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光刻胶概念股票|光刻胶板块龙头股资金流向(实时)

 
 板块概念股龙头股DDX数据(输入板块代码或拼音查询): 概念板块列表
 
光刻胶 ( 板块 994479 )
12299.08 +1.04 %
BBD: 6911.64万   成交额:172.79亿  开盘:12070.85  最低:12042.78  最高:12442.58  振幅:3.32%  更新时间:2026-02-06
DDX: 0.014   DDY: -0.035   特大单差: 0.3   大单差: 0.1   中单差: 1.2   小单差: -1.6   单数比:0.987  通吃率: 0.40%
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光刻胶概念股介绍
龙头公司介绍(入选板块理由)

百合花:2025年5月30日公司在互动平台披露:目前公司生产的相关高性能颜料可应用于生产半导体领域液晶面板用光刻胶,该产品已实现吨级销售。

双乐股份:2023年10月11日公司在互动易平台披露:公司建成的高性能产线,其生产的高性能颜料具有高光泽、高透明度、粒径小、分布均匀等特点,可应用于汽车漆、纺丝母粒等高端领域。该产线还可以生产高性能颜料紫,经过工艺的调整,亦可用于研发和生产面板光刻胶用颜料。

国风新材:公司聚酰亚胺薄膜材料可广泛应用于柔性显示、集成电路、芯片柔性封装、5G通信、新能源汽车、电气电子、航空航天等领域,基于其优异的物理性能和化学性能,以及下游市场需求的驱动,高性能聚酰亚胺薄膜的新应用不断涌现。公司目前已批量生产的聚酰亚胺薄膜主要产品为FCCL用聚酰亚胺黄色基膜、遮蔽用聚酰亚胺黑膜、聚酰亚胺碳基膜和芯片封装用聚酰亚胺薄膜。高导热聚酰亚胺薄膜产品、热塑性聚酰亚胺多层复合膜产品、低价电损耗聚酰亚胺薄膜(MPI)产品、透明聚酰亚胺薄膜(CPI)产品、光敏聚酰亚胺(PSPI)光刻胶产品处于在研阶段,产品种类逐步增多。公司聚酰亚胺产业目前建成及在建生产线共计12条、中试试验线1条,其设备配置均达到国内领先水平,全部建成后总产能将达到1500余吨/年,跃居国内前列。

七彩化学:2026年1月23日公司在互动平台披露,公司子公司生产的2-重氮-1-萘酚-5-磺酸钠是用于生产光刻胶组成成分之一的光敏剂原料之一,已实现量产,产能利用率约50%以上,该业务占比公司主营业务较低。

泰和科技:2024年报披露,以电子级乙腈、异丙醇、异丙醚、甲基叔丁基醚、二氯甲烷、乙酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯、甲酸、正己烷、三乙胺、二氧六环、甲醇、乙醇、环己酮等为代表的有机溶剂类电子化学品,用于半导体制造清洗、光刻胶处理及电子元器件生产的涂层制备、脱膜等关键环节;以电子级盐酸、氨基磺酸、亚磷酸为代表的无机酸类电子化学品,用于半导体、集成电路、平板显示等电子工业领域中芯片制造、光刻、蚀刻、清洗,其中电子级盐酸已达到G2标准,正向G3迈进;以电子级酚醛树脂、(4-叔丁基苯基)二苯基氯化硫鎓盐、重氮萘醌(DNQ)为代表的光刻胶材料类电子化学品,用于半导体制造、集成电路生产以及平板显示等领域中精细图形的转移和蚀刻,其中光刻胶酚醛树脂产品已通过客户验证,形成了小批量销售。

肯特催化:2025年5月13日公司在互动平台披露:公司所开发的产品,并非催化光刻胶显影液,而是光刻胶显影液。

兴业股份:2025年6月,公司异动公告披露,公司的半导体光刻胶用酚醛树脂目前仅处于送样测试阶段,尚未签订供货合同、暂未形成销售收入,目前不会对公司业绩产生影响,后续进展存在不确定性。另,2025年1月,公司拟在江苏省泰兴经济开发区投资建设年产20万吨特种酚醛树脂等项目,其中光刻胶用酚醛树脂产能占比仅为1.35%。

