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688785(恒运昌)最新价值分析报告
 

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研报评级☆ ◇688785 恒运昌 更新日期:2026-08-01◇ 通达信沪深京F10 ★本栏包括【1.投资评级统计】【2.盈利预测统计】【3.盈利预测明细】【4.研报摘要】 【5.机构调研】 【1.投资评级统计】 暂无数据 【2.盈利预测统计】 暂无数据 【3.盈利预测明细】 暂无数据 【4.研报摘要】 暂无数据 【5.机构调研】(近6个月) 参与调研机构:1家 ──────┬────────────────────────────────────────────── 2026-07-29│恒运昌(688785)2026年7月29日投资者关系活动主要内容 ──────┴────────────────────────────────────────────── 1. 请问公司目前的营收结构、在手订单及客户拓展情况如何? 回答:2025年公司实现营业收入约 5.29 亿元,以来自自研产品的收入为主,主要客户为拓荆科技、宏大真空、中微 公司、北方华创、微导纳米等。2026年一季度公司实现营业收入 1.24 亿元。截至公司2025年年度报告披露日,公司持有 尚未交付的在手订单共约 1.57 亿元。公司将充分发挥研发和技术优势,结合市场发展前景和客户需求,不断进行新产品 的研发设计,结合公司丰富的技术和生产经验,加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用,为客户提 供性能更优、可靠性更高的产品,推进公司长期稳定发展。同时,公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精 密光学等领域的拓展,不断提升公司产品性能与质量,并拓宽公司产品品类,致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部 件整体解决方案的平台型公司,助力公司长期稳定发展。 2. 请介绍一下公司自研产品的生产经营模式和产品特性 回答:公司的自研产品主要采取以销定产的生产模式,根据供货要求、产品生产周期、销售预测等因素对生产排期和 物料管理进行统筹安排,协调生产、采购和仓储等相关部门保障生产的有序进行。 公司的主要自研产品为等离子体射频 电源系统,被广泛应用于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶、键合等环节,也被应用于光伏电池片的 薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节。同时,自研产品一般具有高度定制化的特 点,需要根据客户的特定需求进行研发和生产,公司需要与客户保持紧密的沟通和合作,以确保产品能够满足客户的实际 需求。 3. 请问公司的射频电源和匹配器都是配套出售的吗?一个腔体需要多少个射频电源? 回答:客户可根据自身需求,单独向公司采购等离子体射频电源或匹配器,亦可以同时采购等离子体射频电源和配套 的匹配器。此外,公司等离子体射频电源无需与同系列的匹配器产品配套使用,同系列中的等离子体射频电源和匹配器亦 不会有固定的配套关系。同时,在不同的制程的产线中,每台设备的腔体数量有所不同,越先进制程的设备腔体数量更多 ,对射频电源的需求量也更大。 4. 请介绍一下公司引进产品的应用场景 回答:公司基于等离子体发生条件和反应腔真空环境的实际需求,引进用于获得和维持真空环境的真空泵、用于流体 精确控制的质量流量计以及用于真空镀膜装备的等离子体直流电源等核心零部件。公司引进产品和自研产品一同协作,共 同为下游客户提供等离子体工艺解决方案。 (1)真空泵:在半导体、工业镀膜等工艺中,将硅片或其他材料放入反应腔室后,需要使反应腔获得真空环境。真 空泵是反应腔获取真空环境的核心零部件,用于在反应腔中产生和维持真空环境。 (2)质量流量计:在反应腔获取真空 环境后,需要向反应腔室通入工艺气体,工艺气体被等离子体射频电源电离产生等离子体。此时需要通过质量流量计精确 计量和输送。质量流量计是反应腔供气系统的核心零部件,用于对气体等进行质量流量的测量和控制。 (3)等离子体直流电源:主要用于真空镀膜装备,即在反应腔内使用等离子体直流电源对靶材施加电压,使气体离 子化,产生等离子体。这些离子在电场的作用下加速并轰击靶材,溅射出原子或分子,最终沉积在基材上,完成镀膜。 5. 请介绍一下公司上游元器件的国产化进程 回答:公司已建立稳定、高质量的供应商体系,关注供应商经营资质、生产能力、技术水平、质量管控水平以及产品 价格等多方面因素,并结合响应速度、付款条件等对供应商进行综合评定,将符合要求的供应商列入合格供应商名录,并 在供货阶段实行供应商动态管理,筛选优质供应商,持续优化采购渠道。为保证生产的连续和稳定性,公司综合考虑原材 料的采购周期、供应商的供货能力、采购量起订门槛等因素,对常用材料建立安全库存机制。