最新提示☆ ◇300786 国林科技 更新日期：2025-06-22◇ 通达信沪深京F10
★本栏包括【1.最新提示】【2.互动问答】【3.最新公告】【4.最新报道】
【5.最新异动】【6.大宗交易】【7.融资融券】【8.风险提示】
【1.最新提示】
【最新提醒】
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│●最新主要指标 │ 2025-03-31│ 2024-12-31│ 2024-09-30│ 2024-06-30│
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│每股收益(元) │ -0.0400│ -0.2700│ -0.1900│ -0.1300│
│每股净资产(元) │ 6.1656│ 6.2971│ 6.3761│ 6.4344│
│加权净资产收益率(%) │ -0.5600│ -4.1800│ -2.9400│ -1.9700│
│实际流通A股(万股) │ 14670.14│ 14670.14│ 14670.14│ 14670.14│
│限售流通A股(万股) │ 3731.44│ 3731.44│ 3731.44│ 3731.44│
│总股本(万股) │ 18401.59│ 18401.59│ 18401.59│ 18401.59│
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│●最新公告:2025-06-03 16:54 国林科技（300786）：关于子公司停产检修的公告(详见后) │
│●最新报道:2025-06-20 17:27 国林科技(300786)：暂无核污染业绩应用(详见后) │
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│●财务同比:2025-03-31 营业收入(万元):11485.85 同比增(%):18.79；净利润(万元):-611.14 同比增(%):-42.53 │
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│最新分红扩股: │
│●分红:2024-12-31 不分配不转增 │
│●分红:2024-06-30 不分配不转增 │
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│●股东人数:截止2025-06-10,公司股东户数20903,减少1.64% │
│●股东人数:截止2025-05-30,公司股东户数21251,减少0.62% │
│(详见股东研究-股东人数变化) │
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│●2025-06-20投资者互动:最新24条关于国林科技公司投资者互动内容 │
│(详见互动回答) │
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【主营业务】
专业从事臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设备安装、调试、运行及维护等业务。
【最新财报】
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│最新主要指标 │ 2025-03-31│ 2024-12-31│ 2024-09-30│ 2024-06-30│
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│每股经营现金流(元) │ 0.0580│ -0.1640│ -0.1860│ -0.1720│
│每股未分配利润(元) │ 1.6018│ 1.6350│ 1.7198│ 1.7777│
│每股资本公积(元) │ 3.5460│ 3.5452│ 3.5447│ 3.5452│
│营业收入(万元) │ 11485.85│ 49303.74│ 34532.52│ 21042.18│
│利润总额(万元) │ -549.74│ -6152.33│ -4636.02│ -3189.15│
│归属母公司净利润(万) │ -611.14│ -4995.89│ -3533.33│ -2468.50│
│净利润增长率(%) │ -42.53│ -71.46│ -671.86│ -280.14│
│最新指标变动原因 │ ---│ ---│ ---│ ---│
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【近五年每股收益对比】
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│年份 │ 年度│ 三季│ 中期│ 一季│
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│2025 │ ---│ ---│ ---│ -0.0400│
│2024 │ -0.2700│ -0.1900│ -0.1300│ -0.0200│
│2023 │ -0.1600│ -0.0200│ -0.0400│ 0.0100│
│2022 │ 0.1000│ 0.0700│ 0.0500│ 0.0400│
│2021 │ 0.8400│ 0.7200│ 0.4100│ 0.1300│
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【2.互动问答】
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│06-20 │问：从技术路径上，公司臭氧设备是否为核废水、核污水以及带放射性物质的水的处理必要环节之一 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司深耕臭氧发生器领域多年，臭氧设备产品广泛应用于市政给水、工业废水、市政污│
│ │水、中水回用、海水淡化、烟气脱硝、化工氧化、空间消毒等领域，暂无核污染业绩应用。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：核废水和核污水、以及具有放射性的水，其处理方式过程中，是否涉及到公司臭氧设备参与处理的环节 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司深耕臭氧发生器领域多年，臭氧设备产品广泛应用于市政给水、工业废水、市政污│
