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光刻胶概念股票|光刻胶板块龙头股资金流向(实时)

 
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光刻胶 ( 板块 994479 )
10333.27 +3.89 %
BBD: 8.04亿   成交额:236.37亿  开盘:9967.31  最低:9967.31  最高:10333.27  振幅:3.67%  更新时间:2025-08-15
DDX: 0.213   DDY: 0.106   特大单差: 5.6   大单差: -2.2   中单差: -4.3   小单差: 0.9   单数比:1.025  通吃率: 3.40%
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光刻胶概念股介绍
龙头公司介绍(入选板块理由)

久日新材:2024年11月,公司在控股孙公司徐州大晶新材料科技集团有限公司投资建设的“徐州大晶新材料科技集团有限公司年产4,500吨光刻胶项目”现已完成建设,试生产方案业经专家组评审通过,于2024年11月19日起正式进入试生产阶段。该项目为年生产面板光刻胶4,000吨和半导体光刻胶500吨,是具体落实公司以“光固化产业为核心、半导体产业为重点”的产业发展方向的举措,是公司坚持创新、持续投入的成果,将推动公司光刻胶产品产业化进程,实现公司光刻胶产品的规模化生产,增加新的利润增长点,提升公司的盈利能力和综合竞争力。截至2024年11月,公司已研发多款半导体i-线光刻胶、发光二极管g-线/h-线光刻胶和面板光刻胶,并已进入下游客户送样测试阶段,其中部分产品已通过测试正式供货。

东材科技:2023年年报披露,公司充分整合产业前沿、技术协同、渠道运营等方面的优质资源,持续探索合资联营、战略合作、并购重组等外延式发展路径。公司与韩国 Chemax、种亿化学在四川成都设立合资公司,重点开展高端光刻胶材料的合成与纯化业务,构筑光刻胶领域的上下游协同产业链,提升公司的技术研发能力;并与杉金光电、扬州万润共同签署《战略合作框架协议》,加快推进偏光片用离型膜 PET 基膜、偏光片用离型膜的国产替代项目,增强公司在光学基膜领域的核心竞争力,推动公司核心业务的稳定可持续发展。成都东凯芯的注册资本为人民币 7,300 万元,其中:公司认缴出资 5,500 万元,韩国 Chemax 认缴出资 1,000 万元,种亿化学认缴出资 800 万元。

晶瑞电材:公司光刻胶在国内具有悠久声誉,稳定生产超三十年,是国内最早规模量产光刻胶的几家企业之一。半导体用光刻胶方面,公司光刻胶品种丰富,能够提供紫外宽谱及部分g线、i线、KrF光刻胶等产品。其中i线光刻胶已向中芯国际等国内的知名大尺寸半导体厂商供货;公司已购得KrF、ArF光刻机及相关配套设备,可用于KrF、ArF光刻胶的曝光测试,KrF、ArF光刻胶生产及测试线已经建成,KrF光刻胶部分品种已量产。公司ArF高端光刻胶旨在研发满足90-28nm芯片制程需求,填补我国集成电路产业关键材料的空白。公司2023年引入了如中石化资本等战略投资人,加强在高端光刻胶原料端的合作。截至目前公司已有多款ArF高端光刻胶在研并送样,多款KrF光刻胶批量出货半导体客户。

泰和科技:2024年报披露,以电子级乙腈、异丙醇、异丙醚、甲基叔丁基醚、二氯甲烷、乙酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯、甲酸、正己烷、三乙胺、二氧六环、甲醇、乙醇、环己酮等为代表的有机溶剂类电子化学品,用于半导体制造清洗、光刻胶处理及电子元器件生产的涂层制备、脱膜等关键环节;以电子级盐酸、氨基磺酸、亚磷酸为代表的无机酸类电子化学品,用于半导体、集成电路、平板显示等电子工业领域中芯片制造、光刻、蚀刻、清洗,其中电子级盐酸已达到G2标准,正向G3迈进;以电子级酚醛树脂、(4-叔丁基苯基)二苯基氯化硫鎓盐、重氮萘醌(DNQ)为代表的光刻胶材料类电子化学品,用于半导体制造、集成电路生产以及平板显示等领域中精细图形的转移和蚀刻,其中光刻胶酚醛树脂产品已通过客户验证,形成了小批量销售。

