研报评级☆ ◇688785 恒运昌 更新日期：2026-03-25◇ 通达信沪深京F10
★本栏包括【1.投资评级统计】【2.盈利预测统计】【3.盈利预测明细】【4.研报摘要】
【5.机构调研】
【1.投资评级统计】 暂无数据
【2.盈利预测统计】 暂无数据
【3.盈利预测明细】 暂无数据
【4.研报摘要】 暂无数据
【5.机构调研】(近6个月)
参与调研机构：3家
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2026-03-12│恒运昌(688785)2026年3月12日投资者关系活动主要内容
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1. 请介绍一下公司的业务情况及产品情况
回答：公司是国内领先的半导体设备核心零部件供应商，主要从事等离子体射频电源系统、等离子体激发装置、等离
子体直流电源、各种配件的研发、生产、销售及技术服务，并引进真空获得和流体控制等相关的核心零部件，围绕等离子
体工艺提供核心零部件整体解决方案。公司主要产品等离子体射频电源系统（等离子体射频电源及匹配器）被广泛应用于
半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶、键合等环节，且直接决定设备工艺能力、产品良率。历经十年，
公司先后推出 CSL、Bestda、Aspen 三代产品系列等离子体射频电源系统，成功打破了美系两大巨头在国内长达数十年的
垄断格局，填补国内空白。公司研发的最新一代等离子体射频电源系统Cedar系列产品，锚定更先进制程前沿领域，目前
处于验证阶段。
2. 请介绍一下公司核心技术优势
回答：经过十多年的持续研发、不断创新和积累，公司以技术发展、行业需求为双导向，建立了“基石技术+产品化
支撑技术”的技术体系，一方面从测量、控制及架构三方面构建的底层通用的 3 大基石技术，并基于基石技术，结合半
导体设备中应用，特别是先进制程中更快速、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点，发展出 8 大产品化支撑技术，实
现了突破高端等离子体射频电源系统的先进设计、测量和控制等难题，掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频
、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键技术。频快速响应能够使等离子体在最短时间内达到稳定状态，实现对
薄膜厚度和膜厚均匀性的精准控制，是设备运行的稳定性和产品良率的关键。公司主要产品等离子体射频电源系统作为薄
膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶和键合环节生产设备的核心零部件，是半导体制造中等离子体工艺控制的核心。同时
，等离子体射频电源系统也是半导体设备零部件国产化最难环节之一，在此严苛要求下，公司已具备成熟的规模化量产能
力，公司产品已量产交付拓荆科技、中微公司、北方华创、微导纳米、盛美上海等国内头部半导体设备商，并成为薄膜沉
积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。
3. 请介绍一下公司人员情况
回答：截止2025年6月30日，公司员工人数达375人。其中，生产人员占比约28%，管理及其他职能人员占比约26%，销
售人员占比约4%，研发人员占比约42%，员工总数及研发人员数量均保持高速增长。公司核心技术人员均具有15年以上的
从业经验，主要研发骨干也拥有5年以上的从业经验，在等离子体射频电源系统领域有着深厚的经验积淀，能够较好地把
握下游设备厂商的国产化需求以及行业发展趋势，公司将持续增加研发投入，同时加强生产、销售、技术支持等团队的建
设与管理。
4. 请介绍一下公司员工培养的机制
回答：公司不断加强人才梯队建设工作，通过各种方式重点激励研发人才。公司还将持续引进各类专业人才，包括招
募更多具备前瞻性、共性基础技术研究能力的技术人才，尤其是国内外高端专业技术人才、各领域高端管理人才的引进，
不断优化人才结构。公司将坚持内部培养和外部招聘相结合的战略方针，加大人力资源成本投入，包括加大与高校科研院
所合作与联合培养等，吸引更多优秀人才，打造一流的人才队伍，满足公司快速发展的需要。
5. 请介绍一下董事长乐卫平的创业历程
回答：乐卫平先生于1995 年 7 月至 2002 年 2 月就职于湖南省桃源县邮电局电信设备厂，任技术员、工程师；200
3 年 3 月至 2006年 5 月，就职于 AE （深圳），任测试技术员、工程师；2006 年6 月至 2014 年 4 月，就职于 AE（
