要点一: 所属板块 半导体 辽宁板块 百元股 融资融券 中芯概念 注册制次新股 半导体概念 次新股
要点二: 经营范围 一般项目:技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广,电子专用设备制造,电子专用设备销售,半导体器件专用设备制造,半导体器件专用设备销售,机械零件、零部件加工,机械零件、零部件销售,销售代理,非居住房地产租赁(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)
要点三: 高端半导体专用设备 拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。
要点四: 半导体器件专用设备制造 根据证监会《上市公司行业分类指引》(2012年修订),公司隶属于专用设备制造业(行业代码:C35)。根据《国民经济行业分类》(GB/T4754-2017),公司隶属于专用设备制造业下的半导体器件专用设备制造(行业代码:C3562)。根据国家统计局颁布的《战略性新兴产业分类(2018)》,公司隶属于新一代信息技术产业下的集成电路制造行业。
要点五: 技术积累及研发平台优势 拓荆科技自设立以来,坚持自主创新,形成了一系列独创性的设计,构建了完善的知识产权体系。截至2022年3月8日,拓荆科技累计已获授权的专利174项,其中发明专利共计98项。公司先后承担了“90-65nm等离子体增强化学气相沉积设备研发与应用”和“1xnm3DNANDPECVD研发及产业化”等4项国家重大科技专项/课题,已研发了支持不同工艺型号的PECVD、ALD和SACVD设备,在半导体薄膜沉积设备领域积累了多项研发及产业化的核心技术,构建了具有设备种类、工艺型号外延开发能力的研发平台。
要点六: 行业地位及客户资源 发行人以建立“世界领先的薄膜设备公司”为愿景,通过在薄膜沉积设备这一半导体核心设备细分领域的积累和快速发展,已经成为国内半导体设备行业的领军企业。公司分别于2016、2017、2019年获得中国半导体行业协会颁发的“中国半导体设备五强企业”称号。公司的主要产品PECVD、ALD及SACVD设备已批量发往国内主要集成电路晶圆厂产线。此外,公司积极开拓国际市场机会,公司已与某国际领先晶圆厂建立业务联系,发货两台设备至客户先进制程研发产线,为打开国际市场奠定了基础。
要点七: 客户需求快速响应优势 公司针对客户提出的特定工艺材料、特定制造工序薄膜性能的快速响应能力可以及时满足客户产线的客制化设备需求。这对于中国本土客户近年来能够快速扩充产能极其重要,由此建立和巩固与客户稳定的合作关系。公司主要客户的生产基地位于中国大陆,相较于国际竞争对手,公司最高层管理和技术团队更贴近主要客户,能够提供更快捷、更经济的技术支持,及时保障和满足客户需求。
要点八: 自愿锁定股份 自公司股票上市之日起三十六个月内,不转让或者委托他人管理本次发行前本人直接及间接持有的公司股份,也不由公司回购本人直接及间接持有的该部分股份。
要点九: 股利分配 在满足现金分红条件的基础上,结合公司持续经营和长期发展,公司每年以现金方式分配的利润不少于当年实现的可分配利润的10%,且最近3年以现金方式累计分配的利润不少于最近3年实现的年均可分配利润的30%。
要点十: 稳定股价措施 公司首次公开发行股票并上市后三年内,如公司股票收盘价格连续20个交易日低于最近一期经审计的每股净资产,公司将通过控股股东增持股份、公司全体董事(独立董事除外)和高级管理人员增持公司股票以及公司回购股份等措施来稳定股价。