公司报道☆ ◇688785 恒运昌 更新日期：2026-09-15◇ 通达信沪深京F10
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2026-09-04 20:00│恒运昌(688785)2026年9月4日投资者关系活动主要内容
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1. 请问公司2026半年度的业绩情况如何？
回答：报告期内，公司实现营业收入 27,836.07 万元，主要系公司部分客户根据自身经营及生产节奏动态调整对公司的采购进
度。公司作为半导体核心零部件企业，订单一般随客户验证及量产逐步释放，公司一方面根据市场需求释放速度及公司发展规划进行
了适度的产能预增，另一方面积极推进新技术突破和重点客户新产品研发与验证导入。公司归属于上市公司股东的净利润及归属于上
市公司股东的扣除非经常性损益的净利润分别为5,235.05万元、5,033.52万元，除前述营业收入略有下降外，主要系公司全面提升运
营管理水平，持续推进研发投入和各类型人才引进，导致相关人员费用有所增长；同时受政府补助较去年同期减少以及公司按照会计
准则要求计提相应的资产减值损失增加所影响。结合公司截至报告期末的在手订单情况及下半年产能布局，公司2026年营收有望保持
良好态势。
2. 请介绍一下公司最新一代产品Cedar系列及其他新产品的研发进展
回答：Cedar系列将射频电源和匹配器整合为一体化平台，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支
撑更先进制程。截至2026上半年，公司第四代等离子体射频电源系统Cedar系列的部分机型已小批量试产；公司对MFC传感器的研发已
处于样品改造升级阶段；公司于报告期内新增一在研项目AI Model-Based RF ImpedanceMatching System，截至报告期末处于完成模
型开发并持续完善中的阶段。报告期内，公司持续推进自研产品矩阵中等离子体射频电源系统（等离子体射频电源及匹配器）、远程
等离子体源、射频离子源、等离子体直流电源、滤波器、阻抗调整器等产品项目的进度。公司将持续加大技术研发投入、积极拓展技
术应用领域，探索更多行业场景，形成多元化产品矩阵，并致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司
。
3. 请介绍一下公司报告期内的研发进展
回答：公司一直以来高度重视研发工作，结合行业发展趋势和客户需求持续推进技术创新，不断加大研发投入。报告期内，公司
研发费用4,575.24 万元，同比增长 5.64%，占营业收入比例达 16.44%；截至报告期末，公司研发人员达164人。截至报告期末，公
司已授权专利共345 项，包括发明专利 144 项，实用新型专利 98 项，外观设计专利103 项。报告期内，公司新增一项产品化支撑
技术“匹配器宽频扫频匹配技术”。公司不断通过内生研发优化现有产品并拓宽产品品类，不断完善研发管理机制和创新激励机制，
优化研发环境；同时，密切追踪最新的技术及发展趋势，开展对先进技术、先进工艺的研究，为技术突破和产品升级提供重要的基础
和保障。
4. 请介绍一下公司报告期内的客户拓展情况
回答：报告期内，公司实现营业收入 27,836.07 万元，包括自研产品24,272.21 万元，公司营收结构以现有头部客户为主；同
时，屹唐股份、菲沃泰等新客户也在逐步导入放量中。报告期内，公司所承接的研发产品数量不断扩大。随着合作产品数量尤其是验
证导入中的产品数量的不断增加，公司主要客户的新增定制需求均在不断增加。公司将持续加大研发投入力度，承接更多客户的需求
。
5. 请介绍一下公司上游元器件国产化的最新进展？
回答：公司等离子体射频电源系统等自研产品所使用的主要原材料包括电容、电阻、芯片等电子元器件、功率模块等电气件以及
钣金件等结构件。自 2021 年起，公司先后实现真空电容、陶瓷电容等元器件的国产化应用。公司结合产品设计，在采购中积极推进
国产化率的提升，注重使用本土元器件，以促进国产替代。
6. 请介绍一下公司报告期内的产能情况及产能未来布局？
回答：公司2024 年度、2025 年度、2026 半年度的产能利用率分别达到 111.24%、98.51%、102.46%。公司通过多个措施提升产
能：截至2026年7月底，子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司已通过客户验厂，下半年将逐步释放产能。公司将持续助力其实现
从试产到量产的转换；公司也在同时推进深圳产能建设，包括不断挖掘现有产能潜力、新增租赁场地以扩大产能建设。未来，公司将
重点推进半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定
基础。
7. 请介绍一下公司募投项目的最新进展？
回答：报告期内，沈阳半导体射频电源系统产业化建设项目按计划稳步推进中；截至2026半年度报告披露日，该项目已通过客户
验厂审核。营销及技术支持中心项目中的北京恒运昌已处于正式运营阶段，上海恒运昌、武汉恒运昌分别于 2026 年 4 月及 7 月注
册成立。半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目、研发与前沿技术创新中心项目和营销及技术支持中心项目的合肥中
心处于前期准备阶段。公司将密切关注行业发展趋势及市场需求变化，在确保项目质量与预期效益的前提下，加快推进募投项目建设
。
8. 请介绍一下公司的“2026年限制性股票激励计划”？
回答：为完善长效激励机制，吸引和留住优秀人才，充分调动核心员工工作积极性和创造性，公司制定了 2026 年限制性股票激
励计划。本激励计划首次授予的激励对象人数为 82 人，占公司（含子公司）2025年员工总人数的20.25%，均为公司（含子公司）核
心员工。本次激励计划设置公司层面业绩考核，首次授予的限制性股票归属对应的考核年度为2026年-2029年四个会计年度，业绩考
核目标设置主要综合考虑公司所处行业发展趋势、当前在手订单情况、产能建设情况及供应链国产化应用情况等因素。本期激励计划
是公司上市后的首次激励，公司希望将激励作为常态化机制，通过长效激励实现股东、公司与员工利益深度绑定，吸引并留存核心人
才，激发团队内生动力，共同推动公司长远发展。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202609/202609071917051217972724.pdf
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2026-09-03 19:11│恒运昌(688785)拟推2026年限制性股票激励计划
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智通财经APP讯，恒运昌(688785.SH)披露2026年限制性股票激励计划(草案)，授予限制性股票共计32.6875万股，占激励计划公
告之日公司股本总额的0.4828%。其中，首次授予26.1500万股，首次授予的激励对象不超过82人，授予价格为144.89元/股。
http://www.zhitongcaijing.com/content/detail/1491686.html
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2026-08-30 18:07│图解恒运昌中报：第二季度单季净利润同比增长1.31%
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恒运昌2026年中报显示，上半年营收2.78亿元，同比下降8.45%，归母净利润5235万元，降幅24.51%。其中第二季度单季营收1.5
4亿元，同比下降5.29%；归母净利润3476.77万元，同比增长1.31%，表现优于上半年整体水平。公司负债率5.38%，毛利率49.89%。
整体来看，虽上半年业绩承压，但二季度利润端出现修复性增长，经营态势逐步企稳。...
https://stock.stockstar.com/RB2026083000013129.shtml
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2026-08-30 15:56│恒运昌(688785)：上半年净利润5235.05万元 同比减少24.51%
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格隆汇8月30日丨恒运昌(688785.SH)发布2026年半年度报告，报告期内，实现营业收入2.78亿元，同比减少8.45%；归属于上市
公司股东的净利润5235.05万元，同比减少24.51%；归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润5033.52万元，同比减少22.28%
；基本每股收益0.81元。
https://www.gelonghui.com/news/5301300
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2026-08-14 11:34│恒运昌(688785)2026年8月14日投资者关系活动主要内容
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1. 请问公司目前的营收结构、在手订单及客户拓展情况如何？
回答：2025年公司实现营业收入约 5.29 亿元，以自研产品的收入为主，主要客户为拓荆科技、宏大真空、中微公司、北方华创
、微导纳米等。2026年一季度公司实现营业收入 1.24 亿元。截至公司2025年年度报告披露日，公司持有尚未交付的在手订单共约 1
.57亿元。公司将充分发挥研发和技术优势，结合市场发展前景和客户需求，不断进行新产品的研发设计，结合公司丰富的技术和生
产经验，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高的产品，推进公司长期稳
定发展。同时，公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的拓展，不断提升公司产品性能与质量，并拓宽
公司产品品类，致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司，助力公司长期稳定发展。公司2026年半年
度业务情况届时请留意公司后续披露的2026年半年报。
2. 请介绍一下公司自研产品的生产经营模式
回答：公司的自研产品等离子体射频电源系统等主要采取以销定产的生产模式，根据供货要求、产品生产周期、销售预测等因素
对生产排期和物料管理进行统筹安排，协调生产、采购和仓储等相关部门保障生产的有序进行。公司的生产流程主要是部件加工及装
配、软件烧录、检测和工艺调试等，由制造中心对原材料进行装配、 线路连接、产品测试，确保产品性能稳定之后封装入库。
3. 请介绍一下等离子体射频电源系统的特点
回答：等离子体射频电源系统被广泛应用于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶、键合等环节，也被应用于光
伏电池片的薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节。等离子体射频电源系统定制化程度较高，
在公司与下游设备厂商合作过程中，一般由下游客户向公司提供产品技术指标要求和功能要求，公司根据客户需求自主研发新产品并
制作样机供下游客户验证。
4. 请介绍一下公司等离子体射频电源系统及其他新产品的研发进展
回答：历经十年，公司先后推出 CSL、Bestda、Aspen/Basalt 三代产品系列。公司第一代产品CSL系列可支持工业级制程，主要
用于一般工业领域；公司第二代产品Bestda系列可支撑成熟制程，主要面向半导体领域；第三代产品Aspen/Basalt系列可支撑先进制
程，主要面向半导体领域。截至2025年年底，公司第四代产品 Cedar 系列等离子体射频电源系统处于验证状态，该产品将射频电源
和匹配器整合为一体化平台，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支撑更先进制程。截至2025年年底，
公司对MFCMEMS传感器的研发已处于完成初样流片及搭载测试平台阶段。结合公司未来发展规划，在产品布局方面，公司将采取双轮
驱动发展策略，通过内生研发，持续优化现有产品，提升性能与质量，并拓宽产品品类；同时，公司未来将借助外部并购等战略举措
，以进一步增强等离子体工艺核心零部件的供应能力，为客户提供一站式的产品和服务，致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部
件整体解决方案的平台型公司。
5. 请介绍一下公司目前的竞争优势
回答：（1）技术优势：经过十多年的持续正向研发、不断创新和积累，公司建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术体系，
一方面从测量、控制及架构三方面构建的底层通用的 3 大基石技术，并基于基石技术，结合半导体设备中应用，特别是先进制程中
更快速、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点，发展出 8 大产品化支撑技术，实现了突破高端等离子体射频电源系统的先进设计
、测量和控制等难题，掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键技术。（
2）产品优势：半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求，等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳定和可重复的生产
工艺，且需经过精密的校准和严格的测试流程，以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下，公司已具备成熟的规模化量产
能力，并成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。（3）团队优势：截至2025年年底，公司研发人员数量为158人。
同时，公司汇聚了一支在等离子体射频电源系统及半导体核心零部件行业拥有二十年以上从业经验的团队。团队成员不仅在技术研发
方面拥有卓越的能力和敏锐的洞察力，对半导体行业具有深刻理解和具有丰富的实践经验。
6. 请介绍一下公司目前的产能情况及产能未来布局