上海），任产品应用工程师与销售高级经理；2014 年 5 月至 2021 年 9 月，就职于公司，任执行董事、总经理；2021
年 9 月至今，任公司董事长、总经理。公司于2013年成立，早期以引进真空装备核心零部件业务为主，自研产品上处于
起步探索期。2018年公司进入快速发展期，公司自研产品在半导体领域的应用取得重大突破，实现了半导体级等离子体射
频电源系统的技术突破，研制出Bestda系列等离子体射频电源系统实现设备商验证并批量出货。2023年公司进入持续创新
期，公司自研产品已成为业务主导。此外，公司持续为晶圆厂提供等离子体射频电源系统原位替换及维修服务。同时，公
司在此阶段突破了先进制程的技术难题，研发出Aspen/Basalt系列等离子体射频电源系统，完成了产品代际升级，应用的
设备工艺阶段也从薄膜沉积扩展至刻蚀的批量应用；同时，Torrent系列远程等离子体源和 Ginkgo 系列等离子体直流电
源等产品也陆续完成开发，实现部分小批量交付，进一步丰富了公司的产品种类。在此阶段，公司还突破了等离子体电弧
检测与控制、等离子体偏置电压的脉冲控制等先进技术，公司进入快速上升通道，业务规模持续扩大。公司始终致力于成
为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司。
6. 请介绍一下公司的募投项目情况。
回答：“沈阳半导体射频电源系统产业化建设项目”主要开展半导体级等离子体射频电源系统产品的生产和销售，统
筹区域内优势资源，健全总部与子公司之间的分工合作机制。“半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目”
拟提升公司等离子体射频电源系统、等离子体直流电源、等离子体激发装置等产品的生产规模和生产效率。同时，该项目
将建设信息化业务管理平台，旨在实现公司生产自动化和业务管理信息化、数字化。本项目建成后，将能够提升公司相关
产品的生产服务能力，以及在业务规划、经营决策等方面整体提升公司的信息化管理能力。“研发与前沿技术创新中心项
目”拟进行下一代等离子体射频电源及匹配器、电源类新品、质量流量计、等离子体设备相关衍生产品等产品及技术的研
究。“营销及技术支持中心项目”通过在长三角地区、珠三角地区、京津冀地区、 中西部地区等关键区域建立营销及技
术支持中心，能够直接与终端晶圆厂沟通并获取实时的技术反馈，为客户提供更加精准和定制化的技术服务，并且能够直
接参与到与终端晶圆厂的合作，第一时间获悉先进制程对核心零部件的最新技术要求，从而提升整体的生产效率和产品的
市场适应性，从而巩固并扩大市场份额。除此之外，公司将通过沈阳半导体射频电源系统产业化建设项目及半导体与真空
装备核心零部件智能化生产运营基地项目提高产品生产效率，扩大公司产销规模，满足不断增长的市场需求并解决公司产
能瓶颈问题，提升公司整体运营效率，促进公司业绩增长。以上募投项目的建设，将进一步提高公司产品产能，加快推进
公司核心技术的商业化落地，满足下游客户高速增长的市场需求。同时提高公司整体创新水平，提升公司智能化生产能力
、技术服务能力和响应速度，从而提升公司综合竞争力，推动公司主营业务高质量发展。
7. 公司2026年一季度的业绩情况如何？
回答：公司2026年一季度的业绩情况以公司最终在官方渠道所披露的2026年一季报为准。
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参与调研机构：6家
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2026-03-05│恒运昌(688785)2026年3月5日—6日投资者关系活动主要内容
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1. 请介绍一下公司主营业务及产品情况
回答：公司始终致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司。公司的等离子体射频电源
系统（等离子体射频电源及匹配器）被广泛应用于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶、键合等环节，
以及光伏电池片的薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节，直接决定设备工艺能力
、产品良率。历经十年，公司先后推出 CSL、Bestda、Aspen 三代产品系列等离子体射频电源系统，成功打破了美系两大
巨头在国内长达数十年的垄断格局，填补国内空白。公司研发的最新一代等离子体射频电源系统Cedar系列产品，锚定更