│ │水、中水回用、海水淡化、烟气脱硝、化工氧化、空间消毒等领域，暂无核污染业绩应用。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：公司臭氧发生器用于核设施空气灭菌，降低生物污染风险 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司深耕臭氧发生器领域多年，臭氧设备产品广泛应用于市政给水、工业废水、市政污│
│ │水、中水回用、海水淡化、烟气脱硝、化工氧化、空间消毒等领域，暂无核污染业绩应用。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：请问公司互动易提到的公司提供并参与火箭推进剂处理的业务，是哪家公司客户名称是哪家 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。具体客户名称不便透露，敬请谅解。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：pcb生产需要用到公司的产品吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。视情况而定，非必需品类。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：公司到底有没有核污染防治的技术产品 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司深耕臭氧发生器领域多年，臭氧设备产品广泛应用于市政给水、工业废水、市政污│
│ │水、中水回用、海水淡化、烟气脱硝、化工氧化、空间消毒等领域，暂无核污染业绩应用。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：公司在面板领域，具体作用的产品分类有哪些microled、miniled有吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体所研发的半导体行业专用臭氧发生器气体设备及臭氧水机设备可以应用于面│
│ │板行业。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：公司产品在石油炼化领域的应用 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。新疆国林生产的甲酸钾可以应用于油田行业。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：公司有没有应用在BC电池清洗二和清洗三烘干工序和TOPCON工艺RCA烘干工序的臭氧设备 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。有相关应用，但占主营业务收入比重较低。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：美国mks的臭氧设备是wlp（晶圆级封装）关键设备，请问公司的臭氧产品是否直接应用于wlp（晶圆级封装） │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体所研发的半导体行业专用臭氧发生器气体设备及臭氧水机设备可以应用于wl│
│ │p（晶圆级封装），相关业务正在推广中。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：紫外臭氧清洗作为光刻掩膜板清洁的重要方式，公司半导体臭氧设备能否实现紫外臭氧清洗光刻掩膜板 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司现有产品可以替代实现清洗。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：公司半导体臭氧设备能用做湿法清洗、干法清洗、混合清洗吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体所研发的半导体行业专用臭氧发生器气体设备及臭氧水机设备可以满足以上│
│ │需求。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：公司目前是a股上市公司中唯一做光刻清洗路线中的臭氧设备的吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司暂未了解到有同行业其他上市公司。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：公司的半导体产品已经进入到了新凯来的产品测试对吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。具体客户名称暂不便透露，敬请谅解。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：公司您好，日本明电舍公司Meidensha推出400ppm高浓度臭氧水装置已用于5nm芯片的制造过程，这被业内证明│
│ │400pp高浓度臭氧水是5nm芯片制造的技术门槛要求。公司是否已经研发成功400ppm的高浓度臭氧水半导体设备如果│
│ │是，那么从技术门槛上，也符合国产5nm芯片的制造要求对吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司可提供150mg/L浓度级臭氧水发生器、400mg/L浓度级臭氧气体发生器、+-0.1us/cm│
│ │高精度氨水发生器、5%高精度二氧化碳水发生器以及各类型臭氧检测仪表与配套的臭氧分解装置等关键性系列产品│
│ │，可应用于半导体行业各品类的先进＆前沿制程中。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：华为海思的麒麟芯片现在是全国产制造的标志，象征着我国半导体全链条自主可控的结晶。请问公司有助力与│