回答：2025年公司产能利用率达 98.51%。公司通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司
的建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公司未来将逐步推进半导体与真空装
备核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定基础。
7. 请介绍一下公司未来的发展规划
回答：（1）持续研发与创新，保持和提高技术先进性，不断提升工艺水平和产品性能。公司将始终以客户需求作为技术研发导
向，密切追踪最新的技术及发展趋势，持续增加研发投入，不断完善研发管理机制和创新激励机制。公司将不断丰富公司产品和技术
储备，持续推进产品的更新迭代，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高
的产品。在产品布局方面，公司将采取双轮驱动策略。通过内生研发和择机对外收购的方式，持续优化现有产品，提升性能与质量，
并拓宽产品品类。
（2）充分借力资本市场，重点加强先进产品产能建设。公司将在现有生产模式的基础上，在沈阳建设半导体射频电源系统产业
化中心，在深圳扩建半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地，引进性能更优、智能化水平更高、更先进的生产制造设备、
测试设备及仓储系统，并结合生产车间及数据管理系统软件，实现生产制造、经营、管理和决策的智能优化。
（3）以客户为中心，提升技术服务，加强多元化市场开拓。公司始终以客户为中心，密切关注客户需求，强化与客户设计研发
的沟通合作，持续收集下游行业市场与技术动态信息；同时，进一步加强公司技术销售与技术服务，重点加大培养既懂专业技术又有
销售服务能力的技术精英，确保公司在产品技术路线交流、销售、服务、信息反馈等环节为客户提供专业化的技术支持服务和解决方
案。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202608/2026081811190551389151609.pdf
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2026-08-13 20:00│恒运昌(688785)2026年8月13日投资者关系活动主要内容
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1. 请问公司目前的营收结构、在手订单及客户拓展情况如何？
回答：2025年公司实现营业收入约 5.29 亿元，以自研产品的收入为主，主要客户为拓荆科技、宏大真空、中微公司、北方华创
、微导纳米等。2026年一季度公司实现营业收入 1.24 亿元。截至公司2025年年度报告披露日，公司持有尚未交付的在手订单共约 1
.57亿元。公司将充分发挥研发和技术优势，结合市场发展前景和客户需求，不断进行新产品的研发设计，结合公司丰富的技术和生
产经验，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高的产品，推进公司长期稳
定发展。同时，公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的拓展，不断提升公司产品性能与质量，并拓宽
公司产品品类，致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司，助力公司长期稳定发展。公司2026年半年
度业务情况届时请留意公司后续披露的2026年半年报。
2. 请介绍一下公司自研产品的生产经营模式
回答：公司的自研产品等离子体射频电源系统等主要采取以销定产的生产模式，根据供货要求、产品生产周期、销售预测等因素
对生产排期和物料管理进行统筹安排，协调生产、采购和仓储等相关部门保障生产的有序进行。公司的生产流程主要是部件加工及装
配、软件烧录、检测和工艺调试等，由制造中心对原材料进行装配、 线路连接、产品测试，确保产品性能稳定之后封装入库。
3. 请介绍一下等离子体射频电源系统的特点
回答：等离子体射频电源系统被广泛应用于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶、键合等环节，也被应用于光
伏电池片的薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节。等离子体射频电源系统定制化程度较高，
在公司与下游设备厂商合作过程中，一般由下游客户向公司提供产品技术指标要求和功能要求，公司根据客户需求自主研发新产品并
制作样机供下游客户验证。
4. 请介绍一下公司等离子体射频电源系统及其他新产品的研发进展
回答：历经十年，公司先后推出 CSL、Bestda、Aspen/Basalt 三代产品系列。公司第一代产品CSL系列可支持工业级制程，主要
用于一般工业领域；公司第二代产品Bestda系列可支撑成熟制程，主要面向半导体领域；第三代产品Aspen/Basalt系列可支撑先进制
程，主要面向半导体领域。截至2025年年底，公司第四代产品 Cedar 系列等离子体射频电源系统处于验证状态，该产品将射频电源
和匹配器整合为一体化平台，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支撑更先进制程。截至2025年年底，
公司对MFCMEMS传感器的研发已处于完成初样流片及搭载测试平台阶段。结合公司未来发展规划，在产品布局方面，公司将采取双轮
驱动发展策略，通过内生研发，持续优化现有产品，提升性能与质量，并拓宽产品品类；同时，公司未来将借助外部并购等战略举措
，以进一步增强等离子体工艺核心零部件的供应能力，为客户提供一站式的产品和服务，致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部
件整体解决方案的平台型公司。
5. 请介绍一下公司目前的竞争优势
回答：（1）技术优势：经过十多年的持续正向研发、不断创新和积累，公司建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术体系，
一方面从测量、控制及架构三方面构建的底层通用的 3 大基石技术，并基于基石技术，结合半导体设备中应用，特别是先进制程中
更快速、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点，发展出 8 大产品化支撑技术，实现了突破高端等离子体射频电源系统的先进设计
、测量和控制等难题，掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键技术。（
2）产品优势：半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求，等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳定和可重复的生产
工艺，且需经过精密的校准和严格的测试流程，以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下，公司已具备成熟的规模化量产
能力，并成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。（3）团队优势：截至2025年年底，公司研发人员数量为158人。
同时，公司汇聚了一支在等离子体射频电源系统及半导体核心零部件行业拥有二十年以上从业经验的团队。团队成员不仅在技术研发
方面拥有卓越的能力和敏锐的洞察力，对半导体行业具有深刻理解和具有丰富的实践经验。
6. 请介绍一下公司目前的产能情况及产能未来布局
回答：2025年公司产能利用率达 98.51%。公司通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司
的建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公司未来将逐步推进半导体与真空装
备核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定基础。
7. 请介绍一下公司未来的发展规划
回答：（1）持续研发与创新，保持和提高技术先进性，不断提升工艺水平和产品性能。公司将始终以客户需求作为技术研发导
向，密切追踪最新的技术及发展趋势，持续增加研发投入，不断完善研发管理机制和创新激励机制。公司将不断丰富公司产品和技术
储备，持续推进产品的更新迭代，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高
的产品。在产品布局方面，公司将采取双轮驱动策略。通过内生研发和择机对外收购的方式，持续优化现有产品，提升性能与质量，
并拓宽产品品类。
（2）充分借力资本市场，重点加强先进产品产能建设。公司将在现有生产模式的基础上，在沈阳建设半导体射频电源系统产业
化中心，在深圳扩建半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地，引进性能更优、智能化水平更高、更先进的生产制造设备、
测试设备及仓储系统，并结合生产车间及数据管理系统软件，实现生产制造、经营、管理和决策的智能优化。
（3）以客户为中心，提升技术服务，加强多元化市场开拓。公司始终以客户为中心，密切关注客户需求，强化与客户设计研发
的沟通合作，持续收集下游行业市场与技术动态信息；同时，进一步加强公司技术销售与技术服务，重点加大培养既懂专业技术又有
销售服务能力的技术精英，确保公司在产品技术路线交流、销售、服务、信息反馈等环节为客户提供专业化的技术支持服务和解决方
案。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202608/2026081811190551389151609.pdf
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2026-08-04 20:00│恒运昌(688785)2026年8月4日投资者关系活动主要内容
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1. 请问从技术上看，公司的产品有什么优势？
答：经过十多年的持续研发、不断创新和积累，公司以技术发展、行业需求为双导向，建立了“基石技术+产品化支撑技术”的
技术体系，一方面从测量、控制及架构构建的底层通用的3大基石技术，并基于基石技术，结合半导体设备中应用，特别是先进制程
中更快速、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点，发展出8大产品化支撑技术，实现了突破高端等离子体射频电源系统的先进设计
、测量和控制等难题，掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键技术。截
至2025年年底，公司已授权专利共 296 项，包括发明专利 123 项，实用新型专利 72 项，外观设计专利 101 项。截至 2025 年年
底，公司已累计申请 490 项专利，其中发明专利 262 项，占比 53.47%。
2. 请问公司产品的验证周期大概需要多久时间？
答：半导体行业遵循“一代技术、一代工艺、一代设备”的产业规律，等离子体射频电源系统等核心部件需要得到半导体设备商
及晶圆厂的双重验证，需要经历功能验证、上机验证、工艺验证、晶圆厂生产验证等多个验证环节，验证程序复杂、验证难度大、验
证周期长。公司早在2018年与拓荆科技率先开展等离子体射频电源系统的国产化开发及验证工作，历经2年多的合作验证，产品于202
0年下半年开始逐步批量交付拓荆科技。近年来，国内晶圆厂及半导体装备商均加速核心零部件国产化，所有半导体装备商的验证周
期都在同步压缩，同一客户其他系列产品的验证时间也相应减少，公司产品的整体认证周期也逐步缩短。
截至2025年年底，公司第四代等离子体射频电源系统 Cedar 系列处于验证状态，该产品将射频电源和匹配器整合为一体化平台
，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支撑更先进制程。
3. 请问公司的射频电源和匹配器都是配套出售的吗？
答：客户可根据自身需求，单独向公司采购等离子体射频电源或匹配器，亦可以同时采购等离子体射频电源和配套的匹配器。此
外，公司等离子体射频电源无需与同系列的匹配器产品配套使用，同系列中的等离子体射频电源和匹配器亦不会有固定的配套关系。
4. 请问2026年一季度营收下降原因？
答：2026年一季度，公司实现营业收入1.24 亿元，同比下滑的主要原因是半导体行业具有周期波动的特性，下游半导体设备客
户的采购量需依据自身承接的晶圆厂订单数量、产品验证导入进度及交付验收节奏动态调整，进而导致对公司的采购呈现波动；公司
实现归属于上市公司股东的净利润 1,758.28 万元，同比下滑的主要原因是公司全面提升公司运营管理，并持续推进研发投入和各类
型人才引进，同时政府补助相对去年同期减少，且公司按照会计准则要求计提相应的资产减值损失。截至公司2026年第一季度报告披
露日，公司在手订单共约1.57亿元。公司将充分发挥研发和技术优势，结合市场发展前景和客户需求，加快推动更先进工艺制程等离
子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高的产品，推进公司长期稳定发展。
5. 请问2025年研发投入增长的原因？
答：2025年，公司研发费用较上年同期增长 45.01%，研发投入金额达到8,015.92 万元，主要是因为研发费用中的人工费同比增
长61.43%，公司持续加大研发投入力度，提高技术指标要求，推进新产品开发、产品持续升级迭代等，不断加强产品竞争力。
6. 请介绍一下公司目前的产能情况及产能未来布局
答：2025年公司产能利用率达 98.51%。公司通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司的
建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公司未来将逐步推进半导体与真空装备
核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定基础。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202608/2026080515420101540990815.pdf
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2026-07-30 20:00│恒运昌(688785)2026年7月30日投资者关系活动主要内容