湖北宜化:2024年5月28日,公司在投资者互动平台表示,公司参股的湖北有宜新材料有限公司具备光引发剂1206产能40吨/年,以销定产,有较稳定的客户。2023年6月28日公司在互动平台表示,该产品用于光刻胶、高端油墨。

阳谷华泰:2026年1月,深圳证券交易所决定终止对公司发行股份及支付现金购买资产并募集配套资金申请的审核。2025年8月,修订后,公司拟以7.16元/股发行140,577,632股及支付现金的方式购买波米科技99.64%股份,同时拟募集配套资金不超过48,392.92万元。交易价格143,790.84万元。波米科技目前的主要产品包括非光敏性聚酰亚胺与光敏性聚酰亚胺涂层材料以及液晶取向剂,主要应用于半导体分立器件制造、半导体(先进)封装与液晶显示面板制造领域。波米科技在应用于半导体先进封装和液晶取向剂的聚酰亚胺材料领域取得重大突破,打破了日本和美国企业对相关领域的垄断。波米科技官网披露,公司开发的PSPI产品各类指标均达到或超过国际同类产品水平,突破了日美企业技术垄断,实现了光敏性聚酰亚胺光刻胶核心技术自主可控。公司正在与国内TOP.1芯片设计企业协同开发世界领先的“超超低温”型光敏性聚酰亚胺光刻胶产品,以满足新一代2.5D、3D以及Chiplet(芯粒)等最前沿先进封装技术的需求。业绩承诺方承诺标的公司2025年度-2028年度净利润合计不低于24,326.75万元。

华软科技:2025年9月,公司异动公告披露,公司关注到近期“光刻胶”概念受市场关注度较高,目前公司主营业务为精细化工产品的研发、生产与销售,其中电子化学品在2024年的营业收入占公司总营收比例不到6%。关于光刻胶基材业务,公司现有光引发剂产品,按客户订单小批量生产销售,2024年该产品收入占公司总营收约不到2%,连续两年对公司的经营业绩影响较小,未来销售情况受多种因素影响存在较大不确定性。

八亿时空:上海八亿时空先进材料有限公司是公司半导体材料研发和产业化的核心平台。2023年,上海公司在KrF光刻胶树脂材料的研发和产业化方面取得明显突破,实现了百公斤级别光刻胶树脂的量产,成为国内领先的半导体光刻胶核心原材料的供应商。特别是窄分布KrF树脂材料的量产,实现了工业化里程碑式的突破,填补了国内目前在这一领域的空白。同时,上海公司顺利引入国内知名光刻胶企业的战略投资,产业链上下游关系进一步强化。

久日新材:2022年5月31日,公司控股子公司大晶信息的年产600吨微电子光刻胶专用光敏剂项目建成投产,实现了半导体g-线、i-线光刻胶和显示面板光刻胶关键原材料国产化方面的重大突破。目前,公司已具备了重氮萘醌类光敏剂及其电子级原材料多羟基酚类化合物、肟酯类电子级光引发剂等10余种产品的规模化生产能力,品质控制能力得到不断提升,多个产品正持续推进在下游客户的验证,且已有多款产品通过验证,并持续获得批量订购。公司多款半导体化学材料如光敏剂、电子级没食子酸等产品已形成吨级的销售。同时,公司进一步增强新产品研发,不断丰富公司半导体化学材料的产品目录,逐步实现光刻胶原材料的国产替代。2023年5月,久日半导体的中试生产线已基本建成,具备面板和半导体光刻胶研发和中试生产能力。同年,公司启动了在控股孙公司大晶新材的年产4,500吨光刻胶项目,该项目于2024年11月19日起正式进入试生产阶段。目前公司已完成20余款半导体g-线、i-线光刻胶产品和多款常规面板光刻胶产品的研发,并持续在下游客户进行测试验证,涉及面板、分立器件、功率器件、传感器及封装等30余家相关客户。目前已有9款显示、半导体光刻胶产品成功导入市场客户端,并实现稳定销售。至此,公司已形成半导体光刻胶、显示面板光刻胶、光刻胶核心原材料及配套试剂三大系列产品的发展方向,公司将努力打造成从原材料到下游光刻胶产品一体化的全产业链。

