光刻胶概念股票|光刻胶板块龙头股资金流向(实时)

泰和科技：2024年报披露，以电子级乙腈、异丙醇、异丙醚、甲基叔丁基醚、二氯甲烷、乙酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯、甲酸、正己烷、三乙胺、二氧六环、甲醇、乙醇、环己酮等为代表的有机溶剂类电子化学品，用于半导体制造清洗、光刻胶处理及电子元器件生产的涂层制备、脱膜等关键环节；以电子级盐酸、氨基磺酸、亚磷酸为代表的无机酸类电子化学品，用于半导体、集成电路、平板显示等电子工业领域中芯片制造、光刻、蚀刻、清洗，其中电子级盐酸已达到G2标准，正向G3迈进；以电子级酚醛树脂、（4-叔丁基苯基）二苯基氯化硫鎓盐、重氮萘醌（DNQ）为代表的光刻胶材料类电子化学品，用于半导体制造、集成电路生产以及平板显示等领域中精细图形的转移和蚀刻，其中光刻胶酚醛树脂产品已通过客户验证，形成了小批量销售。

兴业股份：2026年6月，公司异动公告披露，公司的半导体光刻胶用酚醛树脂仅处于送样测试阶段，尚未签订任何供货合同、暂未形成销售收入，最终能否成功市场化存在不确定性；公司的电子级酚醛树脂销售规模较小，2025年度仅占营业收入的0.12%。

安集科技：公司在功能性湿电子化学品领域，致力于攻克领先技术节点难关并提供相应的产品和解决方案，持续拓展产品线布局，目前已涵盖刻蚀后清洗液、光刻胶剥离液、抛光后清洗液及刻蚀液等多种产品系列，广泛应用于逻辑电路、3DNAND、DRAM、CIS等特色工艺及异质封装等领域。在刻蚀后清洗液方面，先进制程刻蚀后清洗液研发及产业化顺利，持续上量并扩大海外市场；在抛光后清洗液方面，先进制程碱性抛光后清洗液进展顺利，快速上量。另，2021年9月，公司在投资者互动平台表示，LED/OLED用光刻胶去除剂系列产品的工艺要求低于集成电路领域的清洗产品，进入壁垒相对较低。

芯源微：作为公司标杆产品，涂胶显影设备是集成电路制造过程中不可或缺的关键处理设备，主要与光刻机（芯片生产线上最庞大、最精密复杂、难度最大、价格最昂贵的设备）配合进行作业，通过机械手使晶圆在各系统间传输和处理，从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影、坚膜等工艺过程。全球前道涂胶显影设备市场长期被海外厂商高度垄断，是国内目前少数几个国产化率仍处于较低水平的“卡脖子”领域，公司目前系国内唯一可以提供量产型前道涂胶显影机的厂商，产品涵盖offline、I-line、KrF、ArF浸没式等多种工艺类型。

百合花：2026年7月7日公司股票交易异动公告披露，公司生产的相关高性能颜料产品应用于液晶面板用光刻胶领域。2025年公司光刻胶颜料销售收入仅占公司营业收入的0.084%，占比较小。

雅克科技：公司是国内显示光刻胶行业内领先的供应商，同时拥有红绿蓝彩色光刻胶、TFT-PR光刻胶和OC/PS封装透明光刻胶等多个品类，广泛运用在超薄大尺寸液晶显示器（LCD）和有机发光显示器（OLED）。公司有多个显示光刻胶生产线，满足了不同客户对显示光刻胶的适配性和多技术规格的要求。在新产品开发方面，公司陆续开发出彩色光刻胶关键原材料色浆和树脂等，正积极推进验证测试。显示光刻胶的关键原材料部分自供将降低产品成本和提高盈利能力。公司显示光刻胶业务的客户包括京东方、LG显示、华星光电、惠科和深天马等国内外多家主流显示厂商。印刷OLED（IJP OLED），是指将有机材料先配置成溶液，然后通过极高精度的喷墨印刷设备直接喷涂于预制好的像素孔基板上，以确保每一滴有机材料可以精准“着陆”，从而使得有机材料的利用率高达90%，较之真空蒸镀工艺大幅提高，并且不需要高精密的金属掩膜版。因此，印刷OLED综合制造成本更低。公司多年前就开始布局彩色打印墨水的产品研发，目前产品已开始在主流显示厂商小规模产线上验证测试。