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1. 请问公司目前的营收结构、在手订单及客户拓展情况如何？
回答：2025年公司实现营业收入约 5.29 亿元，以来自自研产品的收入为主，主要客户为拓荆科技、宏大真空、中微公司、北方
华创、微导纳米等。2026年一季度公司实现营业收入 1.24 亿元。截至公司2025年年度报告披露日，公司持有尚未交付的在手订单共
约 1.57 亿元。公司将充分发挥研发和技术优势，结合市场发展前景和客户需求，不断进行新产品的研发设计，结合公司丰富的技术
和生产经验，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高的产品，推进公司长
期稳定发展。同时，公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的拓展，不断提升公司产品性能与质量，并
拓宽公司产品品类，致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司，助力公司长期稳定发展。
2. 请介绍一下公司自研产品的生产经营模式和产品特性
回答：公司的自研产品主要采取以销定产的生产模式，根据供货要求、产品生产周期、销售预测等因素对生产排期和物料管理进
行统筹安排，协调生产、采购和仓储等相关部门保障生产的有序进行。 公司的主要自研产品为等离子体射频电源系统，被广泛应用
于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶、键合等环节，也被应用于光伏电池片的薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光
学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节。同时，自研产品一般具有高度定制化的特点，需要根据客户的特定需求进行研发和生产
，公司需要与客户保持紧密的沟通和合作，以确保产品能够满足客户的实际需求。
3. 请问公司的射频电源和匹配器都是配套出售的吗？一个腔体需要多少个射频电源？
回答：客户可根据自身需求，单独向公司采购等离子体射频电源或匹配器，亦可以同时采购等离子体射频电源和配套的匹配器。
此外，公司等离子体射频电源无需与同系列的匹配器产品配套使用，同系列中的等离子体射频电源和匹配器亦不会有固定的配套关系
。同时，在不同的制程的产线中，每台设备的腔体数量有所不同，越先进制程的设备腔体数量更多，对射频电源的需求量也更大。
4. 请介绍一下公司引进产品的应用场景
回答：公司基于等离子体发生条件和反应腔真空环境的实际需求，引进用于获得和维持真空环境的真空泵、用于流体精确控制的
质量流量计以及用于真空镀膜装备的等离子体直流电源等核心零部件。公司引进产品和自研产品一同协作，共同为下游客户提供等离
子体工艺解决方案。
（1）真空泵：在半导体、工业镀膜等工艺中，将硅片或其他材料放入反应腔室后，需要使反应腔获得真空环境。真空泵是反应
腔获取真空环境的核心零部件，用于在反应腔中产生和维持真空环境。 （2）质量流量计：在反应腔获取真空环境后，需要向反应腔
室通入工艺气体，工艺气体被等离子体射频电源电离产生等离子体。此时需要通过质量流量计精确计量和输送。质量流量计是反应腔
供气系统的核心零部件，用于对气体等进行质量流量的测量和控制。
（3）等离子体直流电源：主要用于真空镀膜装备，即在反应腔内使用等离子体直流电源对靶材施加电压，使气体离子化，产生
等离子体。这些离子在电场的作用下加速并轰击靶材，溅射出原子或分子，最终沉积在基材上，完成镀膜。
5. 请介绍一下公司上游元器件的国产化进程
回答：公司已建立稳定、高质量的供应商体系，关注供应商经营资质、生产能力、技术水平、质量管控水平以及产品价格等多方
面因素，并结合响应速度、付款条件等对供应商进行综合评定，将符合要求的供应商列入合格供应商名录，并在供货阶段实行供应商
动态管理，筛选优质供应商，持续优化采购渠道。为保证生产的连续和稳定性，公司综合考虑原材料的采购周期、供应商的供货能力
、采购量起订门槛等因素，对常用材料建立安全库存机制。自 2021 年开始，公司先后在上游采购中实现了真空电容、陶瓷电容、MC
U 以及 SiC MOS、LDMOS、部分 ADC 和 FPGA 等元器件的国产化应用。公司目前已确定上游元器件的全国产化方案，将持续推进元器
件的全面国产化验证工作。
6. 请问2025年研发投入增长的原因？
回答：2025年，公司研发投入金额达到 8,015.92 万元，同比增长 45.01%，主要系公司研发投入中人工费同比增长61.43%，公
司持续加大研发投入力度，提高技术指标要求，推进新产品开发、产品持续升级迭代等，不断加强产品竞争力。
7. 请介绍一下公司目前的产能情况及产能未来布局
回答：2025年公司产能利用率达 98.51%。公司通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司
的建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公司未来将逐步推进半导体与真空装
备核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定基础。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202607/202607311443044835234171.pdf
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2026-07-29 14:50│恒运昌(688785)2026年7月29日投资者关系活动主要内容
─────────┴────────────────────────────────────────────────
1. 请问公司目前的营收结构、在手订单及客户拓展情况如何？
回答：2025年公司实现营业收入约 5.29 亿元，以来自自研产品的收入为主，主要客户为拓荆科技、宏大真空、中微公司、北方
华创、微导纳米等。2026年一季度公司实现营业收入 1.24 亿元。截至公司2025年年度报告披露日，公司持有尚未交付的在手订单共
约 1.57 亿元。公司将充分发挥研发和技术优势，结合市场发展前景和客户需求，不断进行新产品的研发设计，结合公司丰富的技术
和生产经验，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高的产品，推进公司长
期稳定发展。同时，公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的拓展，不断提升公司产品性能与质量，并
拓宽公司产品品类，致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司，助力公司长期稳定发展。
2. 请介绍一下公司自研产品的生产经营模式和产品特性
回答：公司的自研产品主要采取以销定产的生产模式，根据供货要求、产品生产周期、销售预测等因素对生产排期和物料管理进
行统筹安排，协调生产、采购和仓储等相关部门保障生产的有序进行。 公司的主要自研产品为等离子体射频电源系统，被广泛应用
于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶、键合等环节，也被应用于光伏电池片的薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光
学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节。同时，自研产品一般具有高度定制化的特点，需要根据客户的特定需求进行研发和生产
，公司需要与客户保持紧密的沟通和合作，以确保产品能够满足客户的实际需求。
3. 请问公司的射频电源和匹配器都是配套出售的吗？一个腔体需要多少个射频电源？
回答：客户可根据自身需求，单独向公司采购等离子体射频电源或匹配器，亦可以同时采购等离子体射频电源和配套的匹配器。
此外，公司等离子体射频电源无需与同系列的匹配器产品配套使用，同系列中的等离子体射频电源和匹配器亦不会有固定的配套关系
。同时，在不同的制程的产线中，每台设备的腔体数量有所不同，越先进制程的设备腔体数量更多，对射频电源的需求量也更大。
4. 请介绍一下公司引进产品的应用场景
回答：公司基于等离子体发生条件和反应腔真空环境的实际需求，引进用于获得和维持真空环境的真空泵、用于流体精确控制的
质量流量计以及用于真空镀膜装备的等离子体直流电源等核心零部件。公司引进产品和自研产品一同协作，共同为下游客户提供等离
子体工艺解决方案。
（1）真空泵：在半导体、工业镀膜等工艺中，将硅片或其他材料放入反应腔室后，需要使反应腔获得真空环境。真空泵是反应
腔获取真空环境的核心零部件，用于在反应腔中产生和维持真空环境。 （2）质量流量计：在反应腔获取真空环境后，需要向反应腔
室通入工艺气体，工艺气体被等离子体射频电源电离产生等离子体。此时需要通过质量流量计精确计量和输送。质量流量计是反应腔
供气系统的核心零部件，用于对气体等进行质量流量的测量和控制。
（3）等离子体直流电源：主要用于真空镀膜装备，即在反应腔内使用等离子体直流电源对靶材施加电压，使气体离子化，产生
等离子体。这些离子在电场的作用下加速并轰击靶材，溅射出原子或分子，最终沉积在基材上，完成镀膜。
5. 请介绍一下公司上游元器件的国产化进程
回答：公司已建立稳定、高质量的供应商体系，关注供应商经营资质、生产能力、技术水平、质量管控水平以及产品价格等多方
面因素，并结合响应速度、付款条件等对供应商进行综合评定，将符合要求的供应商列入合格供应商名录，并在供货阶段实行供应商
动态管理，筛选优质供应商，持续优化采购渠道。为保证生产的连续和稳定性，公司综合考虑原材料的采购周期、供应商的供货能力
、采购量起订门槛等因素，对常用材料建立安全库存机制。自 2021 年开始，公司先后在上游采购中实现了真空电容、陶瓷电容、MC
U 以及 SiC MOS、LDMOS、部分 ADC 和 FPGA 等元器件的国产化应用。公司目前已确定上游元器件的全国产化方案，将持续推进元器
件的全面国产化验证工作。
6. 请问2025年研发投入增长的原因？
回答：2025年，公司研发投入金额达到 8,015.92 万元，同比增长 45.01%，主要系公司研发投入中人工费同比增长61.43%，公
司持续加大研发投入力度，提高技术指标要求，推进新产品开发、产品持续升级迭代等，不断加强产品竞争力。
7. 请介绍一下公司目前的产能情况及产能未来布局
回答：2025年公司产能利用率达 98.51%。公司通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司
的建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公司未来将逐步推进半导体与真空装
备核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定基础。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202607/202607311443044835234171.pdf
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2026-07-10 15:54│恒运昌(688785)2026年7月10日投资者关系活动主要内容
─────────┴────────────────────────────────────────────────
1. 请问公司目前的营收结构、在手订单及客户拓展情况如何？
回答：2025年公司实现营业收入约 5.29 亿元，以来自自研产品的收入为主，主要客户为拓荆科技、宏大真空、中微公司、北方
华创、微导纳米等。截至公司2025年年度报告披露日，公司持有尚未交付的在手订单共约 1.57 亿元。公司将充分发挥研发和技术优
势，结合市场发展前景和客户需求，不断进行新产品的研发设计，结合公司丰富的技术和生产经验，加快推动更先进工艺制程等离子
体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高的产品，推进公司长期稳定发展。同时，公司还将积极推动主营业
务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的拓展，不断提升公司产品性能与质量，并拓宽公司产品品类，致力于成为围绕等离子体
工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司，助力公司长期稳定发展。
2. 请介绍一下公司产品等离子体射频电源系统的应用领域与产品特点
回答：公司的等离子体射频电源系统被广泛应用于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶、键合等环节，并应用
于光伏电池片的薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节。半导体行业遵循“一代技术、一代工
艺、一代设备”的产业规律，等离子体射频电源系统等核心部件需要得到设备商及晶圆厂的双重认证。同时，等离子体射频电源系统
定制化程度较高，在公司与下游设备厂商合作过程中，一般由下游客户向公司提供产品技术指标要求和功能要求，公司根据客户需求
自主研发新产品并制作样机供下游客户验证。
半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求，等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳定和可重复的生产工艺，且需
经过精密的校准和严格的测试流程，以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下，公司已具备成熟的规模化量产能力，并成
为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。历经十余年，公司先后推出 CSL、Bestda、Aspen/Basalt、Cedar 四代产品
系列等离子体射频电源系统。截至2025年年底，公司第四代等离子体射频电源系统 Cedar 系列处于验证状态，该产品将射频电源和
匹配器整合为一体化平台，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支撑更先进制程。
3. 请介绍一下公司的技术优势