自 2021 年开始,公司先后 在上游采购中实现了真空电容、陶瓷电容、MCU 以及 SiC MOS、LDMOS、部分 ADC 和 FPGA 等元器件的国产化应用。公司 目前已确定上游元器件的全国产化方案,将持续推进元器件的全面国产化验证工作。 6. 请问2025年研发投入增长的原因? 回答:2025年,公司研发投入金额达到 8,015.92 万元,同比增长 45.01%,主要系公司研发投入中人工费同比增长6 1.43%,公司持续加大研发投入力度,提高技术指标要求,推进新产品开发、产品持续升级迭代等,不断加强产品竞争力 。 7. 请介绍一下公司目前的产能情况及产能未来布局 回答:2025年公司产能利用率达 98.51%。公司通过多个措施提升产能,包括积极推进子公司恒运昌真空技术(沈阳 )有限公司的建设与正式运营,助力其实现从试产到量产的跨越;同时推进深圳产能建设,加速产能落地;公司未来将逐 步推进半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目的建设,这些都将有助于后续产能的释放,为公司产能持续 提升奠定基础。 ───────────────────────────────────────────────────── 参与调研机构:9家 ──────┬────────────────────────────────────────────── 2026-07-15│拓荆科技(688785)2026年7月15日投资者关系活动主要内容 ──────┴────────────────────────────────────────────── 1. 请问公司目前的营收结构、在手订单及客户拓展情况如何? 回答:2025年公司实现营业收入约 5.29 亿元,以来自自研产品的收入为主,主要客户为拓荆科技、宏大真空、中微 公司、北方华创、微导纳米等。2026年一季度公司实现营业收入 1.24 亿元。截至公司2025年年度报告披露日,公司持有 尚未交付的在手订单共约1.57 亿元。公司将充分发挥研发和技术优势,结合市场发展前景和客户需求,不断进行新产品 的研发设计,结合公司丰富的技术和生产经验,加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用,为客户提 供性能更优、可靠性更高的产品,推进公司长期稳定发展。同时,公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精 密光学等领域的拓展,不断提升公司产品性能与质量,并拓宽公司产品品类,致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部 件整体解决方案的平台型公司,助力公司长期稳定发展。 2. 请介绍一下公司产品等离子体射频电源系统的应用领域与产品特点 回答:公司的等离子体射频电源系统被广泛应用于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶、键合等环 节,并应用于光伏电池片的薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节。半导体行业遵 循“一代技术、一代工艺、一代设备”的产业规律,等离子体射频电源系统等核心部件需要得到设备商及晶圆厂的双重认 证。同时,等离子体射频电源系统定制化程度较高,在公司与下游设备厂商合作过程中,一般由下游客户向公司提供产品 技术指标要求和功能要求,公司根据客户需求自主研发新产品并制作样机供下游客户验证。 半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求,等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳定和可重复的生产 工艺,且需经过精密的校准和严格的测试流程,以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下,公司已具备成熟的 规模化量产能力,并成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。历经十余年,公司先后推出 CSL、Bestda 、Aspen/Basalt、Cedar 四代产品系列等离子体射频电源系统。截至2025年年底,公司第四代等离子体射频电源系统 Ced ar 系列处于验证状态,该产品将射频电源和匹配器整合为一体化平台,配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数 据采集等功能,可支撑更先进制程。 3. 请问公司的射频电源和匹配器都是配套出售的吗? 回答:客户可根据自身需求,单独向公司采购等离子体射频电源或匹配器,亦可以同时采购等离子体射频电源和配套 的匹配器。此外,公司等离子体射频电源无需与同系列的匹配器产品配套使用,同系列中的等离子体射频电源和匹配器亦 不会有固定的配套关系。 4. 