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光刻胶概念股票|光刻胶板块龙头股资金流向(实时)

 
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光刻胶 ( 板块 994479 )
9326.46 -1.52 %
BBD: -3.44亿   成交额:143.22亿  开盘:9438.4  最低:9286.72  最高:9474.82  振幅:2.03%  更新时间:2025-07-04
DDX: -0.116   DDY: -0.334   特大单差: 0   大单差: -2.4   中单差: 5.5   小单差: -3.1   单数比:0.906  通吃率: -2.40%
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光刻胶概念股介绍
龙头公司介绍(入选板块理由)

东材科技:2023年年报披露,公司充分整合产业前沿、技术协同、渠道运营等方面的优质资源,持续探索合资联营、战略合作、并购重组等外延式发展路径。公司与韩国 Chemax、种亿化学在四川成都设立合资公司,重点开展高端光刻胶材料的合成与纯化业务,构筑光刻胶领域的上下游协同产业链,提升公司的技术研发能力;并与杉金光电、扬州万润共同签署《战略合作框架协议》,加快推进偏光片用离型膜 PET 基膜、偏光片用离型膜的国产替代项目,增强公司在光学基膜领域的核心竞争力,推动公司核心业务的稳定可持续发展。成都东凯芯的注册资本为人民币 7,300 万元,其中:公司认缴出资 5,500 万元,韩国 Chemax 认缴出资 1,000 万元,种亿化学认缴出资 800 万元。

瑞联新材:2024年4月24日,公司在投资者互动平台表示,截至2023年末,公司EUV光刻胶单体产品中试批次已经通过客户验证,并且有百公斤级的销售,正在为相关产品的量产验证做准备。

芯源微:作为半导体产线上唯一与光刻机联机作业的核心工艺设备,近年来,前道涂胶显影设备的国产化替代得到了下游客户的高度重视和大力支持。公司经过长期的研发、多轮次验证及量产应用,目前已成功推出了包括offline、I-line、KrF及ArF浸没式在内的多种型号产品,成功在下游客户端抢占一席之地。2023年,在国内前道晶圆厂扩产节奏有所放缓的行业背景下,公司前道涂胶显影设备新签订单依然保持了良好的增长速度,部分型号设备整体工艺水平已能够对标国际主流机台,客户认可度不断提升,批量销售规模持续增长。公司ArF浸没式高产能涂胶显影设备在成熟化、标准化等方面也取得良好进展,截至2023年末,公司浸没式机台已获得国内5家重要客户订单。此外,公司在高端NTD负显影、SOC涂布等新机台销售方面也取得了良好进展,进一步拓展了公司涂胶显影设备的工艺应用场景和市场空间。另,2023年9月,公司广州子公司正式成立,致力于光刻胶泵等核心零部件的研发和产业化。

安集科技:公司功能性湿电子化学品主要包括刻蚀后清洗液、晶圆级封装用光刻胶剥离液、抛光后清洗液、刻蚀液等产品。光刻胶剥离液是在曝光显影及后续工艺后去除硅片上光刻胶所用的试剂,光刻胶在经过湿法刻蚀、干法刻蚀、离子注入等不同工艺后不易被去除,要求剥离液对光刻胶有较强的溶解性能。

圣泉集团:光刻胶核心材料国产化,突破显示面板用线性酚醛树脂ppb级纯化技术,成功应用于显示面板级光刻胶。半导体级KrF光刻胶树脂实验室制备,关键金属离子含量达到行业同等水平,已在客户端开展实验室验证。

艾森股份:根据应用领域,光刻胶可分为PCB光刻胶、显示面板光刻胶和集成电路光刻胶(可进一步细分为先进封装和晶圆制造),其技术壁垒依次提升。国产光刻胶发展起步较晚,与国外先进光刻胶技术相比,国内产品仍有较大差距,目前主要集中在PCB光刻胶、TFT-LCD光刻胶等产品,国内集成电路光刻胶及OLED显示面板光刻胶仍由国外企业占据主导地位。公司积极开展光刻胶的研发,以先进封装负性光刻胶、OLED阵列制造用光刻胶以及晶圆用PSPI等特色工艺光刻胶为突破口,覆盖晶圆制造、先进封装及显示面板等应用领域,成功打破国外垄断,并逐步向先进制程延伸。目前,公司自研先进封装用g/i线负性光刻胶、晶圆制造i线正性光刻胶均已实现批量供应。