回答：经过十多年的持续正向研发、不断创新和积累，公司建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术体系，一方面从测量、
控制及架构三方面构建的底层通用的 3 大基石技术，并基于基石技术，结合半导体设备中应用，特别是先进制程中更快速、更精准
、更稳定的应用诉求和实现难点，发展出 8 大产品化支撑技术，实现了突破高端等离子体射频电源系统的先进设计、测量和控制等
难题，掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键技术。截至2025年年底，
公司已授权专利共 296 项，包括发明专利 123 项，实用新型专利 72 项，外观设计专利 101 项。截至 2025 年年底，公司已累计
申请 490 项专利，其中发明专利 262 项，占比 53.47%。
4. 请介绍一下等离子体射频电源系统的市场格局
回答：等离子体射频电源系统行业在多个下游应用领域中发挥着重要作用，包括半导体、光伏、显示面板、光学镀膜、医疗设备
和科研仪器等；其中，半导体是中国大陆等离子体射频电源系统行业最大的下游应用领域。2024 年，中国大陆等离子体射频电源系
统市场规模达120.4亿元。中国大陆半导体行业等离子体射频电源系统的市场仍呈现海外巨头高度垄断的竞争格局。根据弗若斯特沙
利文统计，2024年，中国大陆半导体领域等离子体射频电源系统的国产化率不足12%。
5. 请介绍一下公司目前的产能情况及未来产能布局
回答：2025年公司产能利用率达98.51%。公司通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司的
建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公司未来将逐步推进半导体与真空装备
核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定基础。
6. 公司海外客户的拓展情况如何？公司后续是否有出海计划？
回答：截至2025年底，公司境外收入占2025年营业收入中的极少部分。公司于2025年11月在德国设立全资子公司。在未来发展规
划上，德国恒运昌将作为恒运昌全球化布局中的重要战略支点，承担海外研发、技术融合、市场拓展三大职能，助力半导体设备核心
零部件从“引进来”到“走出去”。截至2025年底，公司也获得了部分海外专利。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202607/2026071315050511492313751.pdf
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2026-07-09 20:00│恒运昌(688785)2026年7月9日投资者关系活动主要内容
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1. 请问公司目前的营收结构、在手订单及客户拓展情况如何？
回答：2025年公司实现营业收入约 5.29 亿元，以来自自研产品的收入为主，主要客户为拓荆科技、宏大真空、中微公司、北方
华创、微导纳米等。截至公司2025年年度报告披露日，公司持有尚未交付的在手订单共约 1.57 亿元。公司将充分发挥研发和技术优
势，结合市场发展前景和客户需求，不断进行新产品的研发设计，结合公司丰富的技术和生产经验，加快推动更先进工艺制程等离子
体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高的产品，推进公司长期稳定发展。同时，公司还将积极推动主营业
务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的拓展，不断提升公司产品性能与质量，并拓宽公司产品品类，致力于成为围绕等离子体
工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司，助力公司长期稳定发展。
2. 请介绍一下公司产品等离子体射频电源系统的应用领域与产品特点
回答：公司的等离子体射频电源系统被广泛应用于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶、键合等环节，并应用
于光伏电池片的薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节。半导体行业遵循“一代技术、一代工
艺、一代设备”的产业规律，等离子体射频电源系统等核心部件需要得到设备商及晶圆厂的双重认证。同时，等离子体射频电源系统
定制化程度较高，在公司与下游设备厂商合作过程中，一般由下游客户向公司提供产品技术指标要求和功能要求，公司根据客户需求
自主研发新产品并制作样机供下游客户验证。
半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求，等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳定和可重复的生产工艺，且需
经过精密的校准和严格的测试流程，以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下，公司已具备成熟的规模化量产能力，并成
为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。历经十余年，公司先后推出 CSL、Bestda、Aspen/Basalt、Cedar 四代产品
系列等离子体射频电源系统。截至2025年年底，公司第四代等离子体射频电源系统 Cedar 系列处于验证状态，该产品将射频电源和
匹配器整合为一体化平台，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支撑更先进制程。
3. 请介绍一下公司的技术优势
回答：经过十多年的持续正向研发、不断创新和积累，公司建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术体系，一方面从测量、
控制及架构三方面构建的底层通用的 3 大基石技术，并基于基石技术，结合半导体设备中应用，特别是先进制程中更快速、更精准
、更稳定的应用诉求和实现难点，发展出 8 大产品化支撑技术，实现了突破高端等离子体射频电源系统的先进设计、测量和控制等
难题，掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键技术。截至2025年年底，
公司已授权专利共 296 项，包括发明专利 123 项，实用新型专利 72 项，外观设计专利 101 项。截至 2025 年年底，公司已累计
申请 490 项专利，其中发明专利 262 项，占比 53.47%。
4. 请介绍一下等离子体射频电源系统的市场格局
回答：等离子体射频电源系统行业在多个下游应用领域中发挥着重要作用，包括半导体、光伏、显示面板、光学镀膜、医疗设备
和科研仪器等；其中，半导体是中国大陆等离子体射频电源系统行业最大的下游应用领域。2024 年，中国大陆等离子体射频电源系
统市场规模达120.4亿元。中国大陆半导体行业等离子体射频电源系统的市场仍呈现海外巨头高度垄断的竞争格局。根据弗若斯特沙
利文统计，2024年，中国大陆半导体领域等离子体射频电源系统的国产化率不足12%。
5. 请介绍一下公司目前的产能情况及未来产能布局
回答：2025年公司产能利用率达98.51%。公司通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司的
建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公司未来将逐步推进半导体与真空装备
核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定基础。
6. 公司海外客户的拓展情况如何？公司后续是否有出海计划？
回答：截至2025年底，公司境外收入占2025年营业收入中的极少部分。公司于2025年11月在德国设立全资子公司。在未来发展规
划上，德国恒运昌将作为恒运昌全球化布局中的重要战略支点，承担海外研发、技术融合、市场拓展三大职能，助力半导体设备核心
零部件从“引进来”到“走出去”。截至2025年底，公司也获得了部分海外专利。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202607/2026071315050511492313751.pdf
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2026-07-01 20:00│恒运昌(688785)2026年7月1日投资者关系活动主要内容
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公司于2026年6月24日协办“沪市ETF财富管理基地行——走进恒运昌”活动。投资者参观了公司，管理层介绍了公司的基本情况
。
1. 请问公司目前的在手订单及客户拓展情况如何？
回答：截至公司2025年年度报告披露日，公司持有尚未交付的在手订单共约 1.57 亿元。公司将充分发挥研发和技术优势，结合
市场发展前景和客户需求，不断进行新产品的研发设计，结合公司丰富的技术和生产经验，积极响应拓荆科技、中微公司、北方华创
、微导纳米、北京屹唐等行业头部半导体设备商需求，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性
能更优、可靠性更高的产品，推进公司长期稳定发展。同时，公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的
拓展，不断提升公司产品性能与质量，并拓宽公司产品品类，助力公司长期稳定发展。
2. 请介绍一下历代等离子体射频电源系统及其他新产品的研发进展
回答：等离子体射频电源系统作为薄膜沉积设备、刻蚀设备、清洗去胶设备等半导体设备的核心零部件，技术要求极高，包括在
纳米尺寸级别上精准控制等离子体的刻蚀过程、在纳秒时间级别上和复杂环境中精准且稳定地控制等离子体的变化。技术要求极高主
要由于其直接关系到薄膜沉积、刻蚀、清洗等环节中等离子体的浓度、均匀性和稳定性等，进而影响晶圆制造工艺的能力、良率和效
率。历经十年，公司先后推出 CSL、Bestda、Aspen/Basalt 三代产品系列。公司第一代产品CSL系列可支持工业级制程，主要用于光
伏电池片薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜等一般工业领域；公司第二代产品Bestda系列可支撑成熟制程，主要面向半导体领
域；第三代产品Aspen/Basalt系列可支撑先进制程，主要面向半导体领域。
截至2025年年底，公司第四代产品 Cedar 系列等离子体射频电源系统处于验证状态，该产品将射频电源和匹配器整合为一体化
平台，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支撑更先进制程。截至2025年年底，公司对MFC MEMS传感器
的研发已处于完成初样流片及搭载测试平台阶段。结合公司未来发展规划，在产品布局方面，公司将采取双轮驱动发展策略，通过内
生研发，持续优化现有产品，提升性能与质量，并拓宽产品品类；同时，公司未来将借助外部并购等战略举措，以进一步增强等离子
体工艺核心零部件的供应能力，为客户提供一站式的产品和服务，致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台
型公司。
3. 请介绍一下等离子体射频电源系统的国内同行情况与公司的竞争优势
回答：中国大陆半导体行业等离子体射频电源系统的市场仍呈现海外巨头高度垄断的竞争格局。根据弗若斯特沙利文统计，2024
年，中国大陆半导体领域等离子体射频电源系统的国产化率不足12%；2024年，在中国大陆半导体行业国产等离子体射频电源系统厂
商中，恒运昌的市场份额位列第一。国内同行企业还有成都英杰晨晖科技有限公司、北京华丞电子股份有限公司等。
公司的竞争优势如下：
（1）技术优势：经过十多年的持续正向研发、不断创新和积累，公司建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术体系，一方面
从测量、控制及架构三方面构建的底层通用的 3 大基石技术，并基于基石技术，结合半导体设备中应用，特别是先进制程中更快速
、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点，发展出 8 大产品化支撑技术，实现了突破高端等离子体射频电源系统的先进设计、测量
和控制等难题，掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键技术。截至2025
年年底，公司已授权专利共 296 项，包括发明专利 123 项，实用新型专利 72项，外观设计专利 101 项。截至 2025 年年底，公司
已累计申请490 项专利，其中发明专利 262 项，占比 53.47%。
（2）产品优势：半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求，等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳定和可重复
的生产工艺，且需经过精密的校准和严格的测试流程，以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下，公司已具备成熟的规模
化量产能力，并成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。
（3）团队优势：截至2025年年底，公司员工总数为405人。研发人员数量为158人，其中学历本科及以上研发人员占研发人员总
数的84.81%。同时，公司汇聚了一支在等离子体射频电源系统及半导体核心零部件行业拥有二十年以上从业经验的团队。团队成员不
仅在技术研发方面拥有卓越的能力和敏锐的洞察力，对半导体行业具有深刻理解和具有丰富的实践经验。
4. 请具体介绍一下公司引进产品种类
回答：公司基于等离子体发生条件和反应腔真空环境的实际需求，引进用于获得和维持真空环境的真空泵、用于流体精确控制的
质量流量计以及用于真空镀膜装备的等离子体直流电源等核心零部件。公司引进产品和自研产品一同协作，共同为下游客户提供等离
子体工艺解决方案。
（1）真空泵：在半导体、工业镀膜等工艺中，将硅片或其他材料放入反应腔室后，需要使反应腔获得真空环境。真空泵是反应
腔获取真空环境的核心零部件，用于在反应腔中产生和维持真空环境。（2）质量流量计：在反应腔获取真空环境后，需要向反应腔