康达新材:公司电子信息材料板块业务内容涵盖显示材料、医药中间体、陶瓷材料及新能源材料等。其中显示材料产品根据终端产品显示特性的不同分为液晶材料、OLED材料、光刻胶核心材料(项目起步阶段,暂无销售)、ITO靶材(项目起步阶段,暂无销售)等;医药产品主要为医药中间体;LTCC材料主要为陶瓷生料带、贵金属浆料、瓷粉等;新能源电子化学品主要包括锂电池电解液添加剂、电子清洗剂等。公司下辖彩晶光电、晶材科技与惟新科技三家控股子公司开展相关业务。彩晶光电显示材料主要包括液晶混晶、液晶单体和中间体材料,OLED升华前单体和中间体材料。彩晶光电积极布局光刻胶光引发剂材料等新方向,进一步丰富公司电子信息材料产业产品线,为未来发展积蓄动能。晶材科技主要业务为陶瓷生料带、贵金属浆料、瓷粉等产品的研发、生产和销售,产品主要应用于低温共烧陶瓷(LTCC)技术的电子元器件、电路模块的制造和封装,可同时满足特殊装备领域和民用领域需求,其代理的有机硅水胶产品是包括车载显示器在内的高可靠性显示器光学全贴合的重要原材料之一。

八亿时空:上海八亿时空先进材料有限公司是公司半导体材料研发和产业化的核心平台。2023年,上海公司在KrF光刻胶树脂材料的研发和产业化方面取得明显突破,实现了百公斤级别光刻胶树脂的量产,成为国内领先的半导体光刻胶核心原材料的供应商。特别是窄分布KrF树脂材料的量产,实现了工业化里程碑式的突破,填补了国内目前在这一领域的空白。同时,上海公司顺利引入国内知名光刻胶企业的战略投资,产业链上下游关系进一步强化。

上海新阳:集成电路制造用高端光刻胶系列产品为公司面向芯片制造领域开发的电子光刻系列产品。包括I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法、浸没式光刻胶以及稀释剂、底部抗反射膜(BARC)等配套材料,主要用于逻辑、模拟和存储芯片生产制造。公司光刻胶项目研发进展顺利,I线、KrF光刻胶产品工艺性能指标不断优化提升,满足客户的工艺需求,在超20家客户端进行测试验证,2024年上半年系列产品销量显著增加。ArF光刻胶研发顺利推进,浸没式光刻胶目前已有多款产品在国内多家晶圆制造企业开展测试验证工作,部分型号产品已取得良好的测试结果及工艺窗口,技术指标与对标产品比较接近。2021年3月,子公司芯刻微委托盛吉盛代理投标,成功中标,购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台,该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。

华懋科技:公司重要参股子公司徐州博康的生产经营、业务推进及产品研发等方面进展顺利,2023年以来在光刻胶产品研发及客户认证进展顺利,更多产品获得国内12寸晶圆厂的订单。具体分品类来看:ArF在研及配方定型光刻胶有30款产品,KrF在研和配方定型光刻胶有34款产品,I线在研和配方定型光刻胶有19款产品,电子束光刻胶在销售的有3大种类。作为国内少有能打通光刻胶上游材料的全产业链公司,徐州博康的聚合与提纯工艺也是其核心竞争力之一。目前:光刻胶单体已经研发近80余款,2022年以来新开发30余款单体。光刻胶树脂已经研发50多款。光敏剂已经研发超过150款。目前公司持有徐州博康23.99%股权。