广信材料:公司一直致力于各类光刻胶、涂料等光固化领域电子化学品的研发、生产和销售,拥有高性能光刻胶、涂料的自主研发能力,为客户开发提质、增效、降本、减排等创造多重价值的可持续解决方案及相关环保型、高性能、特殊功能的新技术新材料产品及服务。公司是国内头部的PCB光刻胶、光伏BC电池绝缘胶、3C消费电子外观结构件涂料制造企业。主要产品包括光刻胶领域的PCB光刻胶、显示光刻胶、光伏胶等光刻胶及配套材料,以及涂料领域的3C消费电子涂料、汽车内外饰涂料、重防腐涂料、PVC地板涂料、功能膜材及金属包装涂料等细分领域专用涂料。

宝通科技:公司专注于现代工业散货物料智能输送解决方案与服务,立志成为“全球领先的智能输送服务商”,唯有紧跟科技浪潮,深度融合创新科技与实体产业,才能在现代工业散货物料智能输送领域铸就辉煌,引领行业未来。公司设立的产业基金及子公司通过精准的投资战略,深度布局工业互联网、人工智能、矿山自动驾驶、新能源、半导体(涵盖光刻胶与语音识别芯片)以及虚拟现实技术等前沿科技领域,不仅旨在捕捉新兴领域的增长机遇,更旨在通过资本的力量,搭建起与下游客户的长期战略合作桥梁,有效整合产业链上下游各方的优势资源,如同汇聚百川入海,博采众长。

鼎龙股份:2024年12月,控股子公司鼎龙(潜江)新材料有限公司生产的某款浸没式ArF晶圆光刻胶及某款KrF晶圆光刻胶产品前后顺利通过客户验证,并于近期分别收到共两家国内主流晶圆厂客户的订单,合计采购金额超百万元人民币。作为各类核心“卡脖子”进口替代类创新材料的平台型公司,公司已布局20余款高端晶圆光刻胶,均为客户主动委托开发的型号,其中,多款在国内还未突破。截至目前,公司已有2款产品通过客户验证测试并取得采购订单,另外8款产品处于客户测试阶段,整体测试进展顺利,剩余款均处于研发及内部测试中。在产能建设方面,公司潜江一期年产30吨KrF/ArF高端晶圆光刻胶产线具备批量化生产及供货能力,能够满足客户端现阶段的订单需求。二期年产300吨KrF/ArF高端晶圆光刻胶量产线建设尚在按计划顺利推进中。

湖北宜化:2024年5月28日,公司在投资者互动平台表示,公司参股的湖北有宜新材料有限公司具备光引发剂1206产能40吨/年,以销定产,有较稳定的客户。2023年6月28日公司在互动平台表示,该产品用于光刻胶、高端油墨。

万润股份:公司目前在半导体制造材料领域的相关产品主要包括光刻胶单体、光刻胶树脂、光致产酸剂以及半导体制程中清洗剂添加材料等,并已有相关产品实现供应。公司半导体用光刻胶单体和光刻胶树脂产品种类及生产技术覆盖大部分主要产品。

怡达股份:2024年5月21日公司在互动平台披露,公司部分湿电子化学品可作为清洗剂、剥离液、刻蚀液应用于芯片基材和面板行业等领域。2023年9月11日公司在互动平台披露,公司可用于光刻胶基材的湿电子化学品(电子级PM、电子级PMA)已供货给中下游企业。2019年7月19日公司在互动平台披露,公司产品已经应用于OLED和芯片基材。

