4）MOC
VD：用于氮化镓基LED外延生产设备已在行业领先客户生产线上大规模量产。
持续推进先进逻辑、存储设备研发，公司持续加码产能布局
随存储、逻辑芯片向更先进节点持续突破，目前公司持续推进新一代刻蚀、薄膜、量检测及湿法设备新设备研发。公
司60比1超高深宽比刻蚀设备量产提升，针对更先进三维存储器件超高深宽比刻蚀工艺的下一代产品实验室研发阶段已经
完成。针对存储器件的钨系列薄膜沉积产品已获客户重复订单，公司开发出应用于先进逻辑器件的ALD金属栅系列产品已
完成多个先进逻辑客户设备验证。供给端，公司已在南昌、上海临港、广州、成都等多区域布局生产基地，目前已有厂房
面积45.3万平方米，预计2030年厂房面积增加至85万平方米。2025年公司人均年销售已超450万元。
盈利预测与估值
我们调整公司26-27年收入预测（4.04%/3.95%）至161.36/207.65亿元，对应调整26-27年归母净利润预测（8.71%/12
.20%）至32.43/43.25亿元。下游晶圆厂积极扩产，设备行业高景气，板块估值抬升，可比公司26年wind一致预期PE均值
为61.9倍。考虑公司刻蚀订单饱满，薄膜等新产品进展较快，同时拟收购众硅继续向平台化公司迈进，我们基于91.4倍26
年PE给予目标价472.54元（前值：333.2元，对应70x26年PE），维持“买入”。
风险提示：全球半导体下行周期，半导体设备需求不及预期，行业竞争。
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2026-05-03│中微公司(688012)26Q1营收同比高增，核心设备持续放量 │招商证券 │增持
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事件：公司发布2026一季报，26Q1营收29.15亿元，同比+34.1%/环比-32.6%，毛利率39.9%，同比-1.6pcts/环比+0.6
pcts，归母净利润9.30亿元，同比+197.2%/环比+3.4%。2025年公司收入利润同比高增，研发进度显著加快，平台化布局
持续加深。维持“增持”投资评级。
26Q1单季营收同比高增，利润端环比改善。26Q1营收29.15亿元，同比+34.1%/环比-32.6%，主要系公司高端刻蚀设备
和薄膜设备的新增付运量显著提升，以及在先进逻辑和存储器件制造领域的产品实现量产，推动收入增长，毛利率39.9%
，同比-1.6pcts/环比+0.6pcts，归母净利润9.30亿元，同比+197.2%/环比+3.4%，主要系营业收入增长带来的毛利增加，
以及出售部分持有的拓荆科技股份有限公司股票产生的税后净收益约3.97亿元，扣非净利润4.78亿元，同比+60.1%/环比-
28.0%。
CCP介质刻蚀产品高速增长，140:13DDRAMICP进入国内领先存储客户认证。公司针对先进存储器件制造工艺的超高深
宽比刻蚀设备已有300多台反应器实现稳定量产。1）CCP方面：介质刻蚀产品持续保持高速增长，下一代90:1超高深宽比
低温刻蚀设备已运付客户端进行验证。2）ICP方面：PrimoAngnovaTM在3DDRAM的应用中，取得了140:1的高深宽刻蚀结果
和形貌控制能力，在国内领先存储客户端认证中。3）化学气相刻蚀装备方面：PrimoDomingoTM实现大于700:1的业界领先
SiGe/Si的高选择比，在GAA和3DDRAM实验室验证中关键工艺全面满足客户指标要求。
薄膜设备拉动公司业绩增长，多产品进入客户验证阶段。公司薄膜设备25年营收同比增长约224.2%。ALD系列产品性
能达国际领先水平，生产效率更优。减压EPI设备进入客户验证阶段。多款核心介质沉积设备在客户端验证进展良好。常
压外延设备现已完成开发，进入晶圆验证阶段。
MOCVD全球龙头地位稳固，功率显示双线突破。公司在国际氮化镓基MOCVD设备市场保持领先地位，在SiC和GaN基领域
积极布局，并在Micro-LED和其他显示领域的专用MOCVD设备开发上取得了良好进展。四款MOCVD新产品进入客户端验证阶
段，并且部分得到批量订货。
投资建议：公司收入利润同比高增，研发进度显著加快，平台化布局持续加深。我们预计26-28年营收151.21/185.00
/234.75亿元，归母净利润29.49/38.87/51.65亿元，对应PE为79.9/60.6/45.6倍，维持“增持”投资评级
风险提示：下游扩产不及预期，新品研发不及预期，行业竞争加剧的风险。
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2026-04-30│中微公司(688012)2025年报及2026年一季报点评：薄膜设备快速放量，刻蚀基│华创证券 │买入
│本盘稳健增长，平台化战略加速兑现 │ │
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事项：
2026年3月31日，公司发布2025年年报；2026年4月29日，公司发布2026年一季报：
1）2025年公司实现营收123.85亿元，同比+36.62%；毛利率39.17%，同比-1.89pct；归母净利润21.11亿元同比+30.6