室通入工艺气体，工艺气体被等离子体射频电源电离产生等离子体。此时需要通过质量流量计精确计量和输送。质量流量计是反应腔
供气系统的核心零部件，用于对气体等进行质量流量的测量和控制。（3）等离子体直流电源：公司引进的等离子体直流电源主要用
于真空镀膜装备，即在反应腔内使用等离子体直流电源对靶材施加电压，使气体离子化，产生等离子体。这些离子在电场的作用下加
速并轰击靶材，溅射出原子或分子，最终沉积在基材上，完成镀膜。5. 请介绍一下公司的技术服务业务
回答：公司技术服务主要系为晶圆厂提供等离子体射频电源系统原位替换及维修服务。等离子体射频电源系统在晶圆厂使用过程
中会出现老化、故障等问题，需要及时进行更换或维修。国内主要晶圆厂被列入实体清单后，无法继续向原海外设备供应商采购备件
或申请维修服务，公司为此承接了进口等离子体射频电源系统的原位替换及维修业务。6. 请介绍一下公司目前的产能情况
回答：2025年公司产能利用率达98.51%。公司将通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司
的建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公司也将逐步推进半导体与真空装备
核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定基础。
7. 请介绍一下公司未来的发展规划
回答：（1）持续研发与创新，保持和提高技术先进性，不断提升工艺水平和产品性能。公司将始终以客户需求作为技术研发导
向，密切追踪最新的技术及发展趋势，持续增加研发投入，不断完善研发管理机制和创新激励机制。公司将不断丰富公司产品和技术
储备，持续推进产品的更新迭代，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高
的产品。在产品布局方面，公司将采取双轮驱动策略。通过内生研发和择机对外收购的方式，持续优化现有产品，提升性能与质量，
并拓宽产品品类。
（2）充分借力资本市场，重点加强先进产品产能建设。公司将在现有生产模式的基础上，在沈阳建设半导体射频电源系统产业
化中心，在深圳扩建半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地，引进性能更优、智能化水平更高、更先进的生产制造设备、
测试设备及仓储系统，并结合生产车间及数据管理系统软件，实现生产制造、经营、管理和决策的智能优化。
（3）以客户为中心，提升技术服务，加强多元化市场开拓。公司始终以客户为中心，密切关注客户需求，强化与客户设计研发
的沟通合作，持续收集下游行业市场与技术动态信息；同时，进一步加强公司技术销售与技术服务，重点加大培养既懂专业技术又有
销售服务能力的技术精英，确保公司在产品技术路线交流、销售、服务、信息反馈等环节为客户提供专业化的技术支持服务和解决方
案。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202607/2026070611290461176231529.pdf
─────────┬────────────────────────────────────────────────
2026-06-30 20:00│恒运昌(688785)2026年6月30日投资者关系活动主要内容
─────────┴────────────────────────────────────────────────
公司于2026年6月24日协办“沪市ETF财富管理基地行——走进恒运昌”活动。投资者参观了公司，管理层介绍了公司的基本情况
。
1. 请问公司目前的在手订单及客户拓展情况如何？
回答：截至公司2025年年度报告披露日，公司持有尚未交付的在手订单共约 1.57 亿元。公司将充分发挥研发和技术优势，结合
市场发展前景和客户需求，不断进行新产品的研发设计，结合公司丰富的技术和生产经验，积极响应拓荆科技、中微公司、北方华创
、微导纳米、北京屹唐等行业头部半导体设备商需求，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性
能更优、可靠性更高的产品，推进公司长期稳定发展。同时，公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的
拓展，不断提升公司产品性能与质量，并拓宽公司产品品类，助力公司长期稳定发展。
2. 请介绍一下历代等离子体射频电源系统及其他新产品的研发进展
回答：等离子体射频电源系统作为薄膜沉积设备、刻蚀设备、清洗去胶设备等半导体设备的核心零部件，技术要求极高，包括在
纳米尺寸级别上精准控制等离子体的刻蚀过程、在纳秒时间级别上和复杂环境中精准且稳定地控制等离子体的变化。技术要求极高主
要由于其直接关系到薄膜沉积、刻蚀、清洗等环节中等离子体的浓度、均匀性和稳定性等，进而影响晶圆制造工艺的能力、良率和效
率。历经十年，公司先后推出 CSL、Bestda、Aspen/Basalt 三代产品系列。公司第一代产品CSL系列可支持工业级制程，主要用于光
伏电池片薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜等一般工业领域；公司第二代产品Bestda系列可支撑成熟制程，主要面向半导体领
域；第三代产品Aspen/Basalt系列可支撑先进制程，主要面向半导体领域。
截至2025年年底，公司第四代产品 Cedar 系列等离子体射频电源系统处于验证状态，该产品将射频电源和匹配器整合为一体化
平台，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支撑更先进制程。截至2025年年底，公司对MFC MEMS传感器
的研发已处于完成初样流片及搭载测试平台阶段。结合公司未来发展规划，在产品布局方面，公司将采取双轮驱动发展策略，通过内
生研发，持续优化现有产品，提升性能与质量，并拓宽产品品类；同时，公司未来将借助外部并购等战略举措，以进一步增强等离子
体工艺核心零部件的供应能力，为客户提供一站式的产品和服务，致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台
型公司。
3. 请介绍一下等离子体射频电源系统的国内同行情况与公司的竞争优势
回答：中国大陆半导体行业等离子体射频电源系统的市场仍呈现海外巨头高度垄断的竞争格局。根据弗若斯特沙利文统计，2024
年，中国大陆半导体领域等离子体射频电源系统的国产化率不足12%；2024年，在中国大陆半导体行业国产等离子体射频电源系统厂
商中，恒运昌的市场份额位列第一。国内同行企业还有成都英杰晨晖科技有限公司、北京华丞电子股份有限公司等。
公司的竞争优势如下：
（1）技术优势：经过十多年的持续正向研发、不断创新和积累，公司建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术体系，一方面
从测量、控制及架构三方面构建的底层通用的 3 大基石技术，并基于基石技术，结合半导体设备中应用，特别是先进制程中更快速
、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点，发展出 8 大产品化支撑技术，实现了突破高端等离子体射频电源系统的先进设计、测量
和控制等难题，掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键技术。截至2025
年年底，公司已授权专利共 296 项，包括发明专利 123 项，实用新型专利 72项，外观设计专利 101 项。截至 2025 年年底，公司
已累计申请490 项专利，其中发明专利 262 项，占比 53.47%。
（2）产品优势：半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求，等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳定和可重复
的生产工艺，且需经过精密的校准和严格的测试流程，以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下，公司已具备成熟的规模
化量产能力，并成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。
（3）团队优势：截至2025年年底，公司员工总数为405人。研发人员数量为158人，其中学历本科及以上研发人员占研发人员总
数的84.81%。同时，公司汇聚了一支在等离子体射频电源系统及半导体核心零部件行业拥有二十年以上从业经验的团队。团队成员不
仅在技术研发方面拥有卓越的能力和敏锐的洞察力，对半导体行业具有深刻理解和具有丰富的实践经验。
4. 请具体介绍一下公司引进产品种类
回答：公司基于等离子体发生条件和反应腔真空环境的实际需求，引进用于获得和维持真空环境的真空泵、用于流体精确控制的
质量流量计以及用于真空镀膜装备的等离子体直流电源等核心零部件。公司引进产品和自研产品一同协作，共同为下游客户提供等离
子体工艺解决方案。
（1）真空泵：在半导体、工业镀膜等工艺中，将硅片或其他材料放入反应腔室后，需要使反应腔获得真空环境。真空泵是反应
腔获取真空环境的核心零部件，用于在反应腔中产生和维持真空环境。（2）质量流量计：在反应腔获取真空环境后，需要向反应腔
室通入工艺气体，工艺气体被等离子体射频电源电离产生等离子体。此时需要通过质量流量计精确计量和输送。质量流量计是反应腔
供气系统的核心零部件，用于对气体等进行质量流量的测量和控制。（3）等离子体直流电源：公司引进的等离子体直流电源主要用
于真空镀膜装备，即在反应腔内使用等离子体直流电源对靶材施加电压，使气体离子化，产生等离子体。这些离子在电场的作用下加
速并轰击靶材，溅射出原子或分子，最终沉积在基材上，完成镀膜。5. 请介绍一下公司的技术服务业务
回答：公司技术服务主要系为晶圆厂提供等离子体射频电源系统原位替换及维修服务。等离子体射频电源系统在晶圆厂使用过程
中会出现老化、故障等问题，需要及时进行更换或维修。国内主要晶圆厂被列入实体清单后，无法继续向原海外设备供应商采购备件
或申请维修服务，公司为此承接了进口等离子体射频电源系统的原位替换及维修业务。6. 请介绍一下公司目前的产能情况
回答：2025年公司产能利用率达98.51%。公司将通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司
的建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公司也将逐步推进半导体与真空装备
核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定基础。
7. 请介绍一下公司未来的发展规划
回答：（1）持续研发与创新，保持和提高技术先进性，不断提升工艺水平和产品性能。公司将始终以客户需求作为技术研发导
向，密切追踪最新的技术及发展趋势，持续增加研发投入，不断完善研发管理机制和创新激励机制。公司将不断丰富公司产品和技术
储备，持续推进产品的更新迭代，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高
的产品。在产品布局方面，公司将采取双轮驱动策略。通过内生研发和择机对外收购的方式，持续优化现有产品，提升性能与质量，
并拓宽产品品类。
（2）充分借力资本市场，重点加强先进产品产能建设。公司将在现有生产模式的基础上，在沈阳建设半导体射频电源系统产业
化中心，在深圳扩建半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地，引进性能更优、智能化水平更高、更先进的生产制造设备、
测试设备及仓储系统，并结合生产车间及数据管理系统软件，实现生产制造、经营、管理和决策的智能优化。
（3）以客户为中心，提升技术服务，加强多元化市场开拓。公司始终以客户为中心，密切关注客户需求，强化与客户设计研发
的沟通合作，持续收集下游行业市场与技术动态信息；同时，进一步加强公司技术销售与技术服务，重点加大培养既懂专业技术又有
销售服务能力的技术精英，确保公司在产品技术路线交流、销售、服务、信息反馈等环节为客户提供专业化的技术支持服务和解决方
案。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202607/2026070611290461176231529.pdf
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2026-06-26 20:00│恒运昌(688785)2026年6月26日投资者关系活动主要内容
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公司于2026年6月24日协办“沪市ETF财富管理基地行——走进恒运昌”活动。投资者参观了公司，管理层介绍了公司的基本情况
。
1. 请问公司目前的在手订单及客户拓展情况如何？
回答：截至公司2025年年度报告披露日，公司持有尚未交付的在手订单共约 1.57 亿元。公司将充分发挥研发和技术优势，结合
市场发展前景和客户需求，不断进行新产品的研发设计，结合公司丰富的技术和生产经验，积极响应拓荆科技、中微公司、北方华创
、微导纳米、北京屹唐等行业头部半导体设备商需求，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性
能更优、可靠性更高的产品，推进公司长期稳定发展。同时，公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的
拓展，不断提升公司产品性能与质量，并拓宽公司产品品类，助力公司长期稳定发展。
2. 请介绍一下历代等离子体射频电源系统及其他新产品的研发进展
回答：等离子体射频电源系统作为薄膜沉积设备、刻蚀设备、清洗去胶设备等半导体设备的核心零部件，技术要求极高，包括在
纳米尺寸级别上精准控制等离子体的刻蚀过程、在纳秒时间级别上和复杂环境中精准且稳定地控制等离子体的变化。技术要求极高主
要由于其直接关系到薄膜沉积、刻蚀、清洗等环节中等离子体的浓度、均匀性和稳定性等，进而影响晶圆制造工艺的能力、良率和效
率。历经十年，公司先后推出 CSL、Bestda、Aspen/Basalt 三代产品系列。公司第一代产品CSL系列可支持工业级制程，主要用于光
伏电池片薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜等一般工业领域；公司第二代产品Bestda系列可支撑成熟制程，主要面向半导体领
域；第三代产品Aspen/Basalt系列可支撑先进制程，主要面向半导体领域。