同益股份:2025年10月21日公司在互动平台披露,公司代理销售光刻胶基材树脂材料,产品主要应用于显示屏幕领域,目前销售占比较小。

彤程新材:在半导体光刻胶的研发、生产及销售方面,公司是国内领先的半导体光刻胶龙头生产商,也是拥有自主知识产权的本土光刻胶量产供应商。产品应用领域涵盖集成电路(IC)、发光二极管(LED)、分立器件、先进封装、微机电系统(MEMS)等,产品全方位覆盖大部分光刻工艺所需要的材料如ArF(193nm干式/浸润式)、KrF(248nm)、G/I线(含宽谱)、Lift-off工艺使用的负胶,用于分立器件的BN、BP系列正负性胶、底部抗反射涂层的BARC等类型。其中G线光刻胶产品在国内占据较大市场份额,I线光刻胶产品已接近国际先进水平;KrF、ArF、BARC等产品在Poly、AA、Metal、TM/TV、Thick、Implant、ContactHole、Via层等工艺市占率持续攀升。I线光刻胶和KrF光刻胶是国内8-12寸集成电路产线主要的本土供应商。而高分辨率的193nmArF光刻胶(含干式及浸润式光刻胶)产品,可提供Contact/ViaHole图形工艺,搭配底部抗反射涂层BARC,能提供整套光刻胶组合给客户,以确保更稳定的细微光刻工艺。ArF光刻胶及BARC可应用类别涵盖逻辑和存储记忆体等应用领域。

广信材料:公司一直致力于各类光刻胶、涂料等光固化领域电子化学品的研发、生产和销售,拥有高性能光刻胶、涂料的自主研发能力,为客户开发提质、增效、降本、减排等创造多重价值的可持续解决方案及相关环保型、高性能、特殊功能的新技术新材料产品及服务。公司是国内头部的PCB光刻胶、光伏BC电池绝缘胶、3C消费电子外观结构件涂料制造企业。主要产品包括光刻胶领域的PCB光刻胶、显示光刻胶、光伏胶等光刻胶及配套材料,以及涂料领域的3C消费电子涂料、汽车内外饰涂料、重防腐涂料、PVC地板涂料、功能膜材及金属包装涂料等细分领域专用涂料。

康达新材:公司电子信息材料板块业务内容涵盖显示材料、医药中间体、陶瓷材料及新能源材料等。其中显示材料产品根据终端产品显示特性的不同分为液晶材料、OLED材料、光刻胶核心材料(项目起步阶段,暂无销售)、ITO靶材(项目起步阶段,暂无销售)等;医药产品主要为医药中间体;LTCC材料主要为陶瓷生料带、贵金属浆料、瓷粉等;新能源电子化学品主要包括锂电池电解液添加剂、电子清洗剂等。公司下辖彩晶光电、晶材科技与惟新科技三家控股子公司开展相关业务。彩晶光电显示材料主要包括液晶混晶、液晶单体和中间体材料,OLED升华前单体和中间体材料。彩晶光电积极布局光刻胶光引发剂材料等新方向,进一步丰富公司电子信息材料产业产品线,为未来发展积蓄动能。晶材科技主要业务为陶瓷生料带、贵金属浆料、瓷粉等产品的研发、生产和销售,产品主要应用于低温共烧陶瓷(LTCC)技术的电子元器件、电路模块的制造和封装,可同时满足特殊装备领域和民用领域需求,其代理的有机硅水胶产品是包括车载显示器在内的高可靠性显示器光学全贴合的重要原材料之一。

飞凯材料:公司半导体材料主要包括应用于半导体制造及先进封装领域的光刻胶及湿制程电子化学品如显影液、蚀刻液、剥离液、电镀液等,用于集成电路传统封装领域的锡球、环氧塑封料等。同时,针对半导体制造中临时键合工艺的应用,公司开发出包含键合胶、光敏胶、清洗液的整套临时键合解决方案,可以支持热拆解、机械拆解以及激光拆解。公司控股子公司昆山兴凯是中高端元器件及IC封装所需的材料领域主要供货商之一。公司积极布局CMP抛光液、湿电子化学品等关键材料,产品性能优异,质量稳定可靠,已成功导入国内外多家知名半导体企业供应链。公司持续加大研发投入,致力于开发更高纯度、更高精度、更环保的半导体材料,助力中国半导体产业迈向更高端。