│ │参与华为海思麒麟芯片的国产自主可控的半导体芯片制造全链条之中吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。具体客户名称暂不便透露，敬请谅解。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：公司第二季度的晶体乙醛酸销售情况有得到改观吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。2025年半年度经营情况请您关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：其他公司的家庭健康水净化器可以净化放射性物质，请问公司的是否有这样的功能 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林健康研发的净水器主要作用为过滤杂质、臭氧消菌杀毒、祛除异味及农残等。感谢│
│ │您的关注。 │
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│06-20 │问：公司在半导体设备领域的海外客户有哪些 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。具体客户名称暂不便透露，敬请谅解。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：国林健康的净水器能否针对含有微量放射性物质的水源 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林健康研发的净水器主要作用为过滤杂质、臭氧消菌杀毒、祛除异味及农残等。感谢│
│ │您的关注。 │
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│06-20 │问：今年，公司产品的原材料价格上涨还是降低了公司的毛利是增大还是减小了公司的产品价格跟着上涨了吗、 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。原材料价格随着市场价格变化而波动，公司无法预计原材料价格未来的走势；详细经营│
│ │情况请您关注公司定期报告。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│06-20 │问：臭氧净化辐射污染金属设备，能够有效减少二次液体放射性废物处理所需的时间。臭氧技术确实可以用于核污│
│ │水处理，尤其针对核污水中难降解有机物（如润滑剂、溶剂），臭氧可断裂不饱和键（C=C、C≡C）及芳香环结构 │
│ │，生成小分子羧酸、醛类，降低生物毒性。请问公司作为臭氧环保设备的领军企业，是否有针对放射性污水中存在│
│ │大量高浓度难降解有机物的处理的技术产品 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司深耕臭氧发生器领域多年，臭氧设备产品广泛应用于市政给水、工业废水、市政污│
│ │水、中水回用、海水淡化、烟气脱硝、化工氧化、空间消毒等领域。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：公司目前从事的半导体设备领域，国产可替代空间有多大按照薄膜沉积、蚀刻、清洗具体分类来看，它们的整│
│ │体国内市场年市场额度是多少 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体相关臭氧设备主要用做半导体湿法清洗、薄膜沉积等行业辅助设备使用，公│
│ │司暂未能从行业协会、调研报告等官方渠道获悉该行业市场额度等信息。感谢您的关注。 │
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│06-20 │问：公司参与了秦山核电站的臭氧活性处理对吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。早年间公司为秦山核电站提供过臭氧发生器系统设备，占公司主营业务收入比重较小。│
│ │感谢您的关注。 │
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│06-13 │问：在光刻技术方面，高纯二氧化碳用于浸没式光刻技术，保证液体不从侧面泄露出去，进一步提高光刻分辨率。│
│ │公司是否研发了半导体级别的高纯二氧化碳发生器技术上是否满足上述光刻理论原理 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司正在积极研发相关设备，目前处于研发阶段，详情请关注公司定期报告。感谢您的│
│ │关注。 │
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│06-13 │问：高纯二氧化碳还被用于第三代半导体材料的界面处理，例如碳化硅和二氧化硅之间的界面质量会对碳化硅场效│
│ │应晶体管的性能产生限制，而超临界二氧化碳处理可以降低界面态密度，提高器件性能。公司在第三代半导体材料│
│ │领域是否研发了二氧化碳专用设备 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司正在积极研发相关设备，目前处于研发阶段，详情请关注公司定期报告。感谢您的│
│ │关注。 │
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│06-13 │问：根据智研瞻产业研究院发布：《中国乙醛酸行业深度调研及投资前景预测报告》，截止到2024年，国内高品质│
│ │乙醛酸晶体仍需依赖进口来满足需求，每吨超过4.5万元人民币。请问公司，既然国内市场对于高品质乙醛酸晶体 │
│ │的需求属于供不应求的情况，但是公司的产品在国内的销售情况好像并不是那么理想。是因为公司的产品目前还做│
│ │不到这么高的品质，所以没办法与进口高端乙醛酸晶体相竞争吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。子公司新疆国林生产的晶体乙醛酸，其中乙醛酸一水合物浓度在98%以上，甲酸、草酸 │
│ │、马来酸浓度较低，且不含传统“乙二醛硝酸氧化法”工艺中的乙二醛、氯离子等有害物质。公司将积极拓展销售│
│ │市场，促进营收增长，为公司的持续发展和投资者的利益带来新的动力。感谢您的关注。 │
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│06-13 │问：公司公众号信息：公司生产基地占地约10万平方米，是全球最大的晶体乙醛酸生产基地，实现年产2.5万吨乙 │