9%；扣非归母净利润15.50亿元，同比+11.64%；
2）26Q1公司实现营收29.15亿元，同比/环比+34.13%/-32.56%；毛利率39.89%，同比/环比-1.65pct/+0.6pct；归母
净利润9.30亿元,同比/环比YoY+197.20%/+3.36%，扣非归母净利润4.78亿元,同比/环比+60.09%/-27.97%。
评论：
扣非利润增速逐季提升，毛利率企稳回升，Q1研发高投入压制放缓释放利润弹性。2025年毛利率39.17%（YoY-1.89pc
t），主因客户结构变化给予部分客户销售折扣。25Q4/26Q1单季度毛利率39.29%/39.89%环比分别提升1.4pct/0.6pct，毛
利率已阶段性企稳回升。费用端最大变量是研发：2025年研发费用24.75亿元（YoY+74.61%），研发投入总额37.44亿元占
收入30.23%，远高于科创板均值；26Q1研发支出9.08亿元（YoY+32.15%），增速较全年有所收敛，费用端压力边际减轻。
26Q1归母净利润大增197%，其中包含处置拓荆科技股票税后净收益约3.97亿元，剔除后扣非约+60%更能反映主业趋势。
刻蚀设备稳固基本盘，薄膜设备进入放量期。1）刻蚀设备2025年销售98.32亿元（YoY+35.12%），其中CCP单年付运
超1000个反应台、累计装机超5000台，连续十年CAGR>30%；ICP累计安装1800台，近9年年均增长>100%。公司在先进存储
超高深宽比（60:1已成国内标配）和先进逻辑3nm及以下关键工艺上持续突破，高端产品占比提升是后续毛利率回升的核
心抓手。2）薄膜设备是最大的边际变化：LPCVD2025年销售5.06亿元（YoY+224.23%），累计出货突破300个反应台；钨系
列已获得客户重复量产订单、金属栅系列已完成多个先进逻辑客户设备验证,核准推进顺利。我们认为薄膜设备正从验证
期进入放量期，2026-2027年有望成为收入增量的核心新驱动。26Q1公司薄膜设备新增付运量保持快速增长。MOCVD方面，
Micro-LED设备PreciomoUdx已获重复订单，GaN功率器件PRISMOPD5获重复订单，新型8”碳化硅外延设备已进入国内头部
企业试产验证。
国产替代加速+产品矩阵扩张+产能释放，中期成长确定性强。短期看，海外出口管制趋严使国内存储和逻辑大厂对国
产刻蚀/薄膜设备的需求刚性提升，公司作为国内同时覆盖CCP+ICP+薄膜的平台型设备公司，卡位优势突出。中期看，公
司在研项目涵盖六大类超20款新设备，薄膜从LPCVD/ALD向WCVD、PECVDTi、PVDCuBS、EPI等全面展开，TAM从刻蚀（据Gar
tner数据占晶圆设备 22%）扩展至薄膜（ 23%），远期还布局量检测（子公司超微，市场占前道设备 13%）和
湿法设备（拟收购众硅电子）。产能端，临港二期（20万㎡）拟2026H2开工，广州一期预计2026年底建成、2027年投产，
成都基地预计2027年投产，产能瓶颈将逐步打开。此外SEMI预测2026/2027年全球半导体设备市场将达1450/1560亿美元续
创新高，行业β共振向上。
投资建议：下游扩产叠加替代加速，公司作为国内半导体设备重要厂商有望显著受益，同时研发高投入持续、毛利率
在产品结构改善下有望逐步企稳，我们将公司2026-2027年归母净利润预测由29.23/39.58亿元调整至29.25/39.60亿元，
新增2028年归母净利润预测51.91亿元。结合公司历史估值及行业平均估值水平，给予公司2026年17倍PS，对应目标价为4
57.5元，维持“强推”评级。
风险提示:国际贸易形势变化；下游扩产不及预期；新品拓展不及预期；上游零部件供应短缺；行业竞争加剧。
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2026-04-28│中微公司(688012)公司简评报告：刻蚀和薄膜共同发力，受益存储扩产浪潮 │首创证券 │买入
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公司深耕高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售。核心面向集成电路、LED外延片、功率器件、MEMS等
半导体制造环节，提供刻蚀、薄膜沉积、MOCVD等关键制程设备。依托自主研发的CCP高能等离子体与ICP低能等离子体两
大技术平台，公司已形成二十余款细分刻蚀设备矩阵，工艺覆盖范围广，可满足绝大多数刻蚀工艺应用需求，产品竞争力
持续提升。
公司薄膜和刻蚀设备共同发力，2025年业绩表现亮眼。2025年公司收入123.85亿元，同比+36.62%；归母净利润21.11
亿元，同比+30.69%。其中，2025年公司刻蚀设备实现收入约98.32亿元，同比+35.12%；薄膜沉积设备实现收入5.06亿元
，同比+224.23%；MOCVD累计出货量超600腔，Micro-LED用新型MOCVD设备订单超1亿元。
2025年公司刻蚀设备在国内主要客户芯片产线市占率不断提升。公司刻蚀设备已成功应用于全球3nm及以下先进集成
电路生产线，海外头部厂商3nm及下一代先进制程产线中，CCP刻蚀设备实现批量销售。依托完整的单台、双台设备布局，