先进制程前沿领域，目前处于验证阶段。
2. 公司主营产品的验证周期是怎么样的？
回答：半导体行业遵循“一代技术、一代工艺、一代设备”的产业规律，等离子体射频电源系统等核心部件需要得到
半导体设备商及晶圆厂的双重验证，需要经历功能验证、上机验证、工艺验证、晶圆厂生产验证等多个验证环节，验证程
序复杂、验证难度大、验证周期长。公司早在2018年与拓荆科技率先开展等离子体射频电源系统的国产化开发及验证工作
，历经2年多的合作验证，产品于2020年下半年开始逐步批量交付。近年来，国内晶圆厂及半导体装备商均加速核心零部
件国产化，所有半导体装备商的验证周期都在同步压缩，同一客户其他系列产品的验证时间也相应减少，公司产品的整体
认证周期也逐步缩短。
3. 公司的研发投入及研发人员情况是怎样的？
回答：公司一直以来高度重视研发工作，结合行业发展趋势和客户需求，不断加大研发投入。2022年至2025年上半年
，公司研发费用占营业收入的比例分别为 13.62%、11.36%、10.22%和 14.24%。2022年至2025年上半年，公司研发人员占
比分别为35.90%、33.02%、41.64%、42.13%。
4.公司产品的国产化进程如何了？
回答：历经十年，公司先后推出 CSL、Bestda、Aspen 三代产品系列等离子体射频电源系统，成功打破了美系两大巨
头在国内长达数十年的垄断格局，填补国内空白。公司目前也启动了包括质量流量计在内的其他半导体设备核心零部件国
产化研发工作。与此同时，公司持续加强供应链的国产化，自 2021 年开始，公司先后在上游采购中实现了真空电容、陶
瓷电容、MCU 以及 SiC MOS、LDMOS、部分 ADC 和 FPGA 等元器件的国产化应用。公司目前已确定上游元器件的全国产化
方案，将持续推进元器件的全面国产化验证工作。
5.公司与主要客户的合作情况如何？
回答：公司目前已与拓荆科技、中微公司、微导纳米、北方华创、盛美上海等诸多国产半导体设备龙头开展持续稳定
的合作，公司已成为薄膜沉积、刻蚀环节等国内头部设备商的战略级供应商，并为国内多家晶圆厂开发多款原位替换等离
子体射频电源及匹配器并提供维修等技术服务。公司自 2018 年开始与拓荆科技在薄膜沉积、键合等领域开展深度合作，
已验证导入多款产品。公司自2022年与中微公司在刻蚀等领域合作，持续配合客户新机台开发先进产品。2025年上半年，
公司还实现对屹唐股份、思锐智能和无锡邑文等细分领域头部客户的销售收入突破，客户结构持续多元化。
6.公司针对目前的产能瓶颈有什么应对措施？
回答：公司将在现有生产模式的基础上，在沈阳新建半导体射频电源产业化中心，在深圳扩建半导体与真空装备核心
零部件智能化生产运营基地，提高产品生产效率，扩大公司产销规模，满足不断增长的市场需求并解决公司产能瓶颈问题
，提升公司整体运营效率，促进公司业绩增长，稳定公司的行业地位以及进一步提升核心竞争力。
7.近年来，中国大陆等离子体射频电源系统市场总规模是多少？半导体行业射频电源系统市场总规模是多少？
回答：根据弗若斯特沙利文统计，2024 年，中国大陆等离子体射频电源系统市场规模达 120.4 亿元，过去五年复合
增速达 9.9%。2025-2029 年复合增长率预计为 12.3%。中国大陆半导体行业等离子体射频电源系统市场从 2020 年到 20
24 年，市场规模由 42.7 亿元增长至 65.6 亿元，年均复合增长率达到 11.3%，2025-2029 年复合增长率预计为 15.6%
。
8.公司的未来发展规划是怎样的？
回答：在技术研发方面，公司将始终以客户需求作为技术研发导向，密切追踪最新的技术及发展趋势，持续增加研发
投入，不断完善研发管理机制和创新激励机制，为技术突破和产品升级提供重要的基础和保障。此外，公司将持续推动主
营业务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的拓展；在产品布局方面，公司将持续优化现
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参与调研机构：16家
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2026-02-04│恒运昌(688785)2026年2月4日投资者关系活动主要内容
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问题：公司2025年度的营业收入情况是怎样的？
回答：公司招股书已披露2025年度业绩预计；公司2025年度的营业收入情况以公司最终披露的2025年年报及审计报告
为准。
问题：公司与下游客户的合作进展如何？