截至2025年年底，公司第四代产品 Cedar 系列等离子体射频电源系统处于验证状态，该产品将射频电源和匹配器整合为一体化
平台，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支撑更先进制程。截至2025年年底，公司对MFC MEMS传感器
的研发已处于完成初样流片及搭载测试平台阶段。结合公司未来发展规划，在产品布局方面，公司将采取双轮驱动发展策略，通过内
生研发，持续优化现有产品，提升性能与质量，并拓宽产品品类；同时，公司未来将借助外部并购等战略举措，以进一步增强等离子
体工艺核心零部件的供应能力，为客户提供一站式的产品和服务，致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台
型公司。
3. 请介绍一下等离子体射频电源系统的国内同行情况与公司的竞争优势
回答：中国大陆半导体行业等离子体射频电源系统的市场仍呈现海外巨头高度垄断的竞争格局。根据弗若斯特沙利文统计，2024
年，中国大陆半导体领域等离子体射频电源系统的国产化率不足12%；2024年，在中国大陆半导体行业国产等离子体射频电源系统厂
商中，恒运昌的市场份额位列第一。国内同行企业还有成都英杰晨晖科技有限公司、北京华丞电子股份有限公司等。
公司的竞争优势如下：
（1）技术优势：经过十多年的持续正向研发、不断创新和积累，公司建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术体系，一方面
从测量、控制及架构三方面构建的底层通用的 3 大基石技术，并基于基石技术，结合半导体设备中应用，特别是先进制程中更快速
、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点，发展出 8 大产品化支撑技术，实现了突破高端等离子体射频电源系统的先进设计、测量
和控制等难题，掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键技术。截至2025
年年底，公司已授权专利共 296 项，包括发明专利 123 项，实用新型专利 72项，外观设计专利 101 项。截至 2025 年年底，公司
已累计申请490 项专利，其中发明专利 262 项，占比 53.47%。
（2）产品优势：半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求，等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳定和可重复
的生产工艺，且需经过精密的校准和严格的测试流程，以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下，公司已具备成熟的规模
化量产能力，并成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。
（3）团队优势：截至2025年年底，公司员工总数为405人。研发人员数量为158人，其中学历本科及以上研发人员占研发人员总
数的84.81%。同时，公司汇聚了一支在等离子体射频电源系统及半导体核心零部件行业拥有二十年以上从业经验的团队。团队成员不
仅在技术研发方面拥有卓越的能力和敏锐的洞察力，对半导体行业具有深刻理解和具有丰富的实践经验。
4. 请具体介绍一下公司引进产品种类
回答：公司基于等离子体发生条件和反应腔真空环境的实际需求，引进用于获得和维持真空环境的真空泵、用于流体精确控制的
质量流量计以及用于真空镀膜装备的等离子体直流电源等核心零部件。公司引进产品和自研产品一同协作，共同为下游客户提供等离
子体工艺解决方案。
（1）真空泵：在半导体、工业镀膜等工艺中，将硅片或其他材料放入反应腔室后，需要使反应腔获得真空环境。真空泵是反应
腔获取真空环境的核心零部件，用于在反应腔中产生和维持真空环境。（2）质量流量计：在反应腔获取真空环境后，需要向反应腔
室通入工艺气体，工艺气体被等离子体射频电源电离产生等离子体。此时需要通过质量流量计精确计量和输送。质量流量计是反应腔
供气系统的核心零部件，用于对气体等进行质量流量的测量和控制。（3）等离子体直流电源：公司引进的等离子体直流电源主要用
于真空镀膜装备，即在反应腔内使用等离子体直流电源对靶材施加电压，使气体离子化，产生等离子体。这些离子在电场的作用下加
速并轰击靶材，溅射出原子或分子，最终沉积在基材上，完成镀膜。5. 请介绍一下公司的技术服务业务
回答：公司技术服务主要系为晶圆厂提供等离子体射频电源系统原位替换及维修服务。等离子体射频电源系统在晶圆厂使用过程
中会出现老化、故障等问题，需要及时进行更换或维修。国内主要晶圆厂被列入实体清单后，无法继续向原海外设备供应商采购备件
或申请维修服务，公司为此承接了进口等离子体射频电源系统的原位替换及维修业务。6. 请介绍一下公司目前的产能情况
回答：2025年公司产能利用率达98.51%。公司将通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司
的建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公司也将逐步推进半导体与真空装备
核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定基础。
7. 请介绍一下公司未来的发展规划
回答：（1）持续研发与创新，保持和提高技术先进性，不断提升工艺水平和产品性能。公司将始终以客户需求作为技术研发导
向，密切追踪最新的技术及发展趋势，持续增加研发投入，不断完善研发管理机制和创新激励机制。公司将不断丰富公司产品和技术
储备，持续推进产品的更新迭代，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高
的产品。在产品布局方面，公司将采取双轮驱动策略。通过内生研发和择机对外收购的方式，持续优化现有产品，提升性能与质量，
并拓宽产品品类。
（2）充分借力资本市场，重点加强先进产品产能建设。公司将在现有生产模式的基础上，在沈阳建设半导体射频电源系统产业
化中心，在深圳扩建半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地，引进性能更优、智能化水平更高、更先进的生产制造设备、
测试设备及仓储系统，并结合生产车间及数据管理系统软件，实现生产制造、经营、管理和决策的智能优化。
（3）以客户为中心，提升技术服务，加强多元化市场开拓。公司始终以客户为中心，密切关注客户需求，强化与客户设计研发
的沟通合作，持续收集下游行业市场与技术动态信息；同时，进一步加强公司技术销售与技术服务，重点加大培养既懂专业技术又有
销售服务能力的技术精英，确保公司在产品技术路线交流、销售、服务、信息反馈等环节为客户提供专业化的技术支持服务和解决方
案。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202607/2026070611290461176231529.pdf
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2026-06-24 20:00│恒运昌(688785)2026年6月25日投资者关系活动主要内容
─────────┴────────────────────────────────────────────────
公司于2026年6月24日协办“沪市ETF财富管理基地行——走进恒运昌”活动。投资者参观了公司，管理层介绍了公司的基本情况
。
1. 请问公司目前的在手订单及客户拓展情况如何？
回答：截至公司2025年年度报告披露日，公司持有尚未交付的在手订单共约 1.57 亿元。公司将充分发挥研发和技术优势，结合
市场发展前景和客户需求，不断进行新产品的研发设计，结合公司丰富的技术和生产经验，积极响应拓荆科技、中微公司、北方华创
、微导纳米、北京屹唐等行业头部半导体设备商需求，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性
能更优、可靠性更高的产品，推进公司长期稳定发展。同时，公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的
拓展，不断提升公司产品性能与质量，并拓宽公司产品品类，助力公司长期稳定发展。
2. 请介绍一下历代等离子体射频电源系统及其他新产品的研发进展
回答：等离子体射频电源系统作为薄膜沉积设备、刻蚀设备、清洗去胶设备等半导体设备的核心零部件，技术要求极高，包括在
纳米尺寸级别上精准控制等离子体的刻蚀过程、在纳秒时间级别上和复杂环境中精准且稳定地控制等离子体的变化。技术要求极高主
要由于其直接关系到薄膜沉积、刻蚀、清洗等环节中等离子体的浓度、均匀性和稳定性等，进而影响晶圆制造工艺的能力、良率和效
率。历经十年，公司先后推出 CSL、Bestda、Aspen/Basalt 三代产品系列。公司第一代产品CSL系列可支持工业级制程，主要用于光
伏电池片薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜等一般工业领域；公司第二代产品Bestda系列可支撑成熟制程，主要面向半导体领
域；第三代产品Aspen/Basalt系列可支撑先进制程，主要面向半导体领域。
截至2025年年底，公司第四代产品 Cedar 系列等离子体射频电源系统处于验证状态，该产品将射频电源和匹配器整合为一体化
平台，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支撑更先进制程。截至2025年年底，公司对MFC MEMS传感器
的研发已处于完成初样流片及搭载测试平台阶段。结合公司未来发展规划，在产品布局方面，公司将采取双轮驱动发展策略，通过内
生研发，持续优化现有产品，提升性能与质量，并拓宽产品品类；同时，公司未来将借助外部并购等战略举措，以进一步增强等离子
体工艺核心零部件的供应能力，为客户提供一站式的产品和服务，致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台
型公司。
3. 请介绍一下等离子体射频电源系统的国内同行情况与公司的竞争优势
回答：中国大陆半导体行业等离子体射频电源系统的市场仍呈现海外巨头高度垄断的竞争格局。根据弗若斯特沙利文统计，2024
年，中国大陆半导体领域等离子体射频电源系统的国产化率不足12%；2024年，在中国大陆半导体行业国产等离子体射频电源系统厂
商中，恒运昌的市场份额位列第一。国内同行企业还有成都英杰晨晖科技有限公司、北京华丞电子股份有限公司等。
公司的竞争优势如下：
（1）技术优势：经过十多年的持续正向研发、不断创新和积累，公司建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术体系，一方面
从测量、控制及架构三方面构建的底层通用的 3 大基石技术，并基于基石技术，结合半导体设备中应用，特别是先进制程中更快速
、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点，发展出 8 大产品化支撑技术，实现了突破高端等离子体射频电源系统的先进设计、测量
和控制等难题，掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键技术。截至2025
年年底，公司已授权专利共 296 项，包括发明专利 123 项，实用新型专利 72项，外观设计专利 101 项。截至 2025 年年底，公司
已累计申请490 项专利，其中发明专利 262 项，占比 53.47%。
（2）产品优势：半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求，等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳定和可重复
的生产工艺，且需经过精密的校准和严格的测试流程，以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下，公司已具备成熟的规模
化量产能力，并成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。
（3）团队优势：截至2025年年底，公司员工总数为405人。研发人员数量为158人，其中学历本科及以上研发人员占研发人员总
数的84.81%。同时，公司汇聚了一支在等离子体射频电源系统及半导体核心零部件行业拥有二十年以上从业经验的团队。团队成员不
仅在技术研发方面拥有卓越的能力和敏锐的洞察力，对半导体行业具有深刻理解和具有丰富的实践经验。
4. 请具体介绍一下公司引进产品种类
回答：公司基于等离子体发生条件和反应腔真空环境的实际需求，引进用于获得和维持真空环境的真空泵、用于流体精确控制的
质量流量计以及用于真空镀膜装备的等离子体直流电源等核心零部件。公司引进产品和自研产品一同协作，共同为下游客户提供等离
子体工艺解决方案。
（1）真空泵：在半导体、工业镀膜等工艺中，将硅片或其他材料放入反应腔室后，需要使反应腔获得真空环境。真空泵是反应
腔获取真空环境的核心零部件，用于在反应腔中产生和维持真空环境。（2）质量流量计：在反应腔获取真空环境后，需要向反应腔
室通入工艺气体，工艺气体被等离子体射频电源电离产生等离子体。此时需要通过质量流量计精确计量和输送。质量流量计是反应腔
供气系统的核心零部件，用于对气体等进行质量流量的测量和控制。（3）等离子体直流电源：公司引进的等离子体直流电源主要用
于真空镀膜装备，即在反应腔内使用等离子体直流电源对靶材施加电压，使气体离子化，产生等离子体。这些离子在电场的作用下加
速并轰击靶材，溅射出原子或分子，最终沉积在基材上，完成镀膜。5. 请介绍一下公司的技术服务业务
回答：公司技术服务主要系为晶圆厂提供等离子体射频电源系统原位替换及维修服务。等离子体射频电源系统在晶圆厂使用过程
中会出现老化、故障等问题，需要及时进行更换或维修。国内主要晶圆厂被列入实体清单后，无法继续向原海外设备供应商采购备件
或申请维修服务，公司为此承接了进口等离子体射频电源系统的原位替换及维修业务。6. 请介绍一下公司目前的产能情况
回答：2025年公司产能利用率达98.51%。公司将通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司
的建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公司也将逐步推进半导体与真空装备
核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定基础。
7. 请介绍一下公司未来的发展规划