飞凯材料:公司半导体材料主要包括应用于半导体制造及先进封装领域的光刻胶及湿制程电子化学品如显影液、蚀刻液、剥离液、电镀液等,用于集成电路传统封装领域的锡球、环氧塑封料等。同时,针对半导体制造中临时键合工艺的应用,公司开发出包含键合胶、光敏胶、清洗液的整套临时键合解决方案,可以支持热拆解、机械拆解以及激光拆解。公司控股子公司昆山兴凯是中高端元器件及IC封装所需的材料领域主要供货商之一。公司积极布局CMP抛光液、湿电子化学品等关键材料,产品性能优异,质量稳定可靠,已成功导入国内外多家知名半导体企业供应链。公司持续加大研发投入,致力于开发更高纯度、更高精度、更环保的半导体材料,助力中国半导体产业迈向更高端。

雅克科技:公司的光刻胶产品主要包括正性TFT薄膜电路正性光刻胶、RGB彩色光刻胶、OCPS光刻胶、CNT防静电材料以及光刻胶配套试剂,客户涵盖京东方、华星光电、广州LGD、惠科等国内头部显示面板制造商。2024年上半年,江苏先科分别通过了华星光电、惠科、京东方等多家供应商的审核及现场稽核,多个光刻胶产品在客户端进入量产交付阶段。2024年上半年,公司积极推进CMOS传感器用RGB材料、OLED用低温RGB材料以及先进封装RDL层用I-Line光刻胶等高端产品在客户端的测试验证,目前进程顺利。截止2024年6月末,公司OCPS光刻胶产线建设完成,产品正在客户端导入测试过程中。

万润股份:公司目前在半导体制造材料领域的相关产品主要包括光刻胶单体、光刻胶树脂、光致产酸剂以及半导体制程中清洗剂添加材料等,并已有相关产品实现供应。公司半导体用光刻胶单体和光刻胶树脂产品种类及生产技术覆盖大部分主要产品。

宝丽迪:2023年7月31日公司在互动易平台披露:公司成功研发红色纳米色浆,可应用于光刻胶领域。目前公司已经完成部分光刻胶色浆样品验证,并且正在进行多批次、重复性、稳定性等应用测试,目前还未形成销售。该产品国产自主化趋势明显,公司也将加大研发力度,但因该产品研发及测试周期较长,所以未来仍然存在不确定性因素。

康鹏科技:公司持有觅拓材料17.60%的股权,该公司业务性质为光刻胶材料研发及生产。

湖北宜化:2024年5月28日,公司在投资者互动平台表示,公司参股的湖北有宜新材料有限公司具备光引发剂1206产能40吨/年,以销定产,有较稳定的客户。2023年6月28日公司在互动平台表示,该产品用于光刻胶、高端油墨。

芯源微:作为半导体产线上唯一与光刻机联机作业的核心工艺设备,近年来,前道涂胶显影设备的国产化替代得到了下游客户的高度重视和大力支持。公司经过长期的研发、多轮次验证及量产应用,目前已成功推出了包括offline、I-line、KrF及ArF浸没式在内的多种型号产品,成功在下游客户端抢占一席之地。2023年,在国内前道晶圆厂扩产节奏有所放缓的行业背景下,公司前道涂胶显影设备新签订单依然保持了良好的增长速度,部分型号设备整体工艺水平已能够对标国际主流机台,客户认可度不断提升,批量销售规模持续增长。公司ArF浸没式高产能涂胶显影设备在成熟化、标准化等方面也取得良好进展,截至2023年末,公司浸没式机台已获得国内5家重要客户订单。此外,公司在高端NTD负显影、SOC涂布等新机台销售方面也取得了良好进展,进一步拓展了公司涂胶显影设备的工艺应用场景和市场空间。另,2023年9月,公司广州子公司正式成立,致力于光刻胶泵等核心零部件的研发和产业化。

广信材料:公司一直致力于各类光刻胶、涂料等光固化领域电子化学品的研发、生产和销售,拥有高性能光刻胶、涂料的自主研发能力,为客户开发提质、增效、降本、减排等创造多重价值的可持续解决方案及相关环保型、高性能、特殊功能的新技术新材料产品及服务。公司是国内头部的PCB光刻胶、光伏BC电池绝缘胶、3C消费电子外观结构件涂料制造企业。主要产品包括光刻胶领域的PCB光刻胶、显示光刻胶、光伏胶等光刻胶及配套材料,以及涂料领域的3C消费电子涂料、汽车内外饰涂料、重防腐涂料、PVC地板涂料、功能膜材及金属包装涂料等细分领域专用涂料。

