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欧莱新材(688530)热点题材主题投资

 

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热点题材☆ ◇688530 欧莱新材 更新日期:2024-05-18◇ 通达信沪深京F10 ★本栏包括【1.所属板块】【2.主题投资】【3.事件驱动】【4.信息面面观】 【1.所属板块】 概念:次新股 风格:融资融券、近端次新、融资增加 指数:无 【2.主题投资】 ──────┬──────┬──────────────────────────── 2024-05-09│次新股 │关联度:☆☆☆☆☆ ──────┴──────┴──────────────────────────── 公司于2024-05-09在上交所科创板上市;主营:高性能溅射靶材的研发、生产和销售。 ──────┬──────┬──────────────────────────── 2024-05-09│靶材 │关联度:☆☆☆☆☆ ──────┴──────┴──────────────────────────── 公司主要产品包括多种尺寸和各类形态的铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和 ITO 靶等 ──────┬──────┬──────────────────────────── 2024-05-16│融资增加 │关联度:☆☆☆☆ ──────┴──────┴──────────────────────────── 截止2024-05-16公司融资余额相对于5个交易日前增加额占流通市值比例为:1.96% ──────┬──────┬──────────────────────────── 2024-05-09│近端次新 │关联度:☆☆☆☆☆ ──────┴──────┴──────────────────────────── 公司于20240509上市。 【3.事件驱动】 暂无数据 【4.信息面面观】 ┌──────┬─────────────────────────────────┐ │栏目名称 │ 栏目内容 │ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │公司简介 │公司主营业务为高性能溅射靶材的研发、生产和销售,主要产品包括多种尺│ │ │寸和各类形态的铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和ITO靶等,产品可广泛应用于 │ │ │半导体显示、触控屏、建筑玻璃、装饰镀膜、集成电路封装、新能源电池和│ │ │太阳能电池等领域,是各类薄膜工业化制备的关键材料。 │ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │产品业务 │公司主要产品包括多种尺寸和各类形态的铜靶、铝靶、钼及钼合金靶、ITO │ │ │靶等,除上述产品外,公司其他类靶材包括铝钕合金靶、锌锡合金靶、硅铝│ │ │合金靶、镍铬合金靶、钛靶等近40种金属/非金属单质靶材、合金靶材和陶 │ │ │瓷化合物靶材。公司溅射靶材可广泛应用于半导体显示、触控屏、装饰镀膜│ │ │、建筑玻璃、集成电路封装、新能源电池和太阳能电池等领域。 │ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │经营模式 │1、采购模式 │ │ │公司采用以产定购、主要原材料适当备货的采购模式,综合考虑各类原材料│ │ │的市场价格情况、库存情况、运输时间等因素制定采购计划并实施采购,确│ │ │保公司原材料保持合理的安全库存。 │ │ │2、生产模式 │ │ │公司采用“以销定产”与提前备货相结合的生产模式,为保障按时交付产品│ │ │,公司通常综合考虑客户订单、需求预测等情况制定生产计划,提前排期进│ │ │行生产和备货。 │ │ │3、销售模式 │ │ │公司产品销售主要采用直销模式。公司主要通过参加行业展会与专业论坛、│ │ │主动商务拜访、客户推荐等方式开拓客户。公司与客户确立初步合作意向后│ │ │,需先通过客户严格的产品认证流程,方可成为其合格供应商,向其批量供│ │ │货。 │ │ │4、研发模式 │ │ │公司始终专注于高性能溅射靶材领域内核心技术及生产工艺的研发创新,现│ │ │已建立起科学合理的研发管理体系。公司研究院密切关注客户需求和市场动│ │ │态,根据客户对溅射靶材的技术性能要求,不断提升产品性能、丰富产品类│ │ │型,研发适配于客户需求的新技术、新工艺和新产品。公司亦高度重视行业│ │ │前沿领域的技术研究,持续探索研究溅射靶材及相关领域内具有创新性的技│ │ │术与产品,保证公司的技术领先地位。 │ │ │5、特殊经营模式 │ │ │溅射靶材的应用系根据磁控溅射原理,在被溅射的靶材和基板之间施加一个│ │ │正交磁场和电场,将对应磁场线上靶坯原子轰击至基板表面积淀成膜。因此│ │ │,溅射过程中仅位于磁场线上的靶坯可有效利用,消耗更快。受电磁场分布│ │ │影响,平面靶在溅射过程中会形成“跑道”状的刻蚀环,跑道之外的位置溅│ │ │射消耗较少,靶坯利用率一般较低;旋转靶在溅射过程中,靶材可绕固定条│ │ │状磁铁组件旋转,靶坯表面可被均匀刻蚀,靶坯利用率通常较高。为防止靶│ │ │材被击穿导致产品覆膜不完整或不均匀,客户通常会在靶材未完全消耗时停│ │ │止使用,靶材溅射后剩余部分称为“残靶”。 │ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │行业地位 │公司是国内技术领先、规模较大的高性能溅射靶材生产企业之一,主要从事│ │ │铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和ITO靶等多种尺寸和各类形态溅射靶材的研发 │ │ │、生产和销售。公司主要产品综合性能突出,纯度、致密度、晶粒度、绑定│ │ │焊合率等多项核心技术指标已达到行业领先水平。公司钼铌合金靶材、氧化│ │ │铌靶、钼管靶材分别于2017年、2018年、2019年被认定为“广东省高新技术│ │ │产品”,2019年公司旋转铜靶、旋转铝靶获得“2018年度中国新型显示产业│ │ │链发展突出贡献奖”,2020年公司G10.5平面铜靶获得“2019年度中国新型 │ │ │显示产业链发展突出贡献奖”,2021年公司G8.5代平面铜靶材、大尺寸钼铌│ │ │平面靶材被认定为“韶关市高新技术产品”,2023年公司TFT高纯铝旋转靶 │ │ │材被认定为“广东省名优高新技术产品”,平板显示用铜靶材被评为“2022│ │ │年省级制造业单项冠军产品”,钼基合金靶材获得“2022年度中国新型显示│ │ │产业链贡献奖创新突破奖”并被认定为“广东省名优高新技术产品”,2023│ │ │年东莞欧莱TFT高纯铜靶材被认定为“广东省名优高新技术产品”。2021年 │ │ │公司被认定为国家级专精特新“小巨人”企业、中央财政支持第二批重点“│ │ │小巨人”企业,2022年公司获得韶关市人民政府颁发的“韶关市政府质量奖│ │ │”。子公司东莞欧莱2022年和2023年分别被广东省工业和信息化厅认定为“│ │ │2022年创新型中小企业”、“广东省专精特新中小企业”。 │ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │核心竞争力 │(1)持续突破技术和优化工艺,大幅降低平面显示面板产业链成本 │ │ │公司通过持续的技术工艺研发,打破了国外主要溅射靶材企业在相关应用领│ │ │域的技术垄断,不断优化生产工序,提高溅射靶材成材率,降低生产过程中│ │ │的损耗,有效地控制并降低了生产成本,不仅能够配合下游客户根据行业周│ │ │期变化和终端市场情况进行供应调整,还能够针对全行业的成本控制需求进│ │ │行产品或技术升级,大幅降低平面显示行业产业链成本,确保供应链的稳定│ │ │和安全。 │ │ │(2)技术研发实力领先,构建自主可控、创新性强的核心技术壁垒 │ │ │公司始终聚焦于新材料及相关工艺技术的研发与技术成果的产业化转化,现│ │ │已构建起自主可控、创新性强、实用性高的核心技术体系,形成了丰富的自│ │ │主知识产权成果,树立了知识产权壁垒。截至2024年2月29日,公司拥有134│ │ │项授权专利,其中发明专利31项,实用新型专利103项,涵盖了公司产品的 │ │ │各个关键技术领域。 │ │ │(3)客户认证优势明显,与下游知名头部客户的合作关系不断深化 │ │ │一般而言,客户的产品认证流程主要包括供应商初步评价、供应商技术能力│ │ │评价、首套产品试制、小批量测试等步骤,认证流程较为繁琐,从首套产品│ │ │送样客户到产品批量供应的时间周期在6-24个月左右,认证周期较长。在半│ │ │导体显示领域,溅射靶材供应商需按照显示面板厂商的不同显示面板生产线│ │ │分别独立进行产品认证。此外,若溅射靶材供应商更换重要原材料,客户通│ │ │常会要求重新进行产品认证。因此,溅射靶材供应商一旦通过客户的产品认│ │ │证,成功导入客户生产线后,将与客户建立长期稳定的合作关系。 │ │ │(4)主要产品综合性能突出,全方位满足不同下游客户差异化需求 │ │ │公司凭借行业领先的生产工艺技术与研发能力,不断优化生产工艺曲线,持│ │ │续提升溅射靶材的各项核心技术指标。在与下游客户的合作过程中,公司充│ │ │分利用本土服务优势,能够快速为客户交付溅射靶材,并能够根据客户各产│ │ │线的实际情况和溅射使用过程中出现的技术问题,及时调试设备、调整技术│ │ │与工艺以进一步优化改善产品工艺和性能指标,大幅提升了公司溅射靶材和│ │ │客户产线的适配度,与客户的合作关系持续深化。公司部分产品现已进入越│ │ │亚半导体、SKHynix(海力士)、万顺新材、宝明科技、腾胜科技、中建材 │ │ │等半导体集成电路、新能源电池和太阳能电池领域知名客户的供应体系,进│ │ │一步丰富了产品结构,提升了综合配套服务能力,全方位满足了不同下游客│ │ │户对溅射靶材的差异化需求。 │ │ │(5)掌握核心技术和关键工艺参数,不断提升生产效率和产品质量 │ │ │公司建立了业内领先的溅射靶材检测分析中心,配备了激光粒度仪、比表面│ │ │积仪、光谱仪、台阶仪等专业的分析检测设备。质量体系及检测分析中心的│ │ │运行实施有效地保障了公司各项产品持续符合质量标准和客户对溅射靶材的│ │ │技术规格要求,获得了京东方、华星光电、惠科等下游知名头部客户的高度│ │ │认可。 │ │ │(6)核心技术团队经验丰富,持续推动核心技术工艺的创新和突破 │ │ │公司技术团队由多名金属材料、难熔金属和合金材料、陶瓷化合物材料等溅│ │ │射靶材领域的资深技术研发人员组成,对溅射靶材的产品技术和生产工艺理│ │ │解透彻,具有深厚的技术积累和敏锐的市场洞察力。截至2023年12月31日,│ │ │公司共有63名研发人员,占员工总数的比例为13.88%。公司技术团队专业结│ │ │构搭配合理,覆盖了金属提纯、结构设计、晶粒控制、粉末制备、气氛烧结│ │ │、包套、挤压成型、机加工、绑定、清洗包装等溅射靶材生产加工的各个工│ │ │艺环节,能够快速响应下游市场及客户的差异化需求,为下游客户提供针对│ │ │性的技术开发方案。 │ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │竞争对手 │JX金属、霍尼韦尔、东曹、林德-普莱克斯、爱发科、三井金属、住友化学 │ │ │、攀时、世泰科、江丰电子、阿石创、隆华科技、有研亿金、映日科技、先│ │ │导薄膜。 │ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │品牌/专利/经│截至2024年2月29日,公司拥有134项授权专利,其中发明专利31项,实用新│ │营权 │型专利103项,涵盖了公司产品的各个关键技术领域。 │ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │投资逻辑 │公司是国内技术领先、规模较大的高性能溅射靶材生产企业之一,主要从事│ │ │铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和ITO靶等多种尺寸和各类形态溅射靶材的研发 │ │ │、生产和销售。公司主要产品综合性能突出,纯度、致密度、晶粒度、绑定│ │ │焊合率等多项核心技术指标已达到行业领先水平。 │ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │消费群体 │半导体集成电路、平面显示、太阳能电池、信息存储、低辐射玻璃等领域。│ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │消费市场 │境内外销售。公司主营业务收入主要来源于境内,公司境内销售区域主要集│ │ │中在华东地区、华南地区、华中地区和西南地区。 │ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │行业发展趋势│(1)国产化进程加速,国内溅射靶材厂商迎来良好发展机遇 │ │ │自中美贸易战以来,国际政治经济紧张局势日益加剧,美国对中国高新科技│ │ │产业的限制仍在继续,已严重影响到国内众多厂家的供应链安全,在半导体│ │ │、新材料、高端装备等关键产业实现国产配套已成共识。高性能溅射靶材作│ │ │为半导体显示、半导体集成电路、太阳能电池等高新技术产业的关键原材料│ │ │,产业链国产化趋势将加速溅射靶材行业的国产化进程,为国内溅射靶材厂│ │ │商进入下游知名制造厂商的供应体系提供良好的发展机遇,有助于国内溅射│ │ │靶材厂商快速缩小与国际大型厂商之间的差距。 │ │ │(2)上游溅射靶材和下游应用市场协同发展,实现产业联动 │ │ │国内下游产业的不断发展和进步,为本土溅射靶材厂商带来了巨大的发展机│ │ │遇。通过上下游产业的协同发展,推动关键领域技术突破,在溅射靶材工艺│ │ │设计、薄膜性能分析、终端产品制造环节实现产业联动发展,增强国内溅射│ │ │靶材和下游显示面板、半导体集成电路和太阳能电池厂商的全球竞争力。 │ │ │(3)下游应用领域发展升级,提高溅射靶材技术和性能要求 │ │ │高性能溅射靶材行业的发展与下游平面显示、半导体集成电路、新能源电池│ │ │、光伏等新兴产业的市场需求及技术革新密切相关,下游行业的持续发展升│ │ │级对溅射靶材性能、技术均提出了更高要求。随着终端用户需求的不断扩展│ │ │以及高性能薄膜材料与磁控溅射技术的蓬勃发展,溅射靶材正朝着高纯度、│ │ │大尺寸、高致密度、高溅射速率和高利用率等方向快速发展,综合性能将持│ │ │续提升,从而更好地满足终端产品智能化、精密化、大尺寸化、高分辨率、│ │ │高清晰度、高色彩饱和度、高品质、高稳定性等要求。 │ │ │(4)显示面板世代线持续升级,溅射靶材尺寸逐步趋向大型化 │ │ │随着显示面板世代线不断升级,玻璃基板尺寸增大,需要配套尺寸更大的高│ │ │性能溅射靶材,对溅射靶材的综合性能指标和生产加工工艺流程均提出了更│ │ │高的要求。大尺寸溅射靶材的综合性能取决于原材料配方工艺设计,微观组│ │ │织结构控制的均匀性和一致性等因素,在复杂的生产加工过程中,如何在大│ │ │尺寸的前提下,平衡协调不同因素间的相互影响,综合提升纯度、致密度、│ │ │晶粒度、绑定焊合率、直线度、氧含量、电阻率等核心技术性能指标,是实│ │ │现溅射靶材尺寸大型化的关键。 │ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │行业政策法规│《电子信息制造业2023—2024年稳增长行动方案》、《制造业可靠性提升实│ │ │施意见》、《韶关市科技创新“十四五”规划》、《“十四五”原材料工业│ │ │发展规划》、《中华人民共和国国民经济和社会发展第十四个五年规划和20│ │ │35年远景目标纲要》、《广东省发展超高清视频显示战略性支柱产业集群加│ │ │快建设超高清视频产业发展试验区行动计划(2021—2025年)》、《广东省│ │ │人民政府关于培育发展战略性支柱产业集群和战略性新兴产业集群的意见》│ │ │、《广东省培育前沿新材料战略性新兴产业集群行动计划(2021-2025年) │ │ │》、《关于扩大战略性新兴产业投资培育壮大新增长点增长极的指导意见》│ │ │、《扩大和升级信息消费三年行动计划(2018~2020年)》、《新材料关键 │ │ │技术产业化实施方案》、《增强制造业核心竞争力三年行动计划(2018-202│ │ │0年)》、《产业关键共性技术发展指南(2017年)》、《有色金属工业发 │ │ │展规划(2016~2020年)》、《产业技术创新能力发展规划(2016~2020年)│ │ │》、《“十三五”先进制造技术领域科技创新专项规划》、《“十三五”材│ │ │料领域科技创新专项规划》、《信息产业发展指南》、《新材料产业发展指│ │ │南》、《“十三五”国家战略性新兴产业发展规划》、《中国制造2025》。│ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │公司发展战略│公司将秉承“以客户为中心”的经营理念,全面贯彻“以屏为依托,多前沿│ │ │领域深入发展”的战略方针,通过持续加大技术研发投入,扩大现有生产制│ │ │造规模,积极布局上游高纯金属材料,拓展产品下游应用领域,巩固并持续│ │ │提升公司高性能溅射靶材在技术、产品、市场等方面的行业领先地位和核心│ │ │竞争力,力争在全球高性能溅射靶材领域内成为具有一定市场竞争力和行业│ │ │影响力的知名厂商。 │ │ │公司将巩固并提升在平面显示用溅射靶材领域的领先地位。公司将紧密围绕│ │ │市场发展趋势和下游客户需求,持续改良生产工艺,提升产品综合性能,拓│ │ │展在高世代显示面板生产线中的产品应用,通过优化现有生产布局,扩大生│ │ │产制造规模,就近为下游客户提供全方位的产品配套服务,进一步提升在平│ │ │面显示用溅射靶材的市场占有率。 │ │ │公司将积极布局上游高纯金属材料,实现关键技术领域的创新与突破,提升│ │ │高性能溅射靶材的持续稳定供应能力。公司将加大高纯金属材料的研发投入│ │ │力度,深入研究高纯金属材料提纯技术与生产工艺,建设高纯金属材料生产│ │ │基地,实现高导电率、低氧含量高纯金属材料的量产供货能力,向上游延伸│ │ │产品价值链,进一步提高公司产品质量的稳定性和一致性。 │ │ │公司将凭借现有市场基础和客户资源,不断拓展高性能溅射靶材的下游应用│ │ │领域。公司将建立半导体集成电路靶材研发试制基地,开展半导体集成电路│ │ │晶圆制造用溅射靶材的研发试制,实现半导体集成电路用溅射靶材的产业化│ │ │应用。此外,公司将持续推动产品技术创新和生产工艺革新,以ITO靶、铜 │ │ │靶等溅射靶材为依托,研制适配于异质结电池、新型复合铜箔的溅射靶材,│ │ │开发出更多具有较高技术含量和附加值的产品,丰富公司产品的下游应用场│ │ │景。 │ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │公司经营计划│1、扩大现有产能,优化生产布局 │ │ │为实现公司进一步扩大生产制造规模目标,公司计划利用本次公开发行股票│ │ │募集资金投资建设高端溅射靶材生产基地项目(一期),突破公司溅射靶材│ │ │后段加工工序的产能瓶颈,扩张主营业务产品生产能力。