南大光电:光刻胶及配套材料是光刻工艺中的关键材料,主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。公司在光刻胶技术研发方面始终坚持从原材料到产品的完全自主化。控股子公司宁波南大光电的光刻胶研发中心具备了研制功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶材料的能力,能够实现从光刻胶原材料到光刻胶产品及配套材料的自主化。截至2024年12月31日,三款ArF光刻胶产品已在下游客户通过认证并实现销售,多款产品正在主要客户处认证。公司多款产品的客户验证工作取得重要突破,应用场景涵盖90-28纳米技术节点的逻辑和存储芯片。

上海新阳:集成电路制造用高端光刻胶系列产品为公司面向芯片制造领域开发的电子光刻系列产品。包括I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法、浸没式光刻胶以及稀释剂、底部抗反射膜(BARC)等配套材料,主要用于逻辑、模拟和存储芯片生产制造。公司光刻胶项目研发进展顺利,I线、KrF光刻胶产品工艺性能指标不断优化提升,满足客户的工艺需求,在超20家客户端进行测试验证,2024年上半年系列产品销量显著增加。ArF光刻胶研发顺利推进,浸没式光刻胶目前已有多款产品在国内多家晶圆制造企业开展测试验证工作,部分型号产品已取得良好的测试结果及工艺窗口,技术指标与对标产品比较接近。2021年3月,子公司芯刻微委托盛吉盛代理投标,成功中标,购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台,该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。

阳谷华泰:2025年5月,公司发行股份购买资产并募集配套资金申请文件获得深圳证券交易所受理。2025年6月,修订后,公司拟以7.16元/股发行141,079,570股及支付现金的方式购买波米科技100%股份,同时拟募集配套资金不超过48,546.95万元。交易价格144,304.25万元。波米科技主要从事聚酰亚胺材料的研发、生产和销售,目前的主要产品包括非光敏性聚酰亚胺与光敏性聚酰亚胺涂层材料以及液晶取向剂,主要应用于半导体分立器件制造、半导体(先进)封装与液晶显示面板制造领域。经过持续多年的研发投入,波米科技在应用于半导体先进封装和液晶取向剂的聚酰亚胺材料领域取得重大突破,打破了日本和美国企业对相关领域的垄断,与国内行业知名客户建立了合作关系。波米科技官网披露,公司开发的PSPI产品各类指标均达到或超过国际同类产品水平,突破了日美企业技术垄断,实现了光敏性聚酰亚胺光刻胶核心技术自主可控,保证了国内集成电路供应链安全。公司正在与国内TOP.1芯片设计企业协同开发世界领先的“超超低温”型光敏性聚酰亚胺光刻胶产品,以满足新一代2.5D、3D以及Chiplet(芯粒)等最前沿先进封装技术的需求。

亚威股份:据爱企查,公司持有苏州威迈芯材半导体有限公司10.54112%股权。另,2023年5月6日公司在互动平台披露,公司的参股公司威迈芯材正稳步推进光刻胶主材料产品的国产化进程,目前已经完成了国内客户订单的突破。2022年3月31日公司在互动平台披露,公司投资参股的威迈芯材完成了对韩国WIMAS100%股权的收购。韩国WIMAS主要从事半导体高端光刻胶的核心主材料的研发、生产和销售,后期计划通过威迈芯材实现相关技术的国产化落地和延伸拓展。

彤程新材:公司电子材料业务主要涵盖半导体光刻胶及配套试剂、显示面板光刻胶和电子酚醛树脂等产品。在半导体光刻胶的研发、生产及销售方面,公司是国内领先的半导体光刻胶龙头生产商,也是拥有自主知识产权的本土光刻胶量产供应商。产品应用领域涵盖集成电路(IC)、发光二极管(LED)、分立器件、先进封装、微机电系统(MEMS)等,产品全方位覆盖大部分光刻工艺所需要的材料如ArF(193nm干式/浸润式)、KrF(248nm)、G/I线(含宽谱)、Lift-off工艺使用的负胶,用于分立器件的BN、BP系列正负性胶、底部抗反射涂层的BARC等类型。其中G线光刻胶产品在国内占据较大市场份额,I线光刻胶产品已接近国际先进水平,公司半导体光刻胶产品种类涵盖国内14nm以上大部分工艺需求;KrF产品在Poly、AA、Metal、TM/TV、Thick、Implant、ContactHole等工艺市占率持续攀升。I线光刻胶和KrF光刻胶是国内8-12寸集成电路产线主要的本土供应商。而高分辨率的193nm ArF光刻胶(含干式及浸润式光刻胶)产品,可提供Contact/Via Hole图形工艺,搭配底部抗反射涂层BARC,能提供整套光刻胶组合给客户,。ArF光刻胶及BARC可应用于14-90nm的工艺节点,类别涵盖逻辑和存储记忆体等应用领域。