叠加核心技术持续突破、产品快速迭代与广泛的工艺覆盖优势，2025年公司CCP、ICP刻蚀设备销量快速增长，在国内主流
客户产线的市场份额持续提升。
3DNAND提升高端刻蚀设备需求。当前集成电路2D存储器件线宽逼近物理极限，NAND闪存已全面迈入3D架构时代。目前
200层以上3DNAND闪存已实现大规模量产，更高层数产品处于持续研发阶段。3DNAND集成度提升核心依赖堆叠层数增加，
而非传统线宽微缩。其叠层结构刻蚀需实现40:1至60:1及以上极高深宽比的深孔与沟槽加工。制程层数提升持续驱动刻蚀
技术迭代，也显著加大对高端刻蚀设备的需求比重。
盈利预测：公司凭借在刻蚀和薄膜领域的多年积累，有望把握存储和逻辑产线扩产需求，带来订单和业绩增长。我们
预计公司2026/2027/2028年归母净利润分别为30.62/44.12/57.59亿元，对应当前股价PE分别为72/50/38倍，首次覆盖，
给予“买入”评级。
风险提示：下游扩产进度不及预期、行业竞争加剧。
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2026-04-28│中微公司(688012)26Q1业绩超预期，高端产品矩阵丰富 │国盛证券 │买入
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中微公司发布26Q1业绩报告。公司26Q1实现营收29.15亿元，同比增长34.13%，实现归母净利润9.30亿元，同比增长1
97.20%，实现扣非归母净利润约4.78亿元，同比增长60.09%，实现毛利率39.89%，同比-1.65pct，扣非销售净利润率16.3
8%，同比+2.65pcts。26Q1公司利润高增主要系：1）营收增长34.13%下，毛利较上年增长约2.60亿元；2）公司研发支出
较上年同期增长2.21亿元（增长32.15%），研发支出占公司营收比例约为31.14%；3）公司26Q1出售了部分持有的拓荆科
技股票，产生税后净收益约3.97亿元。
产品矩阵逐步完备，高端设备布局演进。公司累计已有超过8300个反应台在国内外180余条客户芯片及LED生产线全面
量产。以远高于科创板上市公司的平均研发投入水平，推进六大类、超20款新设备的研发。
1）刻蚀设备：公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升。在先进存储器件
制造工艺中，公司完全自主开发的针对超高深宽比刻蚀工艺的刻蚀机已有300多台反应器实现了稳定可靠的大规模量产。C
CP方面，下一代90:1超高深宽比低温刻蚀设备已运付客户端进行验证，公司已全面覆盖存储器刻蚀应用中各类超高深宽比
需求；ICP方面，适用于新一代逻辑和存储芯片制造用的第二代ICP刻蚀设备PrimoAngnovaTM在3DDRAM应用中取得140:1的
高深宽刻蚀结果和形貌控制能力，并付运到国内领先存储客户端认证。全新化学气相刻蚀设备PrimoDomingoTM实现大于70
0:1的业界领先SiGe/Si高选择比，在GAA和3DDRAM关键工艺的实验室验证中，展现优异的刻蚀性能，全面满足客户的各项
工艺指标要求
2）薄膜设备：公司在短时间内成功开发出十多种薄膜设备，包括LPCVD、ALD、EPI、PVDCuBS和PECVD等产品在先进存
储和先进逻辑市场新增付运量保持快速增长。公司为先进逻辑和先进存储器件金属栅应用开发的ALD系列产品，设备性能
达到国际领先水平同时，表现出更优异生产效率。同时，可用于先进半导体器件制造的核心金属薄膜沉积产品正在开发，
项目顺利推进中。公司所开发的多款核心介质沉积设备有序推进。公司减压EPI设备已在成熟制程客户端验证成功，也已
付运先进制程客户端，部分先进工艺已进入量产验证阶段；常压外延设备现已完成开发，进入晶圆验证阶段。
3）MOCVD设备：公司持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位，积极布局用于SiC和GaN基功率器件应用的市场
，并在Micro-LED和其他显示领域的专用MOCVD设备开发上取得了良好进展。四款MOCVD新产品包括用于SiC和GaN功率器件
的MOCVD，用于MicroLED的GaNMOCVD和用于红黄光LED的GaAsMOCVD设备已进入客户端验证阶段，并且部分得到批量订货。
盈利预测及投资建议：公司作为国内半导体刻蚀设备龙头，近年来专注于加速设备平台化，我们认为伴随公司研究成
果高效转化，有望进一步支撑营收业绩增长，预计公司2026-2028年有望实现营收169/224/291亿元，有望实现归母净利润
33/42/55亿元，维持“买入”评级。
风险提示：下游需求不及预期、地缘政治风险、产品进展不及预期。
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2026-04-28│中微公司(688012)刻蚀&薄膜设备新品持续放量，26Q1业绩同比高增 │华西证券 │增持
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事件概述
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