请介绍一下公司主营产品的验证周期 回答:半导体行业遵循“一代技术、一代工艺、一代设备”的产业规律,等离子体射频电源系统等核心部件需要得到 半导体设备商及晶圆厂的双重验证,需要经历功能验证、上机验证、工艺验证、晶圆厂生产验证等多个验证环节,验证程 序复杂、验证难度大、验证周期长。公司早在2018年与拓荆科技率先开展等离子体射频电源系统的国产化开发及验证工作 ,历经2年多的合作验证,产品于2020年下半年开始逐步批量交付拓荆科技。近年来,国内晶圆厂及半导体装备商均加速 核心零部件国产化,所有半导体装备商的验证周期都在同步压缩,同一客户其他系列产品的验证时间也相应减少,公司产 品的整体认证周期也逐步缩短。 5. 请介绍一下公司引进产品的未来业务规划 回答:公司的引进产品与自研产品相互补充,共同构成等离子体工艺的核心零部件整体解决方案。引进产品的产品种 类将聚焦于目前的真空泵、质量流量计、等离子体直流电源,将进一步拓展客户范围,其中真空泵客户目前以精密光学镀 膜及半导体设备客户为主,公司将拓展更多半导体、光伏及显示面板客户的应用,在公司其他自研产品客户中拓展市场空 间;质量流量计目前收入较少,集中于精密光学镀膜客户,公司将拓展在半导体、光伏及显示面板等领域的市场空间,同 时加快自研质量流量计的研发落地和出货,以引进业务带动自研产品的验证和销售;引进的等离子体直流电源目前以光伏 、面板、精密光学领域客户为主,公司自研的等离子体直流电源已批量出货,引进和自研等离子体直流电源相互补充,为 客户直流溅射镀膜工艺提供更多选择。此外,随着公司资本实力的提升,公司未来将借助外部并购等战略举措,积极物色 境内外优质的标的和技术,以进一步增强等离子体工艺核心零部件的供应能力,为客户提供一站式的产品和服务。 6. 请介绍一下公司上游元器件的国产化进程 回答:公司已建立稳定、高质量的供应商体系,关注供应商经营资质、生产能力、技术水平、质量管控水平以及产品 价格等多方面因素,并结合响应速度、付款条件等对供应商进行综合评定,将符合要求的供应商列入合格供应商名录,并 在供货阶段实行供应商动态管理,筛选优质供应商,持续优化采购渠道。为保证生产的连续和稳定性,公司综合考虑原材 料的采购周期、供应商的供货能力、采购量起订门槛等因素,对常用材料建立安全库存机制。自 2021 年开始,公司先后 在上游采购中实现了真空电容、陶瓷电容、MCU 以及 SiC MOS、LDMOS、部分 ADC 和 FPGA 等元器件的国产化应用。公司 目前已确定上游元器件的全国产化方案,将持续推进元器件的全面国产化验证工作。 7. 请介绍一下公司目前的产能情况及产能未来布局 回答:2025年公司产能利用率达 98.51%。公司通过多个措施提升产能,包括积极推进子公司恒运昌真空技术(沈阳 )有限公司的建设与正式运营,助力其实现从试产到量产的跨越;同时推进深圳产能建设,加速产能落地;公司未来将逐 步推进半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目的建设,这些都将有助于后续产能的释放,为公司产能持续 提升奠定基础。 ───────────────────────────────────────────────────── 参与调研机构:2家 ──────┬────────────────────────────────────────────── 2026-07-10│恒运昌(688785)2026年7月10日投资者关系活动主要内容 ──────┴────────────────────────────────────────────── 1. 请问公司目前的营收结构、在手订单及客户拓展情况如何? 回答:2025年公司实现营业收入约 5.29 亿元,以来自自研产品的收入为主,主要客户为拓荆科技、宏大真空、中微 公司、北方华创、微导纳米等。截至公司2025年年度报告披露日,公司持有尚未交付的在手订单共约 1.57 亿元。公司将 充分发挥研发和技术优势,结合市场发展前景和客户需求,不断进行新产品的研发设计,结合公司丰富的技术和生产经验 ,加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用,为客户提供性能更优、可靠性更高的产品,推进公司长 期稳定发展。同时,公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的拓展,不断提升公司产品性能 与质量,并拓宽公司产品品类,致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司,助力公司长期 稳定发展。 2. 请介绍一下公司产品等离子体射频电源系统的应用领域与产品特点 回答:公司的等离子体射频电源系统被广泛应用于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶、键合等环 节,并应用于光伏电池片的薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节。