普利特:2021年7月5日公司在互动平台表示,普利特控股子公司上海普利特半导体材料有限投资了苏州理硕25%的股权,目前苏州理硕已完成了TFT光刻胶和半导体厚膜胶产品的前期开发工作,正准备向下游客户送样。

华懋科技:公司重要参股子公司徐州博康的生产经营、业务推进及产品研发等方面进展顺利,2023年以来在光刻胶产品研发及客户认证进展顺利,更多产品获得国内12寸晶圆厂的订单。具体分品类来看:ArF在研及配方定型光刻胶有30款产品,KrF在研和配方定型光刻胶有34款产品,I线在研和配方定型光刻胶有19款产品,电子束光刻胶在销售的有3大种类。作为国内少有能打通光刻胶上游材料的全产业链公司,徐州博康的聚合与提纯工艺也是其核心竞争力之一。目前:光刻胶单体已经研发近80余款,2022年以来新开发30余款单体。光刻胶树脂已经研发50多款。光敏剂已经研发超过150款。目前公司持有徐州博康23.99%股权。

同益股份:2024年7月24日公司在互动平台披露,公司主要代理销售韩国丙烯酸、光引发剂、光敏剂等产品,产品主要应用于LCD-TFT等中高端市场,上述引进的产品已进入国内生产厂商持续测试中并实现部分销售,但销售收入较少。目前业务正常进行中,公司会持续关注国内外市场环境,根据实际情况和发展规划积极拓展各项业务。

龙头公司介绍(入选板块理由)
行情数据
序号股票代码名称|自选股1|自2|自3|查股数据
1601208东材科技 分时 日线 板块
2688550瑞联新材 分时 日线 板块
3688037芯源微 分时 日线 板块
4688019安集科技 分时 日线 板块
5605589圣泉集团 分时 日线 板块
6688720艾森股份 分时 日线 板块
7300537广信材料 分时 日线 板块
8300031宝通科技 分时 日线 板块
9300054鼎龙股份 分时 日线 板块
10000422湖北宜化 分时 日线 板块
11002643万润股份 分时 日线 板块
12300721怡达股份 分时 日线 板块
13300346南大光电 分时 日线 板块
14300236上海新阳 分时 日线 板块
15300121阳谷华泰 分时 日线 板块
16002559亚威股份 分时 日线 板块
17603650彤程新材 分时 日线 板块
18002324普利特 分时 日线 板块
19603306华懋科技 分时 日线 板块
20300538同益股份 分时 日线 板块
序号股票代码名称|自选股1|自2|自3|查股数据
行情数据DDE数据资金单数单差数据特大(%)大单(%)小单(%)通吃率(%)主动率(%)
最新价涨幅换手率量比DDXDDYDDZ5日10日连续连增成交量(万元)BBD(万元)单数比买入卖出特大差大单差中单差小单差买入卖出买入卖出买入卖出通吃率1日通吃率5日通吃率10日通吃率20日主动率1日主动率5日主动率10日流通盘(万股)
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最新价涨幅换手率量比DDXDDYDDZ5日10日连续连增成交量(万元)BBD(万元)单数比买入卖出特大差大单差中单差小单差买入卖出买入卖出买入卖出通吃率1日通吃率5日通吃率10日通吃率20日主动率1日主动率5日主动率10日流通盘(万股)
光刻胶概念板块解析(994479) 光刻胶龙头股概念股一览
    (1)光刻胶是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。它是整个光刻工艺的重要部分,也是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一,主要应用在集成电路和平板显示两大产业;    (2)光刻胶具有光化学敏感性,其经过曝光、显影、刻蚀等工艺,可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片;
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