光刻胶概念股票|光刻胶板块龙头股资金流向(实时)

圣泉集团：随着国家“十四五规划”提出重点发展新材料等战略行业，国家对半导体及材料行业扶持力度正不断加强，国产替代进程正在加快，这将持续带动光刻胶等电子化学品的需求增长。为配合中国半导体国产化，公司深入挖掘光刻胶树脂自主开发的优势，从原材料端加快推进国产化替代，在保障国产光刻胶材料产业链国产化替代方面起到积极引领、带动的作用，有多款瓶颈制约产品在公司得到了终端客户认证，实现了商业化供应，公司自主开发的光刻胶用线性酚醛树脂、KrF光刻胶配套用PHS树脂产销量持续放大增长。

亚威股份：据爱企查，公司持有苏州威迈芯材半导体有限公司10.54112%股权。另，2023年5月6日公司在互动平台披露，公司的参股公司威迈芯材正稳步推进光刻胶主材料产品的国产化进程，目前已经完成了国内客户订单的突破。2022年3月31日公司在互动平台披露，公司投资参股的威迈芯材完成了对韩国WIMAS100%股权的收购。韩国WIMAS主要从事半导体高端光刻胶的核心主材料的研发、生产和销售，后期计划通过威迈芯材实现相关技术的国产化落地和延伸拓展。

高盟新材：2023年9月14日公司在互动平台披露：公司业务没有涉及光刻机，但公司投资参股了光刻胶项目公司，其中，公司参股北京科华微电子材料有限公司比例为3.67%，参股北京鼎材科技有限公司比例为1.39%，北京科华是国内半导体用光刻胶领域的头部企业，北京鼎材是OLED发光材料和面板显示光刻胶领域的优秀企业。2021年8月18日公司在互动平台披露：公司参股的北京科华微电子材料有限公司有供货给中芯国际。

万润股份：近年来，公司积极布局聚酰亚胺材料、光刻胶材料等其他电子信息材料领域，持续丰富公司电子信息材料产品线。公司积极布局聚酰亚胺材料、半导体制造材料等其他电子信息材料领域，持续丰富公司电子信息材料产品线。2022年内，公司聚酰亚胺材料及半导体制造材料业务均取得了不同程度的进展，目前均处于布局发展阶段。

湖北宜化：2024年5月28日，公司在投资者互动平台表示，公司参股的湖北有宜新材料有限公司具备光引发剂1206产能40吨/年，以销定产，有较稳定的客户。2023年6月28日公司在互动平台表示，该产品用于光刻胶、高端油墨。

久日新材：公司正在加快光刻胶生产基地建设，大晶新材的4,500吨/年光刻胶生产线预计在2024年8月份建成。另，2024年1月24日，公司在互动平台表示，公司的光刻胶专用光敏剂PAC已向二十八家下游企业送样，向十二家企业小批量供货。公司正在积极推动光敏剂PAC在下游客户中的验证工作，以早日实现批量供货。公司已有多款半导体i-线光刻胶进入下游客户送样测试阶段，已完成五家多批次送样，反馈结果良好，其中已有两家3款产品通过测试，并实现小批量供货。其他客户的半导体光刻胶送样测试也在持续推进。

八亿时空：上海八亿时空先进材料有限公司是公司半导体材料研发和产业化的核心平台。2023年，上海公司在KrF光刻胶树脂材料的研发和产业化方面取得明显突破，实现了百公斤级别光刻胶树脂的量产，成为国内领先的半导体光刻胶核心原材料的供应商。特别是窄分布KrF树脂材料的量产，实现了工业化里程碑式的突破，填补了国内目前在这一领域的空白。同时，上海公司顺利引入国内知名光刻胶企业的战略投资，产业链上下游关系进一步强化。

普利特：2021年7月5日公司在互动平台表示，普利特控股子公司上海普利特半导体材料有限投资了苏州理硕25%的股权，目前苏州理硕已完成了TFT光刻胶和半导体厚膜胶产品的前期开发工作，正准备向下游客户送样。

康鹏科技：截至2022年12月31日，公司共有8家控股子公司和4家参股公司。参股上海觅拓材料科技有限公司（注册资本1675.00万元，占比25.87%），主要生产光敏剂（光刻胶的原料）。

安集科技：公司功能性湿电子化学品主要包括刻蚀后清洗液、晶圆级封装用光刻胶剥离液、抛光后清洗液、刻蚀液等产品。光刻胶剥离液是在曝光显影及后续工艺后去除硅片上光刻胶所用的试剂，光刻胶在经过湿法刻蚀、干法刻蚀、离子注入等不同工艺后不易被去除，要求剥离液对光刻胶有较强的溶解性能。