半导体行业遵 循“一代技术、一代工艺、一代设备”的产业规律,等离子体射频电源系统等核心部件需要得到设备商及晶圆厂的双重认 证。同时,等离子体射频电源系统定制化程度较高,在公司与下游设备厂商合作过程中,一般由下游客户向公司提供产品 技术指标要求和功能要求,公司根据客户需求自主研发新产品并制作样机供下游客户验证。 半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求,等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳定和可重复的生产 工艺,且需经过精密的校准和严格的测试流程,以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下,公司已具备成熟的 规模化量产能力,并成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。历经十余年,公司先后推出 CSL、Bestda 、Aspen/Basalt、Cedar 四代产品系列等离子体射频电源系统。截至2025年年底,公司第四代等离子体射频电源系统 Ced ar 系列处于验证状态,该产品将射频电源和匹配器整合为一体化平台,配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数 据采集等功能,可支撑更先进制程。 3. 请介绍一下公司的技术优势 回答:经过十多年的持续正向研发、不断创新和积累,公司建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术体系,一方 面从测量、控制及架构三方面构建的底层通用的 3 大基石技术,并基于基石技术,结合半导体设备中应用,特别是先进 制程中更快速、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点,发展出 8 大产品化支撑技术,实现了突破高端等离子体射频电 源系统的先进设计、测量和控制等难题,掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电 源系统运行中的关键技术。截至2025年年底,公司已授权专利共 296 项,包括发明专利 123 项,实用新型专利 72 项, 外观设计专利 101 项。截至 2025 年年底,公司已累计申请 490 项专利,其中发明专利 262 项,占比 53.47%。 4. 请介绍一下等离子体射频电源系统的市场格局 回答:等离子体射频电源系统行业在多个下游应用领域中发挥着重要作用,包括半导体、光伏、显示面板、光学镀膜 、医疗设备和科研仪器等;其中,半导体是中国大陆等离子体射频电源系统行业最大的下游应用领域。2024 年,中国大 陆等离子体射频电源系统市场规模达120.4亿元。中国大陆半导体行业等离子体射频电源系统的市场仍呈现海外巨头高度 垄断的竞争格局。根据弗若斯特沙利文统计,2024年,中国大陆半导体领域等离子体射频电源系统的国产化率不足12%。 5. 请介绍一下公司目前的产能情况及未来产能布局 回答:2025年公司产能利用率达98.51%。公司通过多个措施提升产能,包括积极推进子公司恒运昌真空技术(沈阳) 有限公司的建设与正式运营,助力其实现从试产到量产的跨越;同时推进深圳产能建设,加速产能落地;公司未来将逐步 推进半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目的建设,这些都将有助于后续产能的释放,为公司产能持续提 升奠定基础。 6. 公司海外客户的拓展情况如何?公司后续是否有出海计划? 回答:截至2025年底,公司境外收入占2025年营业收入中的极少部分。公司于2025年11月在德国设立全资子公司。在 未来发展规划上,德国恒运昌将作为恒运昌全球化布局中的重要战略支点,承担海外研发、技术融合、市场拓展三大职能 ,助力半导体设备核心零部件从“引进来”到“走出去”。截至2025年底,公司也获得了部分海外专利。 ───────────────────────────────────────────────────── 参与调研机构:4家 ──────┬────────────────────────────────────────────── 2026-07-09│恒运昌(688785)2026年7月9日投资者关系活动主要内容 ──────┴────────────────────────────────────────────── 1. 请问公司目前的营收结构、在手订单及客户拓展情况如何? 回答:2025年公司实现营业收入约 5.29 亿元,以来自自研产品的收入为主,主要客户为拓荆科技、宏大真空、中微 公司、北方华创、微导纳米等。截至公司2025年年度报告披露日,公司持有尚未交付的在手订单共约 1.57 亿元。公司将 充分发挥研发和技术优势,结合市场发展前景和客户需求,不断进行新产品的研发设计,结合公司丰富的技术和生产经验 ,加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用,为客户提供性能更优、可靠性更高的产品,推进公司长 期稳定发展。