回答：（1）持续研发与创新，保持和提高技术先进性，不断提升工艺水平和产品性能。公司将始终以客户需求作为技术研发导
向，密切追踪最新的技术及发展趋势，持续增加研发投入，不断完善研发管理机制和创新激励机制。公司将不断丰富公司产品和技术
储备，持续推进产品的更新迭代，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高
的产品。在产品布局方面，公司将采取双轮驱动策略。通过内生研发和择机对外收购的方式，持续优化现有产品，提升性能与质量，
并拓宽产品品类。
（2）充分借力资本市场，重点加强先进产品产能建设。公司将在现有生产模式的基础上，在沈阳建设半导体射频电源系统产业
化中心，在深圳扩建半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地，引进性能更优、智能化水平更高、更先进的生产制造设备、
测试设备及仓储系统，并结合生产车间及数据管理系统软件，实现生产制造、经营、管理和决策的智能优化。
（3）以客户为中心，提升技术服务，加强多元化市场开拓。公司始终以客户为中心，密切关注客户需求，强化与客户设计研发
的沟通合作，持续收集下游行业市场与技术动态信息；同时，进一步加强公司技术销售与技术服务，重点加大培养既懂专业技术又有
销售服务能力的技术精英，确保公司在产品技术路线交流、销售、服务、信息反馈等环节为客户提供专业化的技术支持服务和解决方
案。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202607/2026070611290461176231529.pdf
─────────┬────────────────────────────────────────────────
2026-06-24 12:35│恒运昌(688785)2026年6月24日投资者关系活动主要内容
─────────┴────────────────────────────────────────────────
公司于2026年6月24日协办“沪市ETF财富管理基地行——走进恒运昌”活动。投资者参观了公司，管理层介绍了公司的基本情况
。
1. 请问公司目前的在手订单及客户拓展情况如何？
回答：截至公司2025年年度报告披露日，公司持有尚未交付的在手订单共约 1.57 亿元。公司将充分发挥研发和技术优势，结合
市场发展前景和客户需求，不断进行新产品的研发设计，结合公司丰富的技术和生产经验，积极响应拓荆科技、中微公司、北方华创
、微导纳米、北京屹唐等行业头部半导体设备商需求，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性
能更优、可靠性更高的产品，推进公司长期稳定发展。同时，公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的
拓展，不断提升公司产品性能与质量，并拓宽公司产品品类，助力公司长期稳定发展。
2. 请介绍一下历代等离子体射频电源系统及其他新产品的研发进展
回答：等离子体射频电源系统作为薄膜沉积设备、刻蚀设备、清洗去胶设备等半导体设备的核心零部件，技术要求极高，包括在
纳米尺寸级别上精准控制等离子体的刻蚀过程、在纳秒时间级别上和复杂环境中精准且稳定地控制等离子体的变化。技术要求极高主
要由于其直接关系到薄膜沉积、刻蚀、清洗等环节中等离子体的浓度、均匀性和稳定性等，进而影响晶圆制造工艺的能力、良率和效
率。历经十年，公司先后推出 CSL、Bestda、Aspen/Basalt 三代产品系列。公司第一代产品CSL系列可支持工业级制程，主要用于光
伏电池片薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜等一般工业领域；公司第二代产品Bestda系列可支撑成熟制程，主要面向半导体领
域；第三代产品Aspen/Basalt系列可支撑先进制程，主要面向半导体领域。
截至2025年年底，公司第四代产品 Cedar 系列等离子体射频电源系统处于验证状态，该产品将射频电源和匹配器整合为一体化
平台，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支撑更先进制程。截至2025年年底，公司对MFC MEMS传感器
的研发已处于完成初样流片及搭载测试平台阶段。结合公司未来发展规划，在产品布局方面，公司将采取双轮驱动发展策略，通过内
生研发，持续优化现有产品，提升性能与质量，并拓宽产品品类；同时，公司未来将借助外部并购等战略举措，以进一步增强等离子
体工艺核心零部件的供应能力，为客户提供一站式的产品和服务，致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台
型公司。
3. 请介绍一下等离子体射频电源系统的国内同行情况与公司的竞争优势
回答：中国大陆半导体行业等离子体射频电源系统的市场仍呈现海外巨头高度垄断的竞争格局。根据弗若斯特沙利文统计，2024
年，中国大陆半导体领域等离子体射频电源系统的国产化率不足12%；2024年，在中国大陆半导体行业国产等离子体射频电源系统厂
商中，恒运昌的市场份额位列第一。国内同行企业还有成都英杰晨晖科技有限公司、北京华丞电子股份有限公司等。
公司的竞争优势如下：
（1）技术优势：经过十多年的持续正向研发、不断创新和积累，公司建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术体系，一方面
从测量、控制及架构三方面构建的底层通用的 3 大基石技术，并基于基石技术，结合半导体设备中应用，特别是先进制程中更快速
、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点，发展出 8 大产品化支撑技术，实现了突破高端等离子体射频电源系统的先进设计、测量
和控制等难题，掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键技术。截至2025
年年底，公司已授权专利共 296 项，包括发明专利 123 项，实用新型专利 72项，外观设计专利 101 项。截至 2025 年年底，公司
已累计申请490 项专利，其中发明专利 262 项，占比 53.47%。
（2）产品优势：半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求，等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳定和可重复
的生产工艺，且需经过精密的校准和严格的测试流程，以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下，公司已具备成熟的规模
化量产能力，并成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。
（3）团队优势：截至2025年年底，公司员工总数为405人。研发人员数量为158人，其中学历本科及以上研发人员占研发人员总
数的84.81%。同时，公司汇聚了一支在等离子体射频电源系统及半导体核心零部件行业拥有二十年以上从业经验的团队。团队成员不
仅在技术研发方面拥有卓越的能力和敏锐的洞察力，对半导体行业具有深刻理解和具有丰富的实践经验。
4. 请具体介绍一下公司引进产品种类
回答：公司基于等离子体发生条件和反应腔真空环境的实际需求，引进用于获得和维持真空环境的真空泵、用于流体精确控制的
质量流量计以及用于真空镀膜装备的等离子体直流电源等核心零部件。公司引进产品和自研产品一同协作，共同为下游客户提供等离
子体工艺解决方案。
（1）真空泵：在半导体、工业镀膜等工艺中，将硅片或其他材料放入反应腔室后，需要使反应腔获得真空环境。真空泵是反应
腔获取真空环境的核心零部件，用于在反应腔中产生和维持真空环境。（2）质量流量计：在反应腔获取真空环境后，需要向反应腔
室通入工艺气体，工艺气体被等离子体射频电源电离产生等离子体。此时需要通过质量流量计精确计量和输送。质量流量计是反应腔
供气系统的核心零部件，用于对气体等进行质量流量的测量和控制。（3）等离子体直流电源：公司引进的等离子体直流电源主要用
于真空镀膜装备，即在反应腔内使用等离子体直流电源对靶材施加电压，使气体离子化，产生等离子体。这些离子在电场的作用下加
速并轰击靶材，溅射出原子或分子，最终沉积在基材上，完成镀膜。5. 请介绍一下公司的技术服务业务
回答：公司技术服务主要系为晶圆厂提供等离子体射频电源系统原位替换及维修服务。等离子体射频电源系统在晶圆厂使用过程
中会出现老化、故障等问题，需要及时进行更换或维修。国内主要晶圆厂被列入实体清单后，无法继续向原海外设备供应商采购备件
或申请维修服务，公司为此承接了进口等离子体射频电源系统的原位替换及维修业务。6. 请介绍一下公司目前的产能情况
回答：2025年公司产能利用率达98.51%。公司将通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司
的建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公司也将逐步推进半导体与真空装备
核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定基础。
7. 请介绍一下公司未来的发展规划
回答：（1）持续研发与创新，保持和提高技术先进性，不断提升工艺水平和产品性能。公司将始终以客户需求作为技术研发导
向，密切追踪最新的技术及发展趋势，持续增加研发投入，不断完善研发管理机制和创新激励机制。公司将不断丰富公司产品和技术
储备，持续推进产品的更新迭代，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高
的产品。在产品布局方面，公司将采取双轮驱动策略。通过内生研发和择机对外收购的方式，持续优化现有产品，提升性能与质量，
并拓宽产品品类。
（2）充分借力资本市场，重点加强先进产品产能建设。公司将在现有生产模式的基础上，在沈阳建设半导体射频电源系统产业
化中心，在深圳扩建半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地，引进性能更优、智能化水平更高、更先进的生产制造设备、
测试设备及仓储系统，并结合生产车间及数据管理系统软件，实现生产制造、经营、管理和决策的智能优化。
（3）以客户为中心，提升技术服务，加强多元化市场开拓。公司始终以客户为中心，密切关注客户需求，强化与客户设计研发
的沟通合作，持续收集下游行业市场与技术动态信息；同时，进一步加强公司技术销售与技术服务，重点加大培养既懂专业技术又有
销售服务能力的技术精英，确保公司在产品技术路线交流、销售、服务、信息反馈等环节为客户提供专业化的技术支持服务和解决方
案。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202607/2026070611290461176231529.pdf
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2026-06-11 16:58│恒运昌(688785)2026年6月11-17日投资者关系活动主要内容
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1. 请介绍一下公司2025年度及2026年一季度的业绩情况以及行业发展趋势
回答：2025年公司实现营业收入约 5.29 亿元，主要原因是半导体行业具有周期波动的特性，下游半导体设备客户的采购量需依
据自身承接的晶圆厂订单数量、产品验证导入进度及交付验收节奏动态调整，进而导致对公司的采购呈现波动。2025年公司实现归属
于上市公司股东的净利润约 1.14 亿元，主要原因是持续加大较高水平的研发投入，提高技术指标要求，推进新产品开发、产品持续
升级迭代等，不断加强产品竞争力，研发费用较上年同期大幅增加。2026年一季度，公司实现营业收入 1.24 亿元，主要原因是半导
体行业具有周期波动的特性，下游半导体设备客户的采购量需依据自身承接的晶圆厂订单数量、产品验证导入进度及交付验收节奏动
态调整，进而导致对公司的采购呈现波动；公司实现归属于上市公司股东的净利润 1,758.28 万元，主要原因是公司全面提升公司运
营管理，并持续推进研发投入和各类型人才引进，同时政府补助相对去年同期减少，且公司按照会计准则要求计提相应的资产减值损
失。
根据弗若斯特沙利文数据，2024 年全球等离子体射频电源系统市场规模达 53.4 亿美元，过去五年复合增速达8.5%。未来全球
等离子体射频电源系统市场规模将加速增长，2025-2029 年复合增长率预计为10.6%。2024年中国大陆半导体行业等离子体射频电源
系统市场规模达 65.6 亿元，未来中国大陆半导体行业等离子体射频电源市场规模将继续快速增长，2025-2029 年复合增长率预计为
15.6%。根据SEMI发布的最新报告，2025年全球半导体设备销售额达1,350.6亿美元，中国在成熟制程及部分先进节点保持持续投入
。
2. 请问公司目前的在手订单及客户拓展情况如何？
回答：截至公司2025年年度报告披露日，公司持有尚未交付的在手订单共约 1.57 亿元。公司将充分发挥研发和技术优势，结合
市场发展前景和客户需求，不断进行新产品的研发设计，结合公司丰富的技术和生产经验，积极响应拓荆科技、中微公司、北方华创
、微导纳米、北京屹唐等行业头部半导体设备商需求，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性
能更优、可靠性更高的产品，推进公司长期稳定发展。同时，公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的
拓展，通过内生研发等方式，不断提升公司产品性能与质量，并拓宽公司产品品类，助力公司长期稳定发展。
3. 请介绍一下等离子体射频电源系统的应用领域
回答：等离子体射频电源系统的应用较为广泛，除了半导体、光伏和显示面板等主要的应用领域，还包括精密光学领域、科研领
域、航天领域、医疗等其他领域。公司的等离子体射频电源系统主要被广泛应用于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗
去胶、键合等环节，以及光伏电池片的薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节。
4. 请介绍一下公司第四代产品Cedar系列等离子体射频电源系统及其他新产品的研发进展
回答：截至2025年年底，公司第四代等离子体射频电源系统 Cedar系列处于验证状态，该产品将射频电源和匹配器整合为一体化