世名科技：公司“光刻胶颜料分散液”项目进展顺利，公司在完成光刻胶颜料分散液相关产品开发及应用研究基础上，进一步强化与下游核心客户的合作关系，积极引进海外专家，快速推进相关产品与技术的开发进度。截止本报告披露日，公司已完成部分光刻胶色浆样品多批次送样验证，并取得下游核心客户的验证报告，目前，项目已进入配方及核心技术指标优化的关键阶段。为进一步优化面板用光刻胶产品的产业链资源，加快光刻胶颜料分散液相关产品的技术开发与应用，公司同步开展了对羟基苯乙烯衍生物类、（甲基）丙烯酸酯类、降冰片烯衍生物类等光刻胶单体的技术开发工作。截止本报告披露日，公司已在部分光刻胶单体合成关键技术上取得了阶段性成果，同时部分单体产品已进入实验中试阶段，近期将对中试结果进行下游客户应用评测。

常青科技：公司前瞻性地储备了对甲基苯乙烯、二异丙烯基苯、二甲基苯乙烯、对叔丁基苯乙烯、2-乙烯基萘、PL-30助剂等多种高品质产品。如对甲基苯乙烯可应用于特种橡胶的改性，提升橡胶耐候性；二异丙烯基苯可应用于特种涂料树脂、特种橡胶、军品级材料等，公司正在进行生产装置建设；二甲基苯乙烯可应用于更高标准的绝缘浸渍漆，绝缘性和抗耐高压击穿能力进一步提升，可用于风电、核电线圈等特殊环境的绝缘处理；对叔丁基苯乙烯可实现玻璃钢树脂生产中对苯乙烯的环保性替代；2-乙烯基萘可用于高端光刻胶的生产；PL-30助剂是丁二烯氢氰化合成己二腈生产工艺的重要助剂，己二腈是生产尼龙66的关键原材料，长期被英威达、奥升德等国际化工巨头垄断。在国家政策的大力支持下，国内多家企业经长期研发取得了己二腈生产工艺的重大成果，开始了己二腈生产线的投资建设。上述储备产品亦为填补国内空白、实现进口替代的重要产品。

格林达：公司承接的国家科技重大专项项目课题——“光刻胶用显影液（极大规模集成电路用）”项目，已通过科技部的项目验收，为国内28纳米线宽及以下集成电路中的光刻胶用显影液技术应用提供了相应的储备，公司将在该项目的科技成果基础上，进一步推动G5等级光刻胶用显影液在极大规模集成电路半导体企业的产业化运用和推广；公司承接的工信部“集成电路制造产线零部件、材料和关键设备关键材料研发及产业化验证项目”，目前正与国内芯片龙头企业进行联合体协同开展大规模集成电路用图形化显影液产品研发及产业化应用验证，处于全产线测试阶段，公司在电解纯化工艺技术、杂质控制和净化包装等关键技术不断的技术创新突破，建立起相应的产品评估、验证、品质管控和生产管控体系，以早日实现在中高端集成电路产线的产业化应用，形成安全可靠稳定供应能力，增强集成电路等产业链自主可控能力，推动电子信息领域上下游本土化生态链健康发展。公司承接浙江省“领雁”研发攻关计划项目-“先进半导体材料中光刻胶配套高纯显影液的技术研发”，现处于客户端测试和产业化推动阶段。

江化微：2023年内，公司光刻胶配套试剂业务实现收入32,896.33万元，较上年同期增长12.33%，占主营业务收入比例为33.06%，实现毛利率27.36%。光刻胶配套试剂主要用于下游半导体和平板显示领域。2023年内，水系铜制程剥离液持续发力，再生提纯级NMP成功导入并开始供应中创新航等国内锂电行业龙头企业，PI显影液及漂洗液成功导入多家半导体客户并实现量产。2024年，公司将秉着“勤奋协力，求精争先”的精神，笃行不怠勇登攀，继续把握市场机遇，紧盯发展趋势，保证现有销售市场的同时，积极推进高端市场开拓；通过不断开发新产品，加强人才队伍建设，提高对高附加值产品的客户导入力度，为公司今后的高品质快速发展提供保障；同时加快镇江江化微二期项目建设，扩大市场份额，提高行业竞争力；继续提高公司及子公司产能利用率，提高行业竞争力。目前公司产品线等级已从G2-G4提升至最高的G5等级，实现了产品等级的全覆盖，使得江化微成为国内最具有竞争力的湿电子化学品集成服务提供商之一。