瑞联新材：公司基于技术相关性将业务延伸至电子材料行业，产品聚焦于高端光刻胶材料领域，以实现国产化替代为重要目标，种类逐渐从聚酰亚胺单体、光刻胶单体、膜材料中间体拓展至光刻胶树脂、封装胶材料、光敏剂等，目前主要服务于境外企业。另，2025年8月5日，公司在投资者互动平台表示，光刻胶材料因其金属离子含量、杂质控制及水含量等方面要求更为严格，客户验证周期普遍较长。目前公司储备有多款光刻胶材料产品，部分光刻胶单体材料已量产，部分产品处于客户验证阶段。

鼎龙股份：截至2026年6月11日，公司已有8款高端晶圆光刻胶（其中ArF光刻胶与KrF光刻胶各4款）取得多家国内主流晶圆厂客户的批量订单，即较今年一季度末新增5款，并有数款产品预期在今年年内实现订单转化。公司正积极提升产品交付速度，2026年上半年产品交付量预计显著提升，商业化进程显著加快。测试进展方面，公司已经累计布局40余款高端晶圆光刻胶，近30款产品向客户送样开展验证测试，其中超10款进入加仑样测试阶段。同时，公司还布局了数款配套的BARC、SOC等光刻辅材。

东材科技：2024年年报披露：公司将进一步加强研发中心和市场部门的合作沟通，加速推进光刻胶单体、质子交换膜、复合集流体等孵化项目的技术突破和市场攻关。2024年8月9日公司在互动平台披露：公司与韩国Chemax、种亿化学共同投资设立成都东凯芯半导体材料公司，重点开展高端光刻胶所需单体、光酸材料的合成和纯化业务。目前，生产设备已安装、调试完毕，已进入试生产阶段。

同益股份：2025年10月21日公司在互动平台披露，公司代理销售光刻胶基材树脂材料，产品主要应用于显示屏幕领域，目前销售占比较小。

江化微：2024年内，公司光刻胶配套试剂业务实现收入38127.08万元，占主营业务收入比例为35.65%，毛利率26.39%。公司光刻胶配套试剂业绩保持增长，其中G3-G4等级显影液、EBR在多家8-12英寸半导体客户持续增量。同时，公司在成熟制程领域的剥离清洗剂产品上展开了陆续测试，有助于弥补公司在剥离清洗剂业务上的短板，进一步巩固和提升市场竞争力。

兴福电子：2025年12月，公司拟以自有资金4,626.78万元（含税价）购买关联方三峡实验室的光刻胶用光引发剂制备专有技术及实验设备所有权。光刻胶用光引发剂制备专有技术为湖北三峡实验室自主攻关，并联合某高校及企业共同研究取得，技术涉及到的产品主要为G/I线光刻胶用光引发剂，具体为重氮萘醌型感光化合物（PAC），上述专有技术为湖北三峡实验室所有。本次交易目的在于进一步拓展公司产品品类、优化产业布局，提高公司行业竞争力。

上海新阳：公司作为集成电路制造用关键工艺材料研发型企业，致力于推动高端光刻胶及配套产品国产化进程，依托自身的技术实力和持续的研发投入，已建成包括I线、KrF、ArF干法、ArF浸没式各类光刻胶在内的完整的研发合成、配制生产、质量管控、分析测试平台，能为国内芯片企业提供多品类光刻胶产品，部分品类已实现产业化，少数品类关键光学数据处行业领先水平，公司已成为国内光刻胶供应链中重要一环。

晶瑞电材：公司光刻胶在国内具有悠久声誉，稳定生产超三十年，是国内最具研发潜力和量产能力的光刻胶供应商。公司子公司瑞红苏州1993年开始光刻胶生产，承担并完成了国家02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目。公司拥有紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF全系列光刻机以及配套测试实验设备，研发团队经验丰富且人员充足；紫外宽谱系列光刻胶多年来稳居国内市占率第一；i线光刻胶系列产品在完成国家重大科技项目02专项项目后规模化向中芯国际、长鑫存储、华虹集团、晶合集成等国内知名半导体企业供货；在DUV光刻胶方面和中国石化集团全面合作，多款KrF光刻胶已量产出货；ArF光刻胶斩获多家客户订单，多款产品已向客户送样并开展验证。

恒坤新材：公司自产光刻材料中，SOC、BARC、KrF光刻胶、i-Line光刻胶等已有多款产品量产供货，ArF光刻胶、SiARC、Top Coating等已进入客户验证流程，ArF浸没式光刻胶已通过验证并小规模销售。公司自产SOC与BARC已累计量产供货超过50000加仑，量产供货产品款数合计超过40款，成功替换境外厂商同类产品，打破境外厂商垄断格局，在公司量产供货前，境内晶圆厂的SOC、BARC主要由境外厂商如信越化学、日本合成橡胶、日产化学以及Brewer Science等供应，公司系境内少数在12英寸集成电路领域实现SOC、BARC量产供货的企业之一。与此同时，公司已实现适配浸没式光刻工艺BARC量产供货，全面助力境内集成电路先进制程的快速发展。除上述光刻材料外，公司进入客户验证流程的光刻材料还包括SiARC、Top Coating以及其他光刻工艺配套试剂等。根据弗若斯特沙利文市场研究统计，在12英寸集成电路领域，公司自产光刻材料销售规模已排名境内同行前列，2023年度，公司SOC与BARC销售规模均排名境内市场国产厂商第一位。