回答：拓荆科技于2018年与公司开展等离子体射频电源系统的国产化开发及验证工作，历经2年多的合作验证，公司
产品于2020年下半年开始逐步批量交付拓荆科技。公司与拓荆科技合作范围不断扩展至PEALD 设备、HDPCVD 设备及先进
封装的键合设备领域，相关设备目前均在持续推进等离子体射频电源系统的合作验证工作。此外，公司产品已实现批量交
付中微公司、北方华创、微导纳米、盛美上海等半导体设备商。公司正在为中微公司、微导纳米、北方华创、盛美上海的
多种机型开发多款等离子体射频电源及匹配器。2025年上半年，公司还实现对屹唐股份、思锐智能和无锡邑文等细分领域
头部客户的销售收入突破。公司还为国内多家晶圆厂开发多款原位替换等离子体射频电源及匹配器，客户结构持续多元化
。
问题：公司目前的产品结构与产品技术水平是怎样的？
回答：公司主要围绕等离子体工艺打造产品矩阵，自研产品具体包括等离子体射频电源系统（等离子体射频电源及匹
配器）、等离子体激发装置（远程等离子体源、射频离子源）、等离子体直流电源、配件（滤波器、阻抗调整器等），引
进产品主要包括真空获得和流体控制分别所需的真空泵、质量流量计等核心零部件，同时还为晶圆厂提供等离子体射频电
源系统原位替换及维修等技术服务。公司已构建了完善的技术体系，从测量、控制到架构形成了 3 大基石技术及 8 大产
品化支撑技术，涵盖信号采样及处理、相位锁定、同步控制、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键
技术。历经十年，公司先后推出 CSL、Bestda、Aspen 三代产品系列，成功打破了美系两大巨头长达数十年在国内的垄断
格局。公司自主研发的第二代产品Bestda系列可支撑28纳米制程，第三代产品Aspen系列可支撑先进制程，达到国际先进
水平，填补国内空白。公司研发的最新一代等离子体射频电源系统Cedar系列产品，锚定更先进制程前沿领域，目前处于
验证阶段。
问题：公司产品远程等离子体源（RPS）的应用场景
回答: 远程等离子体源是一种用于产生等离子体的装置，其特点是等离子体的产生腔与晶圆所在的反应腔隔离，故名
“远程”。远程等离子体源常用于薄膜沉积后的反应腔清洗，也可以用于薄膜沉积，例如FCVD 或 PEALD。
问题：公司有自主研发真空泵及质量流量计的计划吗？
回答：真空泵与质量流量计均属于公司引进业务。公司已启动了质量流量计的自研工作，争取加快自研质量流量计的
研发落地和出货，以引进业务带动自研产品的验证和销售。公司募投项目“研发与前沿技术创新中心项目”也将进行下一
代等离子体射频电源及匹配器、电源类新品、质量流量计、等离子体设备相关衍生产品等产品及技术的研究。
问题：公司产品的技术先进性如何？
回答：公司产品技术先进性获得了业界多家研究机构、半导体设备厂商的认可，包括获得国家工业信息安全发展研究
中心出具的《科学技术成果评价报告》、北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司出具的《晶圆厂应用及核心技术水
平认证报告》、广东省电源学会出具的《科学技术成果鉴定证书》、拓荆科技的《关于深圳市恒运昌真空技术股份有限公
司核心技术水平的评估》及《应用证明》、中微公司的《恒运昌 Aspen 射频电源应用证明》、微导纳米、江苏鲁汶仪器
股份有限公司的《应用证明》。
问题：沈阳半导体射频电源系统产业化建设项目、半导体与真空装备核心零部件智能生产运营基地项目、研发与前沿
技术创新中心项目发展方向分别是怎样的？
回答：“沈阳半导体射频电源系统产业化建设项目”主要开展半导体级等离子体射频电源系统产品的生产和销售，统
筹区域内优势资源，健全总部与子公司之间的分工合作机制。项目在建设完成后，将进一步提升半导体级等离子体射频电
源系统的生产能力，扩展公司在北方地区的业务服务范围，增加北方地区的客户覆盖深度。“半导体与真空装备核心零部
件智能化生产运营基地项目”、“研发与前沿技术创新中心项目”系在现有产品和核心技术的基础上，进一步丰富和拓展
低频大功率等离子体射频电源、PVD 直流溅射电源、远程等离子体源等产品，增加公司研发产品储备，并根据下游客户需
求快速形成产品和解决方案，拓展光伏、显示面板、精密光学等领域的客户。同时，也将对现有产品的频率、功率覆盖范
围进一步升级，与公司主营业务紧密相关。
问题：公司后续是否有出海计划？
回答：公司将加速推进境外业务拓展，拓展中国大陆以外的市场，包括优先组建中国台湾、欧洲的销售网络，布局相
关地区客户，实现产品在中国大陆区域以外的销售，助力半导体设备核心零部件从“引进来”到“走出去”。
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