瑞联新材:公司基于技术相关性将业务延伸至电子材料行业,产品聚焦于高端光刻胶材料领域,以实现国产化替代为重要目标,种类逐渐从聚酰亚胺单体、光刻胶单体、膜材料中间体拓展至光刻胶树脂、封装胶材料、光敏剂等,目前主要服务于境外企业。另,2025年8月5日,公司在投资者互动平台表示,光刻胶材料因其金属离子含量、杂质控制及水含量等方面要求更为严格,客户验证周期普遍较长。目前公司储备有多款光刻胶材料产品,部分光刻胶单体材料已量产,部分产品处于客户验证阶段。

西陇科学:2025年6月20日公司在互动平台披露:公司目前生产的产品包含光刻胶配套的试剂如剥离液、显影液、蚀刻液、清洗液等,公司未生产光刻胶。

常青科技:公司的高分子新材料特种单体均采用独家分离、合成、萃取、提纯等技术,能在工艺可控性高、成本低的同时使产品获得更好的选择性和转化率,性能优异,品质领先,多数产品具有进口替代或打破垄断的优势。主要作用于下游高分子材料的改性,终端可广泛应用于金属资源、生命科学、节能环保、光学元件、香精香料、高吸油树脂、环境友好涂料、优质阻尼材料、光刻胶关键原材料、高透明医用材料、特种橡胶制备等。2024年6月17日公司在互动平台披露:可用于生产高端光刻胶的“2-乙烯基萘”是公司募投项目计划产品之一。项目尚在建设中,预计至2025年实现特种单体生产装置新增产能60500吨。

龙头公司介绍(入选板块理由)
行情数据
序号股票代码名称|自选股1|自2|自3|查股数据
1603823百合花 分时 日线 板块
2301036双乐股份 分时 日线 板块
3000859国风新材 分时 日线 板块
4300758七彩化学 分时 日线 板块
5300801泰和科技 分时 日线 板块
6603120肯特催化 分时 日线 板块
7603928兴业股份 分时 日线 板块
8000422湖北宜化 分时 日线 板块
9300121阳谷华泰 分时 日线 板块
10002453华软科技 分时 日线 板块
11688181八亿时空 分时 日线 板块
12688199久日新材 分时 日线 板块
13300538同益股份 分时 日线 板块
14603650彤程新材 分时 日线 板块
15300537广信材料 分时 日线 板块
16002669康达新材 分时 日线 板块
17300398飞凯材料 分时 日线 板块
18688550瑞联新材 分时 日线 板块
19002584西陇科学 分时 日线 板块
20603125常青科技 分时 日线 板块
序号股票代码名称|自选股1|自2|自3|查股数据
行情数据DDE数据资金单数单差数据特大(%)大单(%)小单(%)通吃率(%)主动率(%)
最新价涨幅换手率量比DDXDDYDDZ5日10日连续连增成交量(万元)BBD(万元)单数比买入卖出特大差大单差中单差小单差买入卖出买入卖出买入卖出通吃率1日通吃率5日通吃率10日通吃率20日主动率1日主动率5日主动率10日流通盘(万股)
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最新价涨幅换手率量比DDXDDYDDZ5日10日连续连增成交量(万元)BBD(万元)单数比买入卖出特大差大单差中单差小单差买入卖出买入卖出买入卖出通吃率1日通吃率5日通吃率10日通吃率20日主动率1日主动率5日主动率10日流通盘(万股)
光刻胶概念板块解析(994479) 光刻胶龙头股概念股一览
光刻胶是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。它是整个光刻工艺的重要部分,也是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一,主要应用在集成电路和平板显示两大产业。光刻胶具有光化学敏感性,其经过曝光、显影、刻蚀等工艺,可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。
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