圣泉集团:光刻胶核心材料国产化,突破显示面板用线性酚醛树脂ppb级纯化技术,成功应用于显示面板级光刻胶。半导体级KrF光刻胶树脂实验室制备,关键金属离子含量达到行业同等水平,已在客户端开展实验室验证。

兴业股份:2025年6月,公司异动公告披露,公司的半导体光刻胶用酚醛树脂目前仅处于送样测试阶段,尚未签订供货合同、暂未形成销售收入,目前不会对公司业绩产生影响,后续进展存在不确定性。另,2025年1月,公司拟在江苏省泰兴经济开发区投资建设年产20万吨特种酚醛树脂等项目,其中光刻胶用酚醛树脂产能占比仅为1.35%。

南大光电:光刻胶及配套材料是光刻工艺中的关键材料,主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。公司在光刻胶技术研发方面始终坚持从原材料到产品的完全自主化。控股子公司宁波南大光电的光刻胶研发中心具备了研制功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶材料的能力,能够实现从光刻胶原材料到光刻胶产品及配套材料的自主化。截至2024年12月31日,三款ArF光刻胶产品已在下游客户通过认证并实现销售,多款产品正在主要客户处认证。公司多款产品的客户验证工作取得重要突破,应用场景涵盖90-28纳米技术节点的逻辑和存储芯片。

同益股份:2024年7月24日公司在互动平台披露,公司主要代理销售韩国丙烯酸、光引发剂、光敏剂等产品,产品主要应用于LCD-TFT等中高端市场,上述引进的产品已进入国内生产厂商持续测试中并实现部分销售,但销售收入较少。目前业务正常进行中,公司会持续关注国内外市场环境,根据实际情况和发展规划积极拓展各项业务。

龙头公司介绍(入选板块理由)
行情数据
序号股票代码名称|自选股1|自2|自3|查股数据
1688199久日新材 分时 日线 板块
2601208东材科技 分时 日线 板块
3300655晶瑞电材 分时 日线 板块
4300801泰和科技 分时 日线 板块
5002669康达新材 分时 日线 板块
6688181八亿时空 分时 日线 板块
7300236上海新阳 分时 日线 板块
8603306华懋科技 分时 日线 板块
9300398飞凯材料 分时 日线 板块
10002409雅克科技 分时 日线 板块
11002643万润股份 分时 日线 板块
12300905宝丽迪 分时 日线 板块
13688602康鹏科技 分时 日线 板块
14000422湖北宜化 分时 日线 板块
15688037芯源微 分时 日线 板块
16300537广信材料 分时 日线 板块
17605589圣泉集团 分时 日线 板块
18603928兴业股份 分时 日线 板块
19300346南大光电 分时 日线 板块
20300538同益股份 分时 日线 板块
序号股票代码名称|自选股1|自2|自3|查股数据
行情数据DDE数据资金单数单差数据特大(%)大单(%)小单(%)通吃率(%)主动率(%)
最新价涨幅换手率量比DDXDDYDDZ5日10日连续连增成交量(万元)BBD(万元)单数比买入卖出特大差大单差中单差小单差买入卖出买入卖出买入卖出通吃率1日通吃率5日通吃率10日通吃率20日主动率1日主动率5日主动率10日流通盘(万股)
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最新价涨幅换手率量比DDXDDYDDZ5日10日连续连增成交量(万元)BBD(万元)单数比买入卖出特大差大单差中单差小单差买入卖出买入卖出买入卖出通吃率1日通吃率5日通吃率10日通吃率20日主动率1日主动率5日主动率10日流通盘(万股)
光刻胶概念板块解析(994479) 光刻胶龙头股概念股一览
    (1)光刻胶是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。它是整个光刻工艺的重要部分,也是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一,主要应用在集成电路和平板显示两大产业;    (2)光刻胶具有光化学敏感性,其经过曝光、显影、刻蚀等工艺,可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片;
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