平台，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支撑更先进制程。截至2025年年底，公司对MFC MEMES传感
器的研发已处于完成初样流片及搭载测试平台阶段。结合公司未来发展规划，在产品布局方面，公司将采取双轮驱动发展策略，通过
内生研发，持续优化现有产品，提升性能与质量，并拓宽产品品类；同时，公司未来将借助外部并购等战略举措，以进一步增强等离
子体工艺核心零部件的供应能力，为客户提供一站式的产品和服务，致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平
台型公司。
5. 请介绍一下公司自研产品远程等离子体源（RPS）、射频离子源的作用
回答：远程等离子体源结构内包含一个放电腔室，该装置集成了等离子体射频电源、匹配器、独立腔室。其特点是等离子体产生
的独立腔室与晶圆所在的反应腔隔离，故名“远程”。远程等离子体源在自有的独立腔室中通过等离子体射频电源系统 将气体电离
形成等离子体，再将产生的等离子体传输到晶圆所在的反应腔。
射频离子源系一种由一个或多个等离子体射频电源、匹配器及感应线圈（发射电极）等组成的用于激发等离子体的模块化装置，
通过法兰安装到反应腔。射频离子源主要应用于显示面板、精密光学等领域的后氧化、离子辅助沉积等薄膜沉积工艺。
6. 请具体介绍一下公司引进产品种类
回答：公司基于等离子体发生条件和反应腔真空环境的实际需求，引进用于获得和维持真空环境的真空泵、用于流体精确控制的
质量流量计以及用于真空镀膜装备的等离子体直流电源等核心零部件。公司引进产品和自研产品一同协作，共同为下游客户提供等离
子体工艺解决方案。
（1）真空泵：在半导体、工业镀膜等工艺中，将硅片或其他材料放入反应腔室后，需要使反应腔获得真空环境。真空泵是反应
腔获取真空环境的核心零部件，用于在反应腔中产生和维持真空环境。（2）质量流量计：在反应腔获取真空环境后，需要向反应腔
室通入工艺气体，工艺气体被等离子体射频电源电离产生等离子体。此时需要通过质量流量计精确计量和输送。质量流量计是反应腔
供气系统的核心零部件，用于对气体等进行质量流量的测量和控制。（3）等离子体直流电源：公司引进的等离子体直流电源主要用
于真空镀膜装备，即在反应腔内使用等离子体直流电源对靶材施加电压，使气体离子化，产生等离子体。这些离子在电场的作用下加
速并轰击靶材，溅射出原子或分子，最终沉积在基材上，完成镀膜。
7. 请介绍一下公司的技术服务业务
回答：公司技术服务主要系为晶圆厂提供等离子体射频电源系统原位替换及维修服务。等离子体射频电源系统在晶圆厂使用过程
中会出现老化、故障等问题，需要及时进行更换或维修。国内主要晶圆厂被列入实体清单后，无法继续向原海外设备供应商采购备件
或申请维修服务，公司为此承接了进口等离子体射频电源系统的原位替换及维修业务。
8. 请介绍一下公司的核心技术及衡量公司主营产品技术水平的关键指标
回答：历经十余年的持续研发、不断创新和积累，针对半导体设备尤其是先进制程中对高速、精准、稳定性能的严苛需求及技术
瓶颈，公司构建了以‘基石技术+产品化支撑技术’为核心的技术架构，并基于‘等离子体电源全数字测量技术’、‘等离子体电源
全数字环路控制技术’及‘等离子体电源高效功放技术’三大基石技术，并衍生出八大产品化支撑技术。衡量公司主营产品或核心技
术的关键指标包括但不限于：调谐时间、调谐频率重复性、功率精度、开启响应时间、关闭响应时间、功率重复性、脉冲上升时间、
脉冲下降时间等。
9. 请介绍一下公司的研发团队
回答：截至2025年年底，公司研发人员共计158人，占公司总人数比例为39.01%。公司汇聚了一支在等离子体射频电源系统及半
导体核心零部件行业拥有二十年以上从业经验的研发骨干团队，拥有深厚背景和丰富经验，对半导体技术的发展脉络、市场需求变化
以及行业趋势有着深刻的认识和精准的把握。团队成员不仅在技术研发方面拥有卓越的能力和敏锐的洞察力，而且在运营管理和市场
拓展等方面有着长期的从业经历，对半导体行业具有深刻理解和具有丰富的实践经验，是公司持续创新和保持竞争力的重要基石。
10. 请介绍一下公司目前的产能情况
回答：公司产能已连续三年超负荷运行，2025年公司产能利用率达98.51%。公司将通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司
恒运昌真空技术（沈阳）有限公司的建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公
司也将逐步推进半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提
升奠定基础。
11. 请问公司目前是否有股权激励计划？
回答：公司已通过深圳市恒运昌投资中心（有限合伙）和深圳市恒运昌投资发展中心（有限合伙）作为员工持股平台实行了员工
持股计划。同时，公司部分核心员工也参与了公司战略配售。未来公司若有相关激励计划或安排，公司将按照监管要求，及时履行信
息披露义务，敬请以公司在官方渠道发布的公告为准。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202606/202606221853049927609228.pdf
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2026-06-10 18:22│恒运昌(688785)2025年年度权益分派：每股派利0.8元
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格隆汇6月10日丨恒运昌(688785.SH)公布2025年年度权益分派实施公告，本次利润分配以方案实施前的公司总股本67,701,688股
为基数，每股派发现金红利0.8元(含税)，共计派发现金红利54,161,350.40元(含税)。本次权益分派股权登记日为：2026年6月17日
，除权除息日为：2026年6月18日。
https://www.gelonghui.com/news/5249632
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2026-05-27 10:35│恒运昌(688785)2026年5月27日-6月2日投资者关系活动主要内容
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1. 请介绍一下公司2025年度及2026年一季度的业绩情况
回答：2025年公司实现营业收入约 5.29 亿元，同比下滑的主要原因是半导体行业具有周期波动的特性，下游半导体设备客户的
采购量需依据自身承接的晶圆厂订单数量、产品验证导入进度及交付验收节奏动态调整，进而导致对公司的采购呈现波动。2025年公
司实现归属于上市公司股东的净利润约1.14亿元，同比下滑的主要原因是持续加大较高水平的研发投入，提高技术指标要求，推进新
产品开发、产品持续升级迭代等，不断加强产品竞争力，研发费用较上年同期大幅增加。
2026年一季度，公司实现营业收入1.24 亿元，同比下滑的主要原因是半导体行业具有周期波动的特性，下游半导体设备客户的
采购量需依据自身承接的晶圆厂订单数量、产品验证导入进度及交付验收节奏动态调整，进而导致对公司的采购呈现波动；公司实现
归属于上市公司股东的净利润 1,758.28 万元，同比下滑的主要原因是公司全面提升公司运营管理，并持续推进研发投入和各类型人
才引进，同时政府补助相对去年同期减少，且公司按照会计准则要求计提相应的资产减值损失。
2. 请介绍一下公司等离子体射频电源系统的应用领域及特点
回答：公司的等离子体射频电源系统被广泛应用于半导体工艺中的薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗去胶、键合等环节，以及光
伏电池片的薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节。公司等离子体射频电源系统定制化程度较
高，在公司与下游设备厂商合作过程中，一般由下游客户向公司提供产品技术指标要求和功能要求，公司根据客户需求自主研发新产
品并制作样机供下游客户验证。
3. 请介绍一下公司新产品Cedar？
回答：截至2025年年底，公司第四代等离子体射频电源系统 Cedar系列处于验证状态，该产品将射频电源和匹配器整合为一体化
平台，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支撑更先进制程。
4. 请问2025年研发投入增长的原因？
回答：2025年，公司研发投入金额达到 8,015.92 万元，同比增长45.01%；研发投入占营业收入比例为15.14%，较上年度增加4.
92个百分点。主要系公司研发投入中人工费同比增长61.43%，公司持续加大研发投入力度，提高技术指标要求，推进新产品开发、产
品持续升级迭代等，不断加强产品竞争力。截至2025年年底，公司累计授权专利共计296项，包括发明专利 123 项，实用新型专利 7
2 项，外观设计专利 101 项；截至2025年年底，公司已累计申请 490项专利，其中发明专利 262 项，占比 53.47%。
5. 请介绍一下公司产品上游元器件的情况
回答：公司已建立稳定、高质量的供应商体系，关注供应商经营资质、生产能力、技术水平、质量管控水平以及产品价格等多方
面因素，并结合响应速度、付款条件等对供应商进行综合评定，将符合要求的供应商列入合格供应商名录，并在供货阶段实行供应商
动态管理，筛选优质供应商，持续优化采购渠道。为保证生产的连续性和稳定性，公司综合考虑原材料的采购周期、供应商的供货能
力、采购量起订门槛等因素，对常用材料建立安全库存机制。
公司等离子体射频电源系统等自研产品所使用的主要原材料包括电容、电阻、芯片等电子元器件、功率模块等电气件以及钣金件
等结构件。公司在研发过程中结合技术参数、客户要求、物料来源等因素综合考量原材料的选型，通过有针对性地研发设计调整，不
断提高产品的性能和品质。自2021年开始，公司先后在上游采购中实现了真空电容、陶瓷电容、MCU 以及 SiC MOS、LDMOS、部分 AD
C 和FPGA 等元器件的国产化应用。公司目前已确定上游元器件的全国产化方案，将持续推进元器件的全面国产化验证工作。
6. 请介绍一下公司的生产模式
回答：公司等离子体射频电源系统等自研产品主要采取以销定产的生产模式，根据供货要求、产品生产周期、销售预测等因素对
生产排期和物料管理进行统筹安排，协调生产、采购和仓储等相关部门保障生产的有序进行。公司的生产流程主要是部件加工及装配
、软件烧录、检测和工艺调试等，由制造中心对原材料进行装配、线路连接、产品测试，确保产品性能稳定之后封装入库。
7. 请介绍一下公司目前的产能情况
回答：公司产能已连续三年超负荷运行，2025年公司的产能利用率达到98.51%。公司将通过扩产和生产流程优化等方式提升产能
，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司的建设与正式运营，助力其由试产到正式投产；推进深圳产能建设，这都将
有助于后续产能的释放。此外，公司也将逐步推进半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，持续推进产能的提
升。
8. 请介绍一下公司募投项目的业务范围及进展
回答：“沈阳半导体射频电源系统产业化建设项目”拟主要开展半导体级等离子体射频电源系统产品的生产和销售，统筹区域内
优势资源。公司以“恒运昌真空技术（沈阳）有限公司”作为募投项目“沈阳半导体射频电源系统产业化建设项目”的实施主体，并
在积极推进该项目的建设与正式运营，助力其由试产到正式投产。
“营销及技术支持中心项目”拟通过在长三角地区、京津冀地区、中西部地区等晶圆制造集群区域设立营销及技术支持中心，提
升与晶圆厂的协同效率，保障产能快速扩张下的芯片良率与生产连续性。公司已新增全资子公司恒运昌京昇半导体科技（北京）有限
公司（简称北京恒运昌）、上海恒运昌、武汉恒运昌、合肥恒运昌作为募投项目“营销及技术支持中心项目”的实施主体。北京恒运
昌已处于正式运营阶段，上海恒运昌、武汉恒运昌、合肥恒运昌处于前期准备阶段。
“半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目”旨在提升公司等离子体射频电源系统、等离子体直流电源、等离子体
激发装置等产品的生产规模和生产效率；“研发与前沿技术创新中心项目”旨在进一步丰富和拓展公司的研发产品储备，并对公司现
有等离子体射频电源系统技术进行纵深拓展与代际升级。公司也将尽快推进“半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目
”及“研发与前沿技术创新中心项目”的建设，持续推进产能及研发水平的提升。公司将密切关注行业发展趋势及市场需求变化，在
确保项目质量与预期效益的前提下，加快推进募投项目建设。
https://sns.sseinfo.com/resources/images/upload/202606/2026060409360091488332124.pdf
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2026-05-20 15:42│恒运昌(688785)：Cedar系列射频电源将进一步提升薄膜沉积，刻蚀等工艺参数及良率
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格隆汇5月20日丨恒运昌(688785.SH)在互动平台表示，截至2025年底公司新一代射频电源系统Cedar系列已处于样机验证状态，
该产品将射频电源和匹配器整合为一体化平台，产品可支撑更先进制程。Cedar系列射频电源将进一步提升薄膜沉积，刻蚀等工艺参
数及良率，并向更多、更广泛的应用领域拓展。公司将积极推进该系列产品的验证。
https://www.gelonghui.com/news/5236810
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1、本公司力求但不保证提供的任何信息的真实性、准确性、完整性及原创性等，投资者使
用前请自行予以核实，如有错漏请以中国证监会指定上市公司信息披露媒体为准，本公司
不对因上述信息全部或部分内容而引致的盈亏承担任何责任。
2、本公司无法保证该项服务能满足用户的要求，也不担保服务不会受中断，对服务的及时
性、安全性以及出错发生都不作担保。
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据上述信息进行投资决策所产生的收益和损失承担任何责任。投资有风险，应谨慎至上。
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