华懋科技：公司目前的光刻材料及光刻胶业务主要依托于参股公司徐州博康信息化学品有限公司，公司通过东阳凯阳科技创新发展合伙企业（有限合伙）目前持有其23.2176%股权。鉴于光刻胶业务存在投入大、回报周期长的特征，公司预计不会继续加大在此领域的投入。

南大光电：光刻胶及配套材料是光刻工艺中的关键材料，主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。公司在光刻胶技术研发方面始终坚持从原材料到产品的完全自主化。控股子公司宁波南大光电的光刻胶研发中心具备了研制功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶材料的能力，能够实现从光刻胶原材料到光刻胶产品及配套材料的自主化。截至2024年12月31日，三款ArF光刻胶产品已在下游客户通过认证并实现销售，多款产品正在主要客户处认证。公司多款产品的客户验证工作取得重要突破，应用场景涵盖90-28纳米技术节点的逻辑和存储芯片。

彤程新材：在半导体光刻胶方面，公司目前已经是国内半导体光刻胶领域龙头企业，也是拥有自主知识产权的本土供应商，产品涵盖ArF光刻胶、KrF光刻胶、I线光刻胶和G线光刻胶以及抗反射层、EBR等光刻辅助材料，依托全面的产品矩阵，公司能够满足半导体制造全价值链中不同制程节点与多元应用场景的材料需求，为客户提供稳定、可靠、自主可控的光刻胶解决方案，是国内8-12英寸集成电路产线核心本土材料供应商。在显示光刻胶方面，公司是国内最大的液晶正性光刻胶本土供应商，同时也是中国大陆首家实现Array用正性光刻胶本土量产的厂商，公司产品全面覆盖a-Si（非晶矽）、LTPS（低温多晶矽）、IGZO（铟镓锌氧化物）、OLED（有机发光二级管）等主流显示技术，并已在G4.5至G10.5面板产线实现稳定量产与规模化销售。

国风新材：公司聚酰亚胺薄膜材料可广泛应用于柔性显示、集成电路、芯片柔性封装、5G通信、新能源汽车、电气电子、航空航天等领域，基于其优异的物理性能和化学性能，以及下游市场需求的驱动，高性能聚酰亚胺薄膜的新应用不断涌现。公司目前已批量生产的聚酰亚胺薄膜主要产品为FCCL用聚酰亚胺黄色基膜、遮蔽用聚酰亚胺黑膜和聚酰亚胺碳基膜产品，热塑性聚酰亚胺（TPI）复合膜产品、透明聚酰亚胺薄膜（CPI）产品、柔性衬底聚酰亚胺浆料产品、光敏聚酰亚胺（PSPI）光刻胶产品处于在研阶段，产品种类逐步增多。聚酰亚胺薄膜自投放市场以来，在较短时间内完成客户认证，实现批量生产与销售，部分产品已通过下游客户进入市场主流品牌智能手机及电子设备产业链。2022年4月9日公司在互动平台披露：公司的电子级聚酰亚胺薄膜材料经下游企业加工后，可最终应用于消费电子、柔性显示、集成电路、5G通信、电气电子等领域，应用于手机可折叠屏幕的透明聚酰亚胺膜产品尚处于研发阶段。

强力新材：公司主营业务包括电子材料（主要是PCB/LCD/半导体光刻胶专用电子化学品、OLED有机材料等）和绿色光固化材料（主要是UV涂料、油墨、胶黏剂、3D打印等用途关键原材料）。公司是国内少数布局光刻胶专用电子化学品的企业，依托自身的研发实力和持续投入，通过20多年的不懈努力，技术和产品已经覆盖了PCB干膜光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶等主要光刻胶种类中的关键原材料品种，为全球光刻胶技术进步和产品迭代做出了重大的贡献，成为全球光刻胶产业链中重要一环；多项技术和产品在国内光刻胶专用光引发剂、特殊添加剂、光刻胶树脂以及单体等领域中具有较大优势，为国内光刻胶研发和生产企业提供了坚实的技术支撑及稳定的产品供应。公司OLED有机材料产品市场竞争性稍差，市场份额占比较小。公司的环保型光引发剂及UV-LED高性能树脂及单体等原料在客户处也反响良好。