同时,公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的拓展,不断提升公司产品性能 与质量,并拓宽公司产品品类,致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司,助力公司长期 稳定发展。 2. 请介绍一下公司产品等离子体射频电源系统的应用领域与产品特点 回答:公司的等离子体射频电源系统被广泛应用于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶、键合等环 节,并应用于光伏电池片的薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节。半导体行业遵 循“一代技术、一代工艺、一代设备”的产业规律,等离子体射频电源系统等核心部件需要得到设备商及晶圆厂的双重认 证。同时,等离子体射频电源系统定制化程度较高,在公司与下游设备厂商合作过程中,一般由下游客户向公司提供产品 技术指标要求和功能要求,公司根据客户需求自主研发新产品并制作样机供下游客户验证。 半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求,等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳定和可重复的生产 工艺,且需经过精密的校准和严格的测试流程,以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下,公司已具备成熟的 规模化量产能力,并成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。历经十余年,公司先后推出 CSL、Bestda 、Aspen/Basalt、Cedar 四代产品系列等离子体射频电源系统。截至2025年年底,公司第四代等离子体射频电源系统 Ced ar 系列处于验证状态,该产品将射频电源和匹配器整合为一体化平台,配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数 据采集等功能,可支撑更先进制程。 3. 请介绍一下公司的技术优势 回答:经过十多年的持续正向研发、不断创新和积累,公司建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术体系,一方 面从测量、控制及架构三方面构建的底层通用的 3 大基石技术,并基于基石技术,结合半导体设备中应用,特别是先进 制程中更快速、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点,发展出 8 大产品化支撑技术,实现了突破高端等离子体射频电 源系统的先进设计、测量和控制等难题,掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电 源系统运行中的关键技术。截至2025年年底,公司已授权专利共 296 项,包括发明专利 123 项,实用新型专利 72 项, 外观设计专利 101 项。截至 2025 年年底,公司已累计申请 490 项专利,其中发明专利 262 项,占比 53.47%。 4. 请介绍一下等离子体射频电源系统的市场格局 回答:等离子体射频电源系统行业在多个下游应用领域中发挥着重要作用,包括半导体、光伏、显示面板、光学镀膜 、医疗设备和科研仪器等;其中,半导体是中国大陆等离子体射频电源系统行业最大的下游应用领域。2024 年,中国大 陆等离子体射频电源系统市场规模达120.4亿元。中国大陆半导体行业等离子体射频电源系统的市场仍呈现海外巨头高度 垄断的竞争格局。根据弗若斯特沙利文统计,2024年,中国大陆半导体领域等离子体射频电源系统的国产化率不足12%。 5. 请介绍一下公司目前的产能情况及未来产能布局 回答:2025年公司产能利用率达98.51%。公司通过多个措施提升产能,包括积极推进子公司恒运昌真空技术(沈阳) 有限公司的建设与正式运营,助力其实现从试产到量产的跨越;同时推进深圳产能建设,加速产能落地;公司未来将逐步 推进半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目的建设,这些都将有助于后续产能的释放,为公司产能持续提 升奠定基础。 6. 公司海外客户的拓展情况如何?公司后续是否有出海计划? 回答:截至2025年底,公司境外收入占2025年营业收入中的极少部分。公司于2025年11月在德国设立全资子公司。在 未来发展规划上,德国恒运昌将作为恒运昌全球化布局中的重要战略支点,承担海外研发、技术融合、市场拓展三大职能 ,助力半导体设备核心零部件从“引进来”到“走出去”。截至2025年底,公司也获得了部分海外专利。 ───────────────────────────────────────────────────── 参与调研机构:1家 ──────┬────────────────────────────────────────────── 2026-07-01│恒运昌(688785)2026年7月1日投资者关系活动主要内容 ──────┴────────────────────────────────────────────── 公司于2026年6月24日协办“沪市ETF财富管理基地行——走进恒运昌”活动。投资者参观了公司,管理层介绍了公司 的基本情况。 1. 请问公司目前的在手订单及客户拓展情况如何? 回答:截至公司2025年年度报告披露日,公司持有尚未交付的在手订单共约 1.57 亿元。公司将充分发挥研发和技术 优势,结合市场发展前景和客户需求,不断进行新产品的研发设计,结合公司丰富的技术和生产经验,积极响应拓荆科技 、中微公司、北方华创、微导纳米、北京屹唐等行业头部半导体设备商需求,加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源 系统的产业化应用,为客户提供性能更优、可靠性更高的产品,推进公司长期稳定发展。同时,公司还将积极推动主营业 务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的拓展,不断提升公司产品性能与质量,并拓宽公司产品品类,助力公司长期 稳定发展。 2. 请介绍一下历代等离子体射频电源系统及其他新产品的研发进展 回答:等离子体射频电源系统作为薄膜沉积设备、刻蚀设备、清洗去胶设备等半导体设备的核心零部件,技术要求极 高,包括在纳米尺寸级别上精准控制等离子体的刻蚀过程、在纳秒时间级别上和复杂环境中精准且稳定地控制等离子体的 变化。技术要求极高主要由于其直接关系到薄膜沉积、刻蚀、清洗等环节中等离子体的浓度、均匀性和稳定性等,进而影 响晶圆制造工艺的能力、良率和效率。历经十年,公司先后推出 CSL、Bestda、Aspen/Basalt 三代产品系列。公司第一 代产品CSL系列可支持工业级制程,主要用于光伏电池片薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜等一般工业领域;公司 第二代产品Bestda系列可支撑成熟制程,主要面向半导体领域;第三代产品Aspen/Basalt系列可支撑先进制程,主要面向 半导体领域。 截至2025年年底,公司第四代产品 Cedar 系列等离子体射频电源系统处于验证状态,该产品将射频电源和匹配器整 合为一体化平台,配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能,可支撑更先进制程。截至2025年年底, 公司对MFC MEMS传感器的研发已处于完成初样流片及搭载测试平台阶段。结合公司未来发展规划,在产品布局方面,公司 将采取双轮驱动发展策略,通过内生研发,持续优化现有产品,提升性能与质量,并拓宽产品品类;同时,公司未来将借 助外部并购等战略举措,以进一步增强等离子体工艺核心零部件的供应能力,为客户提供一站式的产品和服务,致力于成 为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司。 3. 请介绍一下等离子体射频电源系统的国内同行情况与公司的竞争优势 回答:中国大陆半导体行业等离子体射频电源系统的市场仍呈现海外巨头高度垄断的竞争格局。根据弗若斯特沙利文 统计,2024年,中国大陆半导体领域等离子体射频电源系统的国产化率不足12%;2024年,在中国大陆半导体行业国产等 离子体射频电源系统厂商中,恒运昌的市场份额位列第一。国内同行企业还有成都英杰晨晖科技有限公司、北京华丞电子 股份有限公司等。 公司的竞争优势如下: (1)技术优势:经过十多年的持续正向研发、不断创新和积累,公司建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术体 系,一方面从测量、控制及架构三方面构建的底层通用的 3 大基石技术,并基于基石技术,结合半导体设备中应用,特 别是先进制程中更快速、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点,发展出 8 大产品化支撑技术,实现了突破高端等离子 体射频电源系统的先进设计、测量和控制等难题,掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子 体射频电源系统运行中的关键技术。截至2025年年底,公司已授权专利共 296 项,包括发明专利 123 项,实用新型专利 72项,外观设计专利 101 项。截至 2025 年年底,公司已累计申请490 项专利,其中发明专利 262 项,占比 53.47%。 (2)产品优势:半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求,等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳 定和可重复的生产工艺,且需经过精密的校准和严格的测试流程,以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下, 公司已具备成熟的规模化量产能力,并成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。 (3)团队优势:截至2025年年底,公司员工总数为405人。研发人员数量为158人,其中学历本科及以上研发人员占 研发人员总数的84.81%。同时,公司汇聚了一支在等离子体射频电源系统及半导体核心零部件行业拥有二十年以上从业经 验的团队。团队成员不仅在技术研发方面拥有卓越的能力和敏锐的洞察力,对半导体行业具有深刻理解和具有丰富的实践 经验。 4. 请具体介绍一下公司引进产品种类 回答:公司基于等离子体发生条件和反应腔真空环境的实际需求,引进用于获得和维持真空环境的真空泵、用于流体 精确控制的质量流量计以及用于真空镀膜装备的等离子体直流电源等核心零部件。公司引进产品和自研产品一同协作,共 同为下游客户提供等离子体工艺解决方案。 (1)真空泵:在半导体、工业镀膜等工艺中,将硅片或其他材料放入反应腔室后,需要使反应腔获得真空环境。真 空泵是反应腔获取真空环境的核心零部件,用于在反应腔中产生和维持真空环境。(2)质量流量计:在反应腔获取真空 环境后,需要向反应腔室通入工艺气体,工艺气体被等离子体射频电源电离产生等离子体。此时需要通过质量流量计精确 计量和输送。质量流量计是反应腔供气系统的核心零部件,用于对气体等进行质量流量的测量和控制。(3)等离子体直 流电源:公司引进的等离子体直流电源主要用于真空镀膜装备,即在反应腔内使用等离子体直流电源对靶材施加电压,使 气体离子化,产生等离子体。这些离子在电场的作用下加速并轰击靶材,溅射出原子或分子,最终沉积在基材上,完成镀 膜。5. 请介绍一下公司的技术服务业务 回答:公司技术服务主要系为晶圆厂提供等离子体射频电源系统原位替换及维修服务。等离子体射频电源系统在晶圆 厂使用过程中会出现老化、故障等问题,需要及时进行更换或维修。国内主要晶圆厂被列入实体清单后,无法继续向原海 外设备供应商采购备件或申请维修服务,公司为此承接了进口等离子体射频电源系统的原位替换及维修业务。6. 请介绍 一下公司目前的产能情况 回答:2025年公司产能利用率达98.51%。公司将通过多个措施提升产能,包括积极推进子公司恒运昌真空技术(沈阳 )有限公司的建设与正式运营,助力其实现从试产到量产的跨越;同时推进深圳产能建设,加速产能落地;公司也将逐步 推进半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目的建设,这些都将有助于后续产能的释放,为公司产能持续提 升奠定基础。 7. 请介绍一下公司未来的发展规划 回答:(1)持续研发与创新,保持和提高技术先进性,不断提升工艺水平和产品性能。公司将始终以客户需求作为 技术研发导向,密切追踪最新的技术及发展趋势,持续增加研发投入,不断完善研发管理机制和创新激励机制。公司将不 断丰富公司产品和技术储备,持续推进产品的更新迭代,加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用, 为客户提供性能更优、可靠性更高的产品。在产品布局方面,公司将采取双轮驱动策略。通过内生研发和择机对外收购的 方式,持续优化现有产品,提升性能与质量,并拓宽产品品类。 (2)充分借力资本市场,重点加强先进产品产能建设。公司将在现有生产模式的基础上,在沈阳建设半导体射频电 源系统产业化中心,在深圳扩建半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地,引进性能更优、智能化水平更高、更 先进的生产制造设备、测试设备及仓储系统,并结合生产车间及数据管理系统软件,实现生产制造、经营、管理和决策的 智能优化。 (3)以客户为中心,提升技术服务,加强多元化市场开拓。公司始终以客户为中心,密切关注客户需求,强化与客 户设计研发的沟通合作,持续收集下游行业市场与技术动态信息;同时,进一步加强公司技术销售与技术服务,重点加大 培养既懂专业技术又有销售服务能力的技术精英,确保公司在产品技术路线交流、销售、服务、信息反馈等环节为客户提 供专业化的技术支持服务和解决方案。 ───────────────────────────────────────────────────── 〖免责条款〗 1、本公司力求但不保证提供的任何信息的真实性、准确性、完整性及原创性等,投资者使 用前请自行予以核实,如有错漏请以中国证监会指定上市公司信息披露媒体为准,本公司 不对因上述信息全部或部分内容而引致的盈亏承担任何责任。 2、本公司无法保证该项服务能满足用户的要求,也不担保服务不会受中断,对服务的及时 性、安全性以及出错发生都不作担保。 3、本公司提供的任何信息仅供投资者参考,不作为投资决策的依据,本公司不对投资者依 据上述信息进行投资决策所产生的收益和损失承担任何责任。投资有风险,应谨慎至上。

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