强力新材：公司是国内少数布局光刻胶专用电子化学品的企业，依托自身的研发实力和持续投入，通过20多年的不懈努力，技术和产品已经覆盖了PCB干膜光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶等主要光刻胶种类中的关键原材料品种，为全球光刻胶技术进步和产品迭代做出了重大的贡献，成为全球光刻胶产业链中重要一环；多项技术和产品在国内光刻胶专用光引发剂、特殊添加剂、光刻胶树脂以及单体等领域中具有较大优势，为国内光刻胶研发和生产企业提供了坚实的技术支撑及稳定的产品供应。

雅克科技：公司的光刻胶产品主要包括RGB彩色光刻胶、正性TFT光刻胶、CNT防静电材料以及光刻胶配套试剂。报告期内，公司拓展了OCPS光刻胶领域，进一步完善了光刻胶产品线，提升了对客户的综合服务能力。2023年度，公司持续为京东方、华星光电、惠科、三星电子、LG等世界领先面板制造企业提供产品服务。同时，公司“新一代电子信息材料国产化项目-光刻胶及光刻胶配套试剂”项目推进顺利，相关产品在客户端按计划进行测试，反响较好。公司自行研发的OLED用低温RGB光刻胶、先进封装用光刻胶也取得突破性进展，目前已经进入客户端测试导入阶段，验证进程顺利。

东材科技：2023年2月，为积极布局先进光刻胶材料领域，进一步深化公司与韩国Chemax的战略合作关系，公司拟与KIM SUNG JU、KIM DONG JAE、韩国Chemax共同签署《投资协议》，公司拟以自有资金2,000万元人民币增资入股韩国Chemax，认购其增发股份6,000股，占其增资后总股本的9.09%，增资价格为人民币3,333.33元/股。目前，韩国Chemax研发生产的产品已经通过韩国半导体产业链的验证，自2019年以来，其营收规模和盈利能力均保持高速增长，未来发展可期；另外，韩国Chemax在光刻胶材料领域深厚的技术沉淀、丰富的生产经验及认证渠道优势，将对合资公司（成都东凯芯半导体材料有限公司）未来光刻胶材料的技术提升和产业化发挥重要作用。2023年2月28日，公司拟与韩国Chemax、种亿化学共同签署《投资协议》，对外投资设立成都东凯芯半导体材料有限公司（暂定名），重点开展高端光刻胶材料的合成与纯化业务。上述合资公司的注册资本为人民币7,300万元，其中：公司认缴出资5,500万元，持有合资公司75.34%的股权。

泰和科技：2024年5月8日公司在投资者互动平台披露：公司光刻胶研发项目“电子级酚醛树脂的合成技术研究”目前处于小试阶段。

晶瑞电材：公司光刻胶在国内具有悠久声誉，稳定生产超三十年，是国内最早规模量产光刻胶的几家企业之一。半导体用光刻胶方面，公司光刻胶品种丰富，能够提供紫外宽谱及部分g线、i线、KrF光刻胶等产品。其中i线光刻胶已向中芯国际等国内的知名大尺寸半导体厂商供货；公司已购得KrF、ArF光刻机及相关配套设备，可用于KrF、ArF光刻胶的曝光测试，KrF、ArF光刻胶生产及测试线已经建成，KrF光刻胶部分品种已量产。公司ArF高端光刻胶旨在研发满足90-28nm芯片制程需求，填补我国集成电路产业关键材料的空白。公司2023年引入了如中石化资本等战略投资人，加强在高端光刻胶原料端的合作。截至目前公司已有多款ArF高端光刻胶在研并送样，多款KrF光刻胶批量出货半导体客户。

南大光电：公司光刻胶技术研发始终坚持完全自主化路线，光刻胶研发中心具备了研制功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶材料的能力，能够实现从光刻胶原材料到光刻胶产品及配套材料的全部自主化。公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶（包含干式及浸没式），将实现高端光刻胶的进口替代，提升国家关键材料领域自主可控水平，解决“卡脖子”技术难题。控股子公司宁波南大光电负责组织实施“ArF光刻胶开发和产业化项目”，研发的产品成为国内通过客户验证的第一只国产ArF光刻胶，标志着国产先进光刻胶产业化取得关键性的突破。目前公司产品已在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点的产品上通过认证，同时多款产品正在多家客户进行认证，持续推动光刻胶及配套材料产品的研发、验证和产业化。