公司将进一步优化│ │ │产品生产布局,利用高端溅射靶材生产基地的地理位置优势,为华东地区客│ │ │户就近提供高质量的溅射靶材和专业配套服务,充分满足现有客户和未来新│ │ │增客户的订单需求,增强公司产品的市场竞争力,提升公司高性能溅射靶材│ │ │的市场占有率。 │ │ │2、布局产业上游,加强供应保障 │ │ │公司将与主要供应商扩大业务合作的广度和深度,建立互利共赢的战略合作│ │ │关系,保障公司供应链稳定运行。公司将通过本次公开发行股票募集资金建│ │ │设实施高纯无氧铜生产基地建设项目,深入研究高纯金属材料提纯技术与生│ │ │产工艺,自主生产加工高纯铜锭、高纯无氧铜板和铜管,实现高导电率、低│ │ │氧含量高纯铜的量产供货,在现有高性能溅射靶材的基础上向上游延伸产品│ │ │价值链,保障高纯铜持续稳定的供应,提升公司产品附加值,进一步提高公│ │ │司溅射靶材质量的稳定性和一致性。 │ │ │3、加大研发投入,推动工艺升级 │ │ │公司将持续加大研发投入力度,继续夯实平面显示用溅射靶材的技术优势,│ │ │通过对高纯金属材料和高性能薄膜材料的技术研发,积极探索产业链上下游│ │ │,实现溅射靶材工艺技术的改进与升级。同时,公司将通过实施本次募集资│ │ │金投资项目,建设半导体集成电路用溅射靶材试制基地,对半导体集成电路│ │ │用溅射靶材进行技术研发、产品试制,拓展溅射靶材在半导体集成电路领域│ │ │的应用。公司将配备先进的研发设备和经验丰富的研发人员,全面提升生产│ │ │自动化水平和品质管控能力,提高生产效率,降低生产成本。 │ │ │4、引进优秀人才,加强梯队建设 │ │ │公司将根据业务经营情况、未来战略发展战略和产品布局情况,持续完善与│ │ │业务发展相匹配的人力资源管理体系,通过内部培养、外部招聘、竞争轮岗│ │ │相结合的方式,招聘技能突出、基础扎实的技术人才和管理人才,并加强与│ │ │学校及科研院所的合作,依托“博士后科研工作站”、“广东省博士工作站│ │ │”、“广东省科技专家工作站”、“省级企业技术中心”,引进高精尖技术│ │ │人才,提升团队专业化水平,建设一支年龄梯度合理、专业结构科学的技术│ │ │研发和管理人才队伍。公司将为核心团队设置合理的绩效考核和激励机制,│ │ │不断提升自主创新能力和技术研发水平。 │ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │公司资金需求│高端溅射靶材生产基地项目(一期)、高纯无氧铜生产基地建设项目、欧莱│ │ │新材半导体集成电路靶材研发试制基地项目、补充流动资金。 │ ├──────┼─────────────────────────────────┤ │可能面对风险│一、与公司相关的风险: │ │ │(一)经营风险;(二)技术风险;(三)法律风险;(四)内控风险;(│ │ │五)财务风险;(六)募集资金投资项目风险 │ │ │二、与行业相关的风险: │ │ │(一)公司产品主要应用于平面显示行业,经营业绩受平面显示行业波动影│ │ │响风险;(二)国内溅射靶材行业市场竞争进一步加剧风险;(三)技术升│ │ │级迭代风险 │ │ │三、其他风险: │ │ │(一)实际控制人不当控制风险 │ └──────┴─────────────────────────────────┘ 〖免责条款〗 1、本公司力求但不保证提供的任何信息的真实性、准确性、完整性及原创性等,投资者使 用前请自行予以核实,如有错漏请以中国证监会指定上市公司信息披露媒体为准,本公司 不对因上述信息全部或部分内容而引致的盈亏承担任何责任。 2、本公司无法保证该项服务能满足用户的要求,也不担保服务不会受中断,对服务的及时 性、安全性以及出错发生都不作担保。 3、本公司提供的任何信息仅供投资者参考,不作为投资决策的依据,本公司不对投资者依 据上述信息进行投资决策所产生的收益和损失承担任何责任。投资有风险,应谨慎至上。

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