│ │醛酸晶体和2.27万吨甲酸钾晶体。请问是否属实 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。目前公司暂未获悉国内外存在其他大规模生产高品质晶体乙醛酸的企业。感谢您的关注│
│ │。 │
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│06-13 │问：公司是否有涉及稀土精炼废水处理 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。公司深耕臭氧发生器领域多年，臭氧设备产品广泛应用于市政给水、工业废水、市政污│
│ │水、中水回用、海水淡化、烟气脱硝、化工氧化、空间消毒等领域。感谢您的关注。 │
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│06-13 │问：公司的产品技术是否已拓展至光模块生产领域 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体基于集团多年来在臭氧机理研究的技术优势和技术沉淀，目前所研发的为半│
│ │导体行业专用的臭氧发生器和臭氧水机核心器件均可实现自研自制，能够为半导体、光伏、面板等行业提供系统配│
│ │套设备，并可以为终端用户提供臭氧系统设备的日常维护和整机维修业务。感谢您的关注。 │
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│06-13 │问：公司是否考虑改善一下国林新材料的销售团队和销售渠道，不要让好好的产品最后因为销售拖累了整体。 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。您的建议会转达至公司决策层，并将积极审慎考虑。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│06-13 │问：公司有第三代半导体领域相关的产品技术吗在氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)等第三代半导体器件制造中，臭氧用│
│ │于高质量氧化层的沉积。 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体基于集团多年来在臭氧机理研究的技术优势和技术沉淀，目前所研发的为半│
│ │导体行业专用的臭氧发生器和臭氧水机核心器件均可实现自研自制，能够为半导体、光伏、面板等行业提供系统配│
│ │套设备，并可以为终端用户提供臭氧系统设备的日常维护和整机维修业务。感谢您的关注。 │
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│06-13 │问：在2.5D/3D封装中，臭氧用于介电层的沉积和表面处理，提升封装可靠性和性能。公司是否有针对2.5d/3d封装│
│ │的臭氧设备 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。子公司国林半导体现有产品可以应用于先进封装过程中的清洗工艺环节。感谢您的关注│
│ │。 │
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│06-13 │问：臭氧与特定气体（如CF、SF）反应生成活性离子，用于硅、氮化硅等材料的精准蚀刻。相比传统等离子蚀刻，│
│ │臭氧蚀刻对基材损伤更小，适用于高精度图形化工艺。减少热应力，避免第三代半导体材料（如碳化硅）因高温导│
│ │致的晶格缺陷。公司有蚀刻相关的半导体臭氧设备吗能起到怎样的作用 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程。子公司国林半导体现有产品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度│
│ │臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪│
│ │、臭氧水溶浓度检测仪等产品。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│06-13 │问：公司在第三代半导体器件氧化层沉积良率提升的专用臭氧工艺与设备有哪些 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。国林半导体目前所研发的为半导体行业专用的臭氧发生器和臭氧水机设备可满足该工艺│
│ │需求。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│06-13 │问：公司有像业内其他公司一样，开发针对氧化镓(GaO)、二硫化钼(MoS)等第四代半导体材料的专用臭氧工艺包吗│
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。暂未涉及。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│06-13 │问：针对存储芯片客户需求，例如：3D NAND堆叠层数从128层升级至232层，要求薄膜沉积氧化工艺稳定性提升； │
│ │公司有这方面的技术工艺吗 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等│
│ │工艺制程，公司目前有薄膜沉积工艺制程业绩，占主营业务收入比重较小。感谢您的关注。 │
├──────┼──────────────────────────────────────────────────┤
│06-13 │问：公司按照细分领域来看，3大业务板块都是一流水准。工业臭氧设备当之无愧的国内第一，半导体臭氧设备技 │
│ │术也是世界一流、国内第一，晶体乙醛酸规模世界第一、国内唯一。结果公司就始终在20亿的市值规模徘徊，请问│
│ │到底出了什么问题公司是否有认真审视自身为什么这么多第一，结果公司还是一个小微股何时才能把这些“第一”│
│ │的名头，转换为实实在在的市值 │
│ │ │
│ │答：尊敬的投资者，您好。感谢您的建议，目前公司生产经营一切正常，公司将持续聚焦主业，努力发展重要延伸│
│ │产业，通过技术